• Главная
  • Substrate holding structure and substrate processing device

Substrate holding structure and substrate processing device

Вам могут быть интересны следующие патенты

Рисунок 1. Взаимосвязь патентов (ближайшие 20).

Substrate processing apparatus, operating method thereof, and photo spinner equipment

Номер патента: US20240178011A1. Автор: Ho Jin Jang. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-30.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09589819B1. Автор: Satoshi Takano. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-03-07.

Substrate processing device and substrate processing method for carrying out chemical treatment for substrate

Номер патента: US09786527B2. Автор: Nobuyuki Shibayama. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-10-10.

Substrate processing apparatus and manufacturing method of substrate holding unit

Номер патента: US20180342479A1. Автор: Takashi Terada,Yoshitaka Otsuka,Munehisa Kodama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-11-29.

Substrate processing apparatus and manufacturing method of substrate holding unit

Номер патента: US10833045B2. Автор: Takashi Terada,Yoshitaka Otsuka,Munehisa Kodama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-11-10.

Substrate processing system and substrate processing method

Номер патента: US12128451B2. Автор: Junichi Ishii,Hiroaki Ishii,Kazuhiro Honsho. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-29.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US09768042B2. Автор: Ayumi Higuchi,Asuka WAKITA. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-09-19.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09449807B2. Автор: Toshimitsu Namba. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2016-09-20.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09859136B2. Автор: Yoshifumi Amano,Yoichi Tokunaga,Hiromitsu Namba,. Fitrianto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-01-02.

Substrate processing apparatus and method of processing substrate

Номер патента: US20190091733A1. Автор: Michinori IWAO. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2019-03-28.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20190244835A1. Автор: Nobuaki Okita,Takayuki Nishida. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2019-08-08.

Substrate processing system and substrate processing method

Номер патента: US20220203409A1. Автор: Junichi Ishii,Hiroaki Ishii,Kazuhiro Honsho. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2022-06-30.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and storage medium

Номер патента: US11967509B2. Автор: Osamu Miyahara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-04-23.

Substrate processing apparatus and method of processing substrate

Номер патента: US10882080B2. Автор: Michinori IWAO. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2021-01-05.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US11881419B2. Автор: Masayuki Hayashi,Toru Endo,Nobuyuki Shibayama. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-23.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US10672627B2. Автор: Sadamu Fujii,Taiki HINODE,Nobuyuki Shibayama. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2020-06-02.

Substrate holding apparatus, exposure apparatus, and article manufacturing method

Номер патента: US20190369506A1. Автор: Akihiro Takahashi,Noboru Osaka,Shunya Sakata. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2019-12-05.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20070065760A1. Автор: Yoshitake Ito. Владелец: Individual. Дата публикации: 2007-03-22.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and substrate

Номер патента: US20240162052A1. Автор: Nobuhiko MOURI,Takanori Obaru. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-05-16.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US12054828B2. Автор: Kohei Fukushima. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-06.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09997382B2. Автор: Kenji Kobayashi,Kazuhide Saito,Kenji Izumoto,Akihisa Iwasaki,Takemitsu Miura. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2018-06-12.

Substrate processing device and substrate processing method

Номер патента: US11804387B2. Автор: Hiroaki Ishii,Masaki Iwami,Kazuki Inoue,Daichi YOSHITOMI. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-31.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20230307262A1. Автор: Koichi Higuchi,Konosuke Hayashi. Владелец: Shibaura Mechatronics Corp. Дата публикации: 2023-09-28.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US12057326B2. Автор: Hiroaki Inadomi,Shota Umezaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-06.

Substrate processing apparatus and method of cleaning the same

Номер патента: US20190055647A1. Автор: Kook Tae Kim,Bongjin Kuh,In-Sun Yi,Soojin HONG,Sukjin CHUNG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2019-02-21.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240339339A1. Автор: Hiroaki Inadomi,Shota Umezaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-10.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20180096837A1. Автор: Yi-Cheng Wang. Владелец: Wet Technology Co Ltd. Дата публикации: 2018-04-05.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and storage medium

Номер патента: US20190153602A1. Автор: Shinichiro Misaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-05-23.

Substrate processing apparatus and method of substrate processing

Номер патента: US20230307261A1. Автор: Kenji Masui,Masatoshi Terayama. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2023-09-28.

Substrate processing method and substrate processing device

Номер патента: US20240096652A1. Автор: Kaori Umezawa,Kosuke TAKAI,Mana TANABE. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2024-03-21.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20090178762A1. Автор: Hironobu Shimizu,Nobuo Ishimaru. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2009-07-16.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09768039B2. Автор: Yuki Yoshida,Satoru Tanaka,Kazuyoshi Shinohara,Hidetoshi Nakao,Norihiro Ito,Meitoku Aibara,Kazuhiro Aiura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-09-19.

