Treatments to improve etched silicon-and-germanium-containing material surface roughness
Номер патента: US20240282585A1
Опубликовано: 22-08-2024
Автор(ы): Anchuan Wang, Bin Yao, Zihui Li
Принадлежит: Applied Materials Inc
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 22-08-2024
Автор(ы): Anchuan Wang, Bin Yao, Zihui Li
Принадлежит: Applied Materials Inc
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Treatments to improve etched silicon-and-germanium-containing material surface roughness
Номер патента: WO2024177724A1. Автор: Anchuan Wang,Bin Yao,Zihui Li. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-08-29.