Nonvolatile memory device and method of manufacturing the same
Номер патента: US20090258473A1
Опубликовано: 15-10-2009
Автор(ы): Byung-hong Chung, Cha-Won Koh, Hyun Park, Jai-Hyuk Song, Jeong-lim Nam, Sang-gyun Woo, Seok-Hwan Oh, Yool Kang
Принадлежит: Individual
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 15-10-2009
Автор(ы): Byung-hong Chung, Cha-Won Koh, Hyun Park, Jai-Hyuk Song, Jeong-lim Nam, Sang-gyun Woo, Seok-Hwan Oh, Yool Kang
Принадлежит: Individual
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Method of intercalating insulating layer between metal catalyst layer and graphene layer and method of fabricating semiconductor device using the same
Номер патента: US20170170012A1. Автор: Insu Jeon,Jiyeon Ku,Hyowon KIM,Wonhee KO. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2017-06-15.