Substrate processing system

Номер патента: US20160148827A1. Автор: Satoshi BIWA,Jiro Higashijima,Norihiro Ito,Terufumi Wakiyama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-05-26.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20090178619A1. Автор: Hironobu Shimizu,Nobuo Ishimaru. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2009-07-16.

Substrate holding and rotation mechanism and substrate processing apparatus

Номер патента: US11837482B2. Автор: Shuichi SUEMASA. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2023-12-05.

Substrate holding method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20160284585A1. Автор: Hiroshi Kato,Kazutaka Kobayashi. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2016-09-29.

Substrate holding device

Номер патента: US20190067073A1. Автор: Liwei Guan. Владелец: Ordos Yuansheng Optoelectronics Co Ltd. Дата публикации: 2019-02-28.

Substrate holding hand and substrate conveying robot

Номер патента: US20230311342A1. Автор: Ippei Shimizu. Владелец: Kawasaki Jukogyo KK. Дата публикации: 2023-10-05.

Substrate holding hand and substrate conveying robot

Номер патента: US20230311334A1. Автор: Ippei Shimizu. Владелец: Kawasaki Jukogyo KK. Дата публикации: 2023-10-05.

Substrate holding hand and substrate conveying apparatus

Номер патента: US11837485B2. Автор: Tetsuya Yoshida,Shinya Kinoshita,Takayuki Fukushima,Ryosuke Kanamaru. Владелец: Kawasaki Jukogyo KK. Дата публикации: 2023-12-05.

Substrate holding hand and substrate conveying robot

Номер патента: US20230317503A1. Автор: Ippei Shimizu. Владелец: Kawasaki Jukogyo KK. Дата публикации: 2023-10-05.

Substrate holding hand and substrate conveying robot

Номер патента: US20230311339A1. Автор: Ippei Shimizu. Владелец: Kawasaki Jukogyo KK. Дата публикации: 2023-10-05.

End effector and substrate conveying robot

Номер патента: US20160322247A1. Автор: Takayuki Fukushima,Daiki MIYAGAWA. Владелец: Kawasaki Jukogyo KK. Дата публикации: 2016-11-03.

End effector and substrate conveying robot

Номер патента: US10297482B2. Автор: Takayuki Fukushima,Daiki MIYAGAWA. Владелец: Kawasaki Jukogyo KK. Дата публикации: 2019-05-21.

Substrate holding hand and substrate conveying robot

Номер патента: US20240025052A1. Автор: Ippei Shimizu. Владелец: Kawasaki Jukogyo KK. Дата публикации: 2024-01-25.

Substrate holding apparatus

Номер патента: US20230234791A1. Автор: Shinya Kinoshita. Владелец: Kawasaki Jukogyo KK. Дата публикации: 2023-07-27.

Substrate holding hand and substrate conveying robot

Номер патента: US20240025054A1. Автор: Ippei Shimizu,Ryunosuke TAKAUJI. Владелец: Kawasaki Jukogyo KK. Дата публикации: 2024-01-25.

Substrate processing device

Номер патента: US20240312803A1. Автор: Shusaku Matsumoto,Koichiro Kawano,Shiguma KATO,Tomoya Iwasaki. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2024-09-19.

Substrate holding member

Номер патента: US20240128117A1. Автор: Hiroyuki Nakamura,Kazuaki OOYACHI. Владелец: Niterra Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-18.

Substrate processing module and substrate processing device equipped with same

Номер патента: EP4459663A1. Автор: Yasunori DEGUCHI. Владелец: Daikin Finetech Ltd. Дата публикации: 2024-11-06.

Substrate processing device

Номер патента: US20220020616A1. Автор: Masaki Inaba. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2022-01-20.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240234173A1. Автор: Hiroki Koyama. Владелец: Shibaura Mechatronics Corp. Дата публикации: 2024-07-11.

Substrate processing system

Номер патента: US20240258147A1. Автор: Shinichi Taniguchi,Akihiro Iwasaki,Tsuyoshi Tomita,Kenji Amahisa. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-01.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240203702A1. Автор: Seungpil Chung,Sungik Park,Yongsu Jang,Jungyoon Yang,Inseong Lim. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-20.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20230084826A1. Автор: Jung Hwan Lee,Young Jun Kim,Sung Ho ROH,Cheong Hwan Jeong,Tae Dong Kim. Владелец: Wonik Ips Co Ltd. Дата публикации: 2023-03-16.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20230207376A1. Автор: Kiyoshi Mori,Haruhiko Furuya. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-06-29.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20180019145A1. Автор: Eiichi Sugawara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-01-18.

