Supercritical carbon dioxide/chemical formulation for removal of photoresists
Номер патента: WO2004042472A2
Опубликовано: 21-05-2004
Автор(ы): Chongying Xu, Eliodor G. Ghenciu, Michael B. Korzenski, Thomas H. Baum
Принадлежит: ADVANCED TECHNOLOGY MATERIALS, INC.
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 21-05-2004
Автор(ы): Chongying Xu, Eliodor G. Ghenciu, Michael B. Korzenski, Thomas H. Baum
Принадлежит: ADVANCED TECHNOLOGY MATERIALS, INC.
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Supercritical carbon dioxide/chemical formulation for removal of photoresists
Номер патента: WO2004042472B1. Автор: Thomas H Baum,Michael B Korzenski,Chongying Xu,Eliodor G Ghenciu. Владелец: Advanced Tech Materials. Дата публикации: 2004-09-10.