Substrate deforming device for proximity exposure, and substrate deforming method for proximity exposure using same
Номер патента: US20220050390A1
Опубликовано: 17-02-2022
Автор(ы): Changkyu LEE, Je Hoon Oh
Принадлежит: Industry University Cooperation Foundation IUCF HYU
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 17-02-2022
Автор(ы): Changkyu LEE, Je Hoon Oh
Принадлежит: Industry University Cooperation Foundation IUCF HYU
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Projection optical system and method for photolithography and exposure apparatus and method using same
Номер патента: WO2004019128A2. Автор: Hironori Ikezawa,Yasuhiro Omura,David M. Williamson. Владелец: NIKON CORPORATION. Дата публикации: 2004-03-04.