Cooled pin lifter paddle for semiconductor substrate processing apparatus

Номер патента: US09859145B2. Автор: Andreas Fischer,Dean Larson. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2018-01-02.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and recording medium

Номер патента: US09852933B2. Автор: Norihiro Ito. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-12-26.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09799542B2. Автор: Eiichi Sugawara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-10-24.

Substrate processing device

Номер патента: US20230369029A1. Автор: Yunsang Kim,Hyoungkyu Son,Inhoe KIM,Donguk Kim,Jaewoong Sim. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-16.

Substrate processing apparatus

Номер патента: EP4333036A1. Автор: Jun Komori. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-06.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240079251A1. Автор: Jun Komori. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-07.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20200411296A1. Автор: Jeong Seok Kang. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2020-12-31.

Substrate processing method and substrate processing device

Номер патента: US11764055B2. Автор: Nobuyuki Shibayama,Hiromichi KABA,Toru EDO. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-19.

Substrate processing system

Номер патента: US20200126831A1. Автор: Ting-Yu Wu,Chuan-Chang Feng,Mao-Lin Liu. Владелец: Scientech Corp. Дата публикации: 2020-04-23.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240157408A1. Автор: Jiro Higashijima,Yusuke Hashimoto,Daisuke Goto,Nobuhiro Ogata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-05-16.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US09929008B2. Автор: Yu Sasaki,Kosuke Takahashi,Masahiko Kaminishi,Yu WAMURA,Fumiaki Hayase. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-03-27.

Substrate processing system

Номер патента: US11101157B2. Автор: Ting-Yu Wu,Chuan-Chang Feng,Mao-Lin Liu. Владелец: Scientech Corp. Дата публикации: 2021-08-24.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09555437B2. Автор: Hitoshi Nakai,Yasuhiko Ohashi. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-01-31.

Substrate holding apparatus and substrate processing apparatus

Номер патента: US11961757B2. Автор: Ryo Muramoto. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-16.

Substrate holding method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240258082A1. Автор: Shinsuke Oka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-01.

Substrate processing method and substrate processing device

Номер патента: US10886133B2. Автор: Daisuke Shimizu,Masayuki Otsuji,Shota IWAHATA. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2021-01-05.

Substrate processing system and substrate processing method

Номер патента: US11854840B2. Автор: Yuji Takimoto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-12-26.

Substrate processing apparatus and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20230063662A1. Автор: Makoto Aida. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2023-03-02.

Substrate processing apparatus and substrate processing apparatus control method

Номер патента: US20230411189A1. Автор: Tetsuya Shibata. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-21.

Substrate holding apparatus and substrate processing apparatus

Номер патента: US20190287842A1. Автор: Osamu Yasunobe. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2019-09-19.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20190295862A1. Автор: Masayuki Hayashi,Toru Endo,Nobuyuki Shibayama. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2019-09-26.

Substrate holding device, lithography apparatus, and article production method

Номер патента: US20160170313A1. Автор: Naoki Funabashi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2016-06-16.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20230352328A1. Автор: Takashi Uno,Yoshinori Ikeda,Shigeru Moriyama,Ryo Yamamoto,Shota Umezaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-11-02.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US11742232B2. Автор: Takashi Uno,Yoshinori Ikeda,Shigeru Moriyama,Ryo Yamamoto,Shota Umezaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-08-29.

Bonding method, substrate bonding device, and substrate bonding system

Номер патента: US20240304594A1. Автор: Akira Yamauchi. Владелец: BONDTECH CO Ltd. Дата публикации: 2024-09-12.

Substrate holding device, lithography apparatus, and article production method

Номер патента: US10431463B2. Автор: Naoki Funabashi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2019-10-01.

Glass substrate-holding tool

Номер патента: US8192901B2. Автор: Junichi Kageyama. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2012-06-05.

Substrate holding device

Номер патента: US11776839B2. Автор: Masatoshi Onoda,Ippei Nishimura. Владелец: Nissin Ion Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-03.

Substrate holding system including an electrostatic chuck

Номер патента: US6048434A. Автор: Kazue Takahashi,Tsunehiko Tsubone,Naoyuki Tamura,Yoshifumi Ogawa,Hiroyuki Shichida,Youichi Ito. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2000-04-11.

