Cu-Ga 합금 스퍼터링 타깃, 동 스퍼터링 타깃용 주조품 및 이들의 제조 방법
Номер патента: KR20140115953A
Опубликовано: 01-10-2014
Автор(ы): 도모야 다무라
Принадлежит: 제이엑스 닛코 닛세키 킨조쿠 가부시키가이샤
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 01-10-2014
Автор(ы): 도모야 다무라
Принадлежит: 제이엑스 닛코 닛세키 킨조쿠 가부시키가이샤
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Method for producing Cu-Ga alloy powder, Cu-Ga alloy powder, method for producing Cu-Ga alloy sputtering target, and Cu-Ga alloy sputtering target
Номер патента: US09435023B2. Автор: Tetsufumi Komukai,Tatsuya Takahashi,Isao Ando,Eriko Sato,Toshio Morimoto,Masanori Takagi,Hirotaka Minami. Владелец: SUMITOMO METAL MINING CO LTD. Дата публикации: 2016-09-06.