Methods and systems for filling a gap
Номер патента: US20230096838A1
Опубликовано: 30-03-2023
Автор(ы): Charles DEZELAH, Elina Färm, Jan Willem Maes, Shinya Iwashita
Принадлежит: ASM IP Holding BV
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 30-03-2023
Автор(ы): Charles DEZELAH, Elina Färm, Jan Willem Maes, Shinya Iwashita
Принадлежит: ASM IP Holding BV
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Methods and systems for deposition to gaps using an inhibitor
Номер патента: US20230069459A1. Автор: Varun Sharma,Suvi P. Haukka,Eva E. Tois. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2023-03-02.