Sample separating apparatus and method, and substrate manufacturing method

Номер патента: US20020134504A1. Автор: Kazuaki Omi,Takao Yonehara,Kiyofumi Sakaguchi,Kazutaka Yanagita. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-09-26.

Sample separating apparatus and method, and substrate manufacturing method

Номер патента: AU9819098A. Автор: Kazuaki Omi,Takao Yonehara,Kiyofumi Sakaguchi,Kazutaka Yanagita. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1999-08-26.

Bonding method, substrate bonding device, and substrate bonding system

Номер патента: EP4299230A1. Автор: Akira Yamauchi. Владелец: BONDTECH CO Ltd. Дата публикации: 2024-01-03.

Substrate holding device, semiconductor manufacturing apparatus and device manufacturing method

Номер патента: EP1843382A3. Автор: Shin Matsui. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2008-01-02.

Substrate holding apparatus

Номер патента: US20180082880A1. Автор: Nobuhiro Komine. Владелец: Toshiba Memory Corp. Дата публикации: 2018-03-22.

Substrate processing device and substrate processing method

Номер патента: EP4415033A1. Автор: Kazuki Nakamura,Yoshifumi Okada,Nobuaki Okita. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-14.

Substrate transfer robot and method of detecting optical-axis deviation of substrate hold hand

Номер патента: US11858147B2. Автор: Masaya Yoshida,Hiroyuki Okada. Владелец: Kawasaki Jukogyo KK. Дата публикации: 2024-01-02.

Substrate processing device and substrate processing method

Номер патента: EP4404242A1. Автор: Masayuki Nakanishi,Masayuki Satake,Yuta Mitsuki. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-07-24.

Substrate processing device and dielectric plate alignment method

Номер патента: EP4394850A1. Автор: Ju-Young Park,Kwang-Sung YOO. Владелец: PSK Inc. Дата публикации: 2024-07-03.

Substrate processing device and etching liquid

Номер патента: US20220213382A1. Автор: Koji Kagawa,Kenji Sekiguchi,Koukichi Hiroshiro,Tetsuya SAKAZAKI,Kazuyoshi Mizumoto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-07-07.

Substrate processing device and method of manufacturing substrate processing device

Номер патента: US20210287916A1. Автор: Satoshi Takeda,Manabu NAKAGAWASAI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-09-16.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20200083064A1. Автор: Nobuhiko MOURI,Kento Kurusu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-03-12.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US11482428B2. Автор: Nobuhiko MOURI,Kento Kurusu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-10-25.

Substrate processing apparatus and process control method thereof

Номер патента: US20230163003A1. Автор: Young Hwan YANG. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2023-05-25.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US12094694B2. Автор: Sumi Tanaka,Tamihiro Kobayashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-17.

Substrate processing device and substrate processing method

Номер патента: US20240207900A1. Автор: Kazuki Nakamura,Yoshifumi Okada,Nobuaki Okita. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-27.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20200105574A1. Автор: Satoshi Morita,Katsuhiro Morikawa,Masami Akimoto,Kouichi Mizunaga. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-04-02.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US11742223B2. Автор: Yuji Kimura,Yoshihiro Kai. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-08-29.

Substrate processing system

Номер патента: EP4407665A2. Автор: Shinichi Taniguchi,Akihiro Iwasaki,Tsuyoshi Tomita,Kenji Amahisa. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-31.

Control method of substrate processing apparatus and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240153748A1. Автор: Morihito Inagaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-05-09.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240274451A1. Автор: Masanobu Sato,Hiroshi Horiguchi,Saki Miyagawa. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-15.

Substrate processing apparatus

Номер патента: EP4420831A1. Автор: Kenichi Kobayashi,Makoto Kashiwagi,Mao Fujisawa. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-08-28.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09576808B2. Автор: Kenichiro Arai,Masahiro Miyagi,Toru Endo,Hirofumi MASUHARA. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-02-21.

Substrate processing system

Номер патента: EP4407665A3. Автор: Shinichi Taniguchi,Akihiro Iwasaki,Tsuyoshi Tomita,Kenji Amahisa. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-11-06.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240234100A9. Автор: Je Ho Kim,Tae Suk Jung. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-11.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240128111A1. Автор: Tae Yong Kim,Byungin AN. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-18.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and storage medium

Номер патента: US10867817B2. Автор: Yuichi Yoshida,Yuzo Ohishi,Takaya Kikai. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-12-15.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240213077A1. Автор: Woojin Chung,Kyungmo Kim,Jeongcheol LEE,Jungheum NAM,Myunggeun MIN. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-27.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and storage medium

Номер патента: US20180218929A1. Автор: Yuichi Yoshida,Yuzo Ohishi,Takaya Kikai. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-08-02.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and storage medium

Номер патента: US20200168487A1. Автор: Yuichi Yoshida,Yuzo Ohishi,Takaya Kikai. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-05-28.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and storage medium

Номер патента: US10615062B2. Автор: Yuichi Yoshida,Yuzo Ohishi,Takaya Kikai. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-04-07.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240249956A1. Автор: Yohei Midorikawa,Ryo Kuwajima,Yohei NAKAGOMI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-25.

