Real time polishing process monitoring
Номер патента: TWI290083B
Опубликовано: 21-11-2007
Автор(ы): Ian W Wylie, Jian Zhang
Принадлежит: Cabot Microelectronics Corp
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 21-11-2007
Автор(ы): Ian W Wylie, Jian Zhang
Принадлежит: Cabot Microelectronics Corp
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Real time polishing process monitoring
Номер патента: EP1773541A1. Автор: Jian c/o Legal Department ZHANG,Ian c/o Legal Department WYLIE. Владелец: Cabot Microelectronics Corp. Дата публикации: 2007-04-18.