METHODS AND APPARATUS FOR SYNTHESIZING COMPOUNDS BY A LOW TEMPERATURE PLASMA DUAL-ELECTRIC FIELD AIDED GAS PHASE REACTION
Номер патента: US20190055655A1
Опубликовано: 21-02-2019
Автор(ы): Xia Yashen
Принадлежит:
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 21-02-2019
Автор(ы): Xia Yashen
Принадлежит:
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Methods and apparatus for synthesizing compounds by a low temperature plasma dual-electric field aided gas phase reaction
Номер патента: US11148116B2. Автор: Yashen Xia. Владелец: HYCHAR ENERGY LLC. Дата публикации: 2021-10-19.