Substrate processing apparatus and method of cleaning substrate processing apparatus

Номер патента: US12046485B2. Автор: Shusei TAKEBAYASHI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-23.

Upper electrode unit and substrate processing apparatus including the same

Номер патента: US20240297023A1. Автор: Jong Chan Lee,Kwang Sung Yoo,Seong Min Nam. Владелец: PSK Inc. Дата публикации: 2024-09-05.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20190057890A1. Автор: Yoshitomo Sato. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-02-21.

Substrate processing method

Номер патента: US20240250064A1. Автор: Yoshihisa Matsubara,Yoshihiro Tsutsumi,Yohei Yamashita. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-25.

Upper electrode unit and substrate processing apparatus comprising same

Номер патента: EP4428897A1. Автор: Jong Chan Lee,Kwang Sung Yoo,Seong Min Nam. Владелец: PSK Inc. Дата публикации: 2024-09-11.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09964358B2. Автор: Takashi Miyamoto,Osamu Yamazaki,Konosuke Hayashi,Jun Matsushita. Владелец: Shibaura Mechatronics Corp. Дата публикации: 2018-05-08.

Method of processing substrate and substrate processing apparatus

Номер патента: US09530657B2. Автор: Masahiro Ogasawara,Rui Takahashi,Masafumi Urakawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-12-27.

Substrate processing method, substrate processing device, and processing fluid

Номер патента: US20230268172A1. Автор: kana Tahara,Yukifumi Yoshida. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2023-08-24.

Semiconductor processing device equipped with process chamber

Номер патента: US20180294173A1. Автор: Kee Won Suh. Владелец: ALLIED TECHFINDERS CO Ltd. Дата публикации: 2018-10-11.

Substrate processing apparatus and method

Номер патента: US20240213059A1. Автор: Gyeong Won SONG,Hee Man AHN,Sung Hun Eom,Jae Seung YU. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-27.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20150303077A1. Автор: Masatoshi Kaneda,Ryo Shimada,Kazuki NAGAMOTO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2015-10-22.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240240321A1. Автор: Jin An JUNG,Da Un Jung,In Woo BACK. Владелец: Jusung Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-18.

Substrate processing apparatus and plasma processing apparatus

Номер патента: US20220068658A1. Автор: Yasutaka HAMA,Shu Kino,Motoki NORO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-03-03.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20170278729A1. Автор: Takashi Ootagaki,Konosuke Hayashi. Владелец: Shibaura Mechatronics Corp. Дата публикации: 2017-09-28.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20200135505A1. Автор: Takashi Ootagaki,Konosuke Hayashi. Владелец: Shibaura Mechatronics Corp. Дата публикации: 2020-04-30.

Substrate processing apparatus, and substrate processing method

Номер патента: US20200126822A1. Автор: Hitoshi Nakai,Manabu Okutani,Yasunori KANEMATSU. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2020-04-23.

Systems and methods for monitoring of a controlled environment in a substrate processing system

Номер патента: US20240304477A1. Автор: Bert Jongbloed,Gido Van Der Star. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-09-12.

Substrate processing apparatus and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20240312800A1. Автор: Hakuba KITAGAWA. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2024-09-19.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240321624A1. Автор: Kenichiro Saito,Satoshi Ushida. Владелец: Daikin Finetech Ltd. Дата публикации: 2024-09-26.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240355669A1. Автор: Yasutaka Mizomoto,Yohei Yamashita. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-24.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: EP4456119A1. Автор: Ju Young Park,So Jin Jeong,Seong Min Nam,Da In Kim. Владелец: PSK Inc. Дата публикации: 2024-10-30.

Substrate processing system and particle removal method

Номер патента: US12062557B2. Автор: Tatsuya Morioka,Daisuke Hara,Akihiro Matsui,Hideyuki Osada,Genichi Nanasaki,Hikaru Nihei. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-13.

Substrate processing apparatus, processing apparatus, and method for manufacturing device

Номер патента: US09651868B2. Автор: Masaki Kato,Tohru Kiuchi. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2017-05-16.

