Method for producing a non-volatile memory cell with a stack gate electrode in a cell-shaped oxidation region
Номер патента: DE19533165C2
Опубликовано: 28-11-2002
Автор(ы): Byung Jin Cho
Принадлежит: Hyundai Electronics Industries Co Ltd
Опубликовано: 28-11-2002
Автор(ы): Byung Jin Cho
Принадлежит: Hyundai Electronics Industries Co Ltd
Non-volatile memory bit cells with non-rectangular floating gates
Номер патента: US20210159234A1. Автор: Eng Huat Toh,Lanxiang Wang,Shyue Seng Tan,Xinshu CAI,Kiok Boone Elgin Quek. Владелец: GLOBALFOUNDRIES SINGAPORE PTE LTD. Дата публикации: 2021-05-27.