プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法、ならびにコンピュータ読み取り可能な記憶媒体
Номер патента: JP2011049592A
Опубликовано: 10-03-2011
Автор(ы): Akira Koshiishi, Chishio Koshimizu, Daisuke Yano, Hidetoshi Hanaoka, Hiroki Yamazaki, Kazuo Kibi, Kunihiko Hiuga, Manabu Iwata, Manabu Sato, Masaru Sugimoto, Masashi Saito, Naoki Matsumoto, Noriyuki Kobayashi, Ryuji Otani, Toshiyasu Hayami, Yohei Yamazawa, Yoshinobu Oya, 公 輿石, 典之 小林, 利泰 速水, 勝 杉本, 和雄 吉備, 地塩 輿水, 大介 矢野, 学 佐藤, 学 岩田, 広樹 山崎, 昌司 斉藤, 欣伸 大矢, 直樹 松本, 秀敏 花岡, 竜二 大谷, 邦彦 日向, 陽平 山澤
Принадлежит: Tokyo Electron Ltd
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Опубликовано: 10-03-2011
Автор(ы): Akira Koshiishi, Chishio Koshimizu, Daisuke Yano, Hidetoshi Hanaoka, Hiroki Yamazaki, Kazuo Kibi, Kunihiko Hiuga, Manabu Iwata, Manabu Sato, Masaru Sugimoto, Masashi Saito, Naoki Matsumoto, Noriyuki Kobayashi, Ryuji Otani, Toshiyasu Hayami, Yohei Yamazawa, Yoshinobu Oya, 公 輿石, 典之 小林, 利泰 速水, 勝 杉本, 和雄 吉備, 地塩 輿水, 大介 矢野, 学 佐藤, 学 岩田, 広樹 山崎, 昌司 斉藤, 欣伸 大矢, 直樹 松本, 秀敏 花岡, 竜二 大谷, 邦彦 日向, 陽平 山澤
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Plasma etching method and apparatus, control program and computer-readable storage medium storing the control program
Номер патента: US20060289385A1. Автор: Akihiro Kikuchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2006-12-28.