Substrate processing apparatus and substrate conveying apparatus for use in the same

Номер патента: US09624046B2. Автор: Ichiro Mitsuyoshi,Ryo Muramoto. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-04-18.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20230395390A1. Автор: Yoshihide Kihara,Maju TOMURA,Satoshi Ohuchida. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-12-07.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20230207344A1. Автор: Seiji Nakano,Tokutarou Hayashi,Yohei Yamawaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-06-29.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device and substrate support

Номер патента: US20230304149A1. Автор: Kenichi Suzaki,Yuma IKEDA. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2023-09-28.

Tools and methods for mounting transport rails in a substrate processing system

Номер патента: US20090279990A1. Автор: Stuart Scollay. Владелец: Intevac Inc. Дата публикации: 2009-11-12.

Substrate holding mechanism, manufacturing method thereof, and substrate processing apparatus

Номер патента: JP4219927B2. Автор: 俊久 野沢. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2009-02-04.

SUBSTRATE HOLDING DEVICE, SEMICONDUCTOR FABRICATION DEVICE, AND SUBSTRATE CLAMPING ASCERTAINMENT METHOD

Номер патента: US20150162232A1. Автор: ZHAO Weijiang,TOBIKAWA Kazuki. Владелец: . Дата публикации: 2015-06-11.

The keeping method of substrate holding mechanism, film formation device and substrate

Номер патента: CN107429386B. Автор: 金子俊则,大野哲宏,江上明史. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2019-09-27.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device and program

Номер патента: US9153430B2. Автор: Jie Wang,Takaaki Noda. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2015-10-06.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20230311170A1. Автор: Toru Hirata,Yoshinori Ikeda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-10-05.

Substrate processing apparatus, substrate detection method of substrate processing apparatus and storage medium

Номер патента: US09691646B2. Автор: Kohei Mori,Kento Kurusu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-06-27.

Substrate processing method

Номер патента: US09956594B2. Автор: Atsuyasu Miura,Naoki Sawazaki. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2018-05-01.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US11915947B2. Автор: Koji Yamashita,Takumi Honda,Hironobu Hyakutake,Shinji Tahara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-02-27.

Substrate treatment device and substrate treatment method

Номер патента: US20130025636A1. Автор: Nobuo Kobayashi,Yuji Nagashima,Yoshiaki Kurokawa,Koichi Hamada. Владелец: Individual. Дата публикации: 2013-01-31.

Substrate holding chuck

Номер патента: WO2019186578A1. Автор: Rajasekhar VEMURU VENKATA,Aakaash VAIDYANATHAN. Владелец: Navson Technologies Private Limited. Дата публикации: 2019-10-03.

Substrate processing device and substrate processing method

Номер патента: US20240116087A1. Автор: Kenji Kawaguchi,Toru Endo,Kota TANIKAWA. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-11.

Substrate processing device and substrate processing method

Номер патента: US11883858B2. Автор: Kenji Kawaguchi,Toru Endo,Kota TANIKAWA. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-30.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240100573A1. Автор: Manabu Yamamoto,Takashi Izuta,Mitsutoshi Sasaki. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-28.

Substrate holding member

Номер патента: US20180374739A1. Автор: Takashi Teshima,Norio Onodera. Владелец: NGK Spark Plug Co Ltd. Дата публикации: 2018-12-27.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20090229518A1. Автор: Kazuyoshi Yamamoto,TOKUNOBU Akao. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2009-09-17.

Substrate holding member and semiconductor manufacturing device

Номер патента: US20200161167A1. Автор: Tetsuya Inoue,Masao Yoshida. Владелец: Kyocera Corp. Дата публикации: 2020-05-21.

Information processing device and information processing method

Номер патента: US20240242960A1. Автор: Mitsunori Sugiyama. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-07-18.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20150243536A1. Автор: Yoshifumi Okada. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2015-08-27.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US10186418B2. Автор: Yoshifumi Okada. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2019-01-22.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09449857B2. Автор: Hiroaki Inadomi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-09-20.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20110065288A1. Автор: Toru Harada,Masayoshi Minami. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2011-03-17.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20190103291A1. Автор: Tooru Nakamura,Kouji Kimoto,Hiroaki Inadomi,Yoshihisa Aoyama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-04-04.

Substrate processing apparatus, substrate processing method and computer-readable medium storing program

Номер патента: US09859109B2. Автор: Hideaki Sato. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-01-02.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US12033864B2. Автор: Hiromi Miyashita,Rei Shoji. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-09.

