Aparelho e método de exposição de precursores de relevo
Номер патента: BR112022000946A2
Опубликовано: 22-03-2022
Автор(ы): Frederik DEFOUR, Pieter Lenssens
Принадлежит: Xeikon Prepress NV
Опубликовано: 22-03-2022
Автор(ы): Frederik DEFOUR, Pieter Lenssens
Принадлежит: Xeikon Prepress NV
Реферат: aparelho e método de exposição de precursores de relevo. trata-se de um aparelho para exposição de um precursor de relevo (p) que compreende uma camada de substrato e pelo menos uma camada fotossensível, sendo que o dito aparelho compreende: uma estrutura de sustentação (10) para sustentar um precursor de relevo; uma matriz de led (20) configurada para iluminar uma camada fotossensível do precursor de relevo sustentado pela estrutura de sustentação, em que a dita matriz de led é configurada para iluminar simultaneamente uma área de superfície predeterminada de pelo menos 900 cm2, sendo que a dita matriz de led compreende uma pluralidade de subconjuntos (25) de um ou mais leds (21), sendo cada subconjunto controlável individualmente; uma unidade de controle (40) para controlar a pluralidade de subconjuntos (25) individualmente, e de forma que uma diferença de intensidade de irradiação na área de superfície predeterminada esteja dentro de uma faixa predeterminada.
precursor da placa de impressão litográfica do tipo negativo e método de preparar uma placa de impressão litográfica
Номер патента: BR112018014735A2. Автор: NOZAKI Atsuyasu,YASUHARA Yuichi. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2018-12-11.