Verfahren zur optimierung der abbildungseigenschaften von mindestens zwei optischen elementen sowie photolithographisches fertigungsverfahren
Опубликовано: 22-09-2004
Автор(ы): Alexander Kohl, Birgit Mecking, Toralf Gruner
Принадлежит: CARL ZEISS SMT GMBH
Реферат: Bei einem Verfahren zur Optimierung der Abbildungseigenschaften von mindestens zwei optischen Elementen (9, 10), bei dem die relative Lage der optischen Elemente (9, 10) zur Optimierung der optischen Abbildung zueinander eingestellt wird, werden folgende Verfahrensschritte durchgeführt: Zunächst wird eine polarisationsabhängige Störgrösse für mindestens ein optisches Element (9, 10) bestimmt. Anschliessend wird eine Zielposition mindestens eines beweglichen optischen Elements (9) aus der für dieses bestimmten Störgrösse und den Störgrössen der weiteren optischen Elemente berechnet. In welcher dieser Zielposition ist die Gesamtgrösse aller optischen Elemente (6), zusammengesetzt aus polarisationsabhängigen und polarisationsunabhängigen Störgrössen, minimiert. Schliesslich wird das bewegliche optische Element (9) in die Zielposition bewegt. Die Berücksichtigung der polarisationsabhängigen Störgrösse gewährleistet eine präzise Modellierung der Abbildungseigenschaften, welche die Voraussetzung für eine exakte Optimierung ist.
Verfahren zur fertigung einer optischen anordnung mit mindestens zwei optischen funktionsflächen, optisches gerät und vorrichtung zur durchführung des verfahrens
Номер патента: WO2011029634A2. Автор: Christoph Damm,Thomas Peschel,Stefan Risse,Andreas Gebhardt,Sebastian Scheiding,Ralf Steinkopf. Владелец: Friedrich-Schiller-Universitat Jena. Дата публикации: 2011-03-17.