Substrate processing apparatus and apparatus cleaning method

Номер патента: US12087599B2. Автор: Osamu Kuroda,Hidemasa ARATAKE,Kouzou Kanagawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-10.

Substrate processing method

Номер патента: US20110200949A1. Автор: Hiroshi Nakamura,Tadatoshi Tomita,Takafumi Niwa,Yuhei Kuwahara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2011-08-18.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US12087598B2. Автор: Takashi Tsukamoto,Akinori Tanaka,Sadayoshi Horii,Daisuke Hara,Masahisa OKUNO,Toru Kakuda,Hideto TATENO,Takuya Joda. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-09-10.

Substrate processing method

Номер патента: US8367308B2. Автор: Hiroshi Nakamura,Tadatoshi Tomita,Takafumi Niwa,Yuhei Kuwahara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2013-02-05.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09640382B2. Автор: Kenichiro Arai,Masahiro Miyagi,Toru Endo,Hirofumi MASUHARA. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-05-02.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240194502A1. Автор: Gentaro Goshi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-13.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US10186422B2. Автор: Keiji Osada,Daisuke Morisawa,Naohide Ito. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-01-22.

Substrate processing apparatus, substrate processing method and storage medium

Номер патента: US09978619B2. Автор: Naoki Tajima,Koji Motoi,Terutaka YAMAOKA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-05-22.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09972515B2. Автор: Kenichiro Arai,Masahiro Miyagi. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2018-05-15.

Substrate processing apparatus and methods

Номер патента: US09972511B2. Автор: Takashi KURATOMI,Brent Biggs. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-05-15.

Substrate processing apparatus and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US09970112B2. Автор: Kenichi Suzaki,Yasunobu Koshi,Akihito Yoshino. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2018-05-15.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09933702B2. Автор: Jiro Higashijima,Nobuhiro Ogata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-04-03.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09875920B1. Автор: Yasuhiro Mizuguchi. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2018-01-23.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20180185885A1. Автор: Akio Hashizume,Junichi Ishii,Takayuki Nishida. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2018-07-05.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240213043A1. Автор: Euisang Lim. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-27.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US12044973B2. Автор: Hiroki Sakurai. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-23.

Substrate processing system

Номер патента: US20240191351A1. Автор: Dieter Pierreux. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-06-13.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20220334491A1. Автор: Hiroki Sakurai. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-10-20.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device and program

Номер патента: EP4060077A2. Автор: Taketoshi Sato,Makoto Sambu,Hideharu Itatani. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2022-09-21.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US12020936B2. Автор: Takeshi Tamura,Hirotoshi Mori. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-25.

Substrate treating apparatus and substrate treating method

Номер патента: US20180182646A1. Автор: Yuta Sasaki,Yosuke Hanawa. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2018-06-28.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20160010210A1. Автор: Hidehiro Yanai. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2016-01-14.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20160059274A1. Автор: Katsuhiko Miya,Naozumi Fujiwara. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2016-03-03.

Substrate processing system with vertical arrangement structure

Номер патента: US20230260806A1. Автор: Hyung Chul Kim,Dong Hwa Lee,You Sun JUNG. Владелец: KCTech Co Ltd. Дата публикации: 2023-08-17.

Substrate processing method

Номер патента: US20070004057A1. Автор: Toshio Kaneko,Toru Nishiwaki. Владелец: Individual. Дата публикации: 2007-01-04.

Substrate processing apparatus and substrate holding apparatus

Номер патента: US20190318954A1. Автор: Tetsuji Togawa,Kenichi Kobayashi. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2019-10-17.

Substrate treatment method and substrate treatment apparatus

Номер патента: US09786522B2. Автор: Kenji Kobayashi,Manabu Okutani. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-10-10.

Substrate holding apparatus and method

Номер патента: US09519228B2. Автор: Sung Hune Yoo. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2016-12-13.

Substrate holding apparatus and substrate processing apparatus

Номер патента: EP3753674A1. Автор: Makoto Kashiwagi. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2020-12-23.

Substrate holding apparatus and substrate processing apparatus

Номер патента: US20200402835A1. Автор: Makoto Kashiwagi. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2020-12-24.

Substrate holding device, exposure apparatus, and device manufacturing method

Номер патента: US09921490B2. Автор: Yuichi Shibazaki. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2018-03-20.

Elastic membrane and substrate holding apparatus

Номер патента: US09884401B2. Автор: Hozumi Yasuda,Osamu Nabeya,Makoto Fukushima,Shingo Togashi. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2018-02-06.

Substrate holding device

Номер патента: US20210292106A1. Автор: Kazuhiko Irisawa. Владелец: Nissin Electric Co Ltd. Дата публикации: 2021-09-23.

