Enamel for deposition in low-temperature plasma jet
Номер патента: RU2630821C1
Опубликовано: 13-09-2017
Автор(ы): Юлия Алексеевна Щепочкина
Принадлежит: Юлия Алексеевна Щепочкина
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 13-09-2017
Автор(ы): Юлия Алексеевна Щепочкина
Принадлежит: Юлия Алексеевна Щепочкина
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Compound for generating waterproof properties in low-temperature grounds and rocks
Номер патента: RU2344229C2. Автор: Любовь Константиновна Алтунина,Владимир Александрович Кувшинов,Любовь Анатольевна Стасьева,Сергей Николаевич Долгих. Владелец: Институт химии нефти Сибирского отделения Российской академии наук. Дата публикации: 2009-01-20.