Arrangements and methods for improving bevel etch repeatability among substrates
Номер патента: SG175789A1
Опубликовано: 29-12-2011
Автор(ы): Andreas Fischer, Fransisco Camargo, Neungho Shin
Принадлежит: Lam Res Corp
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 29-12-2011
Автор(ы): Andreas Fischer, Fransisco Camargo, Neungho Shin
Принадлежит: Lam Res Corp
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Arrangements for improving bevel etch repeatability among substrates
Номер патента: US20110259520A1. Автор: Andreas Fischer,Neungho Shin,Fransisco Camargo. Владелец: Individual. Дата публикации: 2011-10-27.