半導体表面処理用組成物及び半導体表面の処理方法
Номер патента: JP2020107641A
Опубликовано: 09-07-2020
Автор(ы): Keisuke Sato, Kiyonobu Kubota, Kiyotaka Mitsumoto, 佐藤 啓介, 啓介 佐藤, 清信 窪田, 清孝 三ツ元
Принадлежит: JSR Corp
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 09-07-2020
Автор(ы): Keisuke Sato, Kiyonobu Kubota, Kiyotaka Mitsumoto, 佐藤 啓介, 啓介 佐藤, 清信 窪田, 清孝 三ツ元
Принадлежит: JSR Corp
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Surface treatment method for semiconductor substrates and surface treatment agent composition
Номер патента: US20230282473A1. Автор: Yoshiharu Terui,Yuzo Okumura,Soichi Kumon,Saori Shiota,Yuki Fukui. Владелец: Central Glass Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-07.