Substrate holding board, manufacturing method of device, and exposure device

Номер патента: US20230125632A1. Автор: Keiji Hirabayashi,Shinji Fukui,Hideo Akiba,Toshinao Tatsuno. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2023-04-27.

Substrate holding device and substrate treating apparatus provided therewith

Номер патента: US20240253180A1. Автор: Wataru Yano,Takashi Shinohara,Ryota Sato,Junta MIYAMOTO. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-01.

Substrate holding device and substrate treating apparatus provided therewith

Номер патента: EP4407667A1. Автор: Wataru Yano,Takashi Shinohara,Ryota Sato,Junta MIYAMOTO. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-31.

Substrate holding system and lithographic apparatus

Номер патента: WO2024008359A1. Автор: Dennis Dominic VAN DER VOORT,Diego MILLO. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2024-01-11.

Vacuum processing apparatus and substrate transfer method

Номер патента: US11688619B2. Автор: Shinji Wakabayashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-06-27.

Substrate holding technique

Номер патента: US7508646B2. Автор: Atsushi Ito,Keiji Emoto. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2009-03-24.

Accommodating apparatus and substrate processing system

Номер патента: US6268900B1. Автор: Haruo Iwatsu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2001-07-31.

Substrate holding member

Номер патента: US20240139913A1. Автор: Hiroyuki Nakamura,Kazuaki OOYACHI. Владелец: Niterra Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-02.

Processing system, processing method, measurement apparatus, substrate processing apparatus and article manufacturing method

Номер патента: US12140878B2. Автор: Shinichi Egashira. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-11-12.

Substrate cleaning device and substrate processing device

Номер патента: US20220402003A1. Автор: Mitsuru Miyazaki,Hisajiro NAKANO,Yohei Eto. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2022-12-22.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09808836B2. Автор: Kenya Ito,Tetsuji Togawa,Keisuke Uchiyama,Yu Ishii. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2017-11-07.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09566616B2. Автор: Kenya Ito,Tetsuji Togawa,Keisuke Uchiyama,Yu Ishii. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2017-02-14.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20220152780A1. Автор: Junichi Kitano,Yuichi Douki,Kouzou Kanagawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-05-19.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240274450A1. Автор: Masanobu Sato,Hiroshi Horiguchi,Saki Miyagawa. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-15.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09816183B2. Автор: HIROSHI Ashihara,Motoshi Sawada. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-11-14.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09490151B2. Автор: Hiroyuki Takahashi,Satoshi TODA,Yuji Asakawa,Yohei Midorikawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-11-08.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20200411336A1. Автор: Masanobu Sato,Masayuki ORISAKA,Noritake SUMI,Daiki UEHARA. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2020-12-31.

Substrate processing apparatus, alignment device, substrate processing method and alignment method

Номер патента: US20190049865A1. Автор: Joji KUWAHARA. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2019-02-14.

Substrate processing module and method of moving a workpiece

Номер патента: US20240258136A1. Автор: Thomas Brezoczky,Kirankumar Neelasandra Savandaiah,Srinivasa Rao Yedla. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-08-01.

Substrate processing module and method of moving a workpiece

Номер патента: US12080571B2. Автор: Thomas Brezoczky,Kirankumar Neelasandra Savandaiah,Srinivasa Rao Yedla. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-09-03.

Gas injection apparatus and substrate processing apparatus using same

Номер патента: US09732424B2. Автор: Jung-Hwan Lee,Woo-young Park,Tae-Ho Hahm. Владелец: Wonik Ips Co Ltd. Дата публикации: 2017-08-15.

Substrate processing apparatus and method of detecting indentation formed in substrate

Номер патента: SG10201806154TA. Автор: Takahashi Nobuyuki,Wen Zhongxin,Sakugawa Suguru. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2019-02-27.

Substrate processing apparatus, information processing apparatus, and substrate processing method

Номер патента: US20210020487A1. Автор: Yuichi Takenaga,Youngtai KANG. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-01-21.

Electrostatic chuck, vacuum processing apparatus, and substrate processing method

Номер патента: US12014946B2. Автор: Genji Sakata,Hidekazu Yokoo. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2024-06-18.

Package substrate processing method and protective tape

Номер патента: US20190109094A1. Автор: Youngsuk Kim,Byeongdeck Jang. Владелец: Disco Corp. Дата публикации: 2019-04-11.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240269862A1. Автор: Takayuki Hatanaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-15.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20230253221A1. Автор: Kaoru Sato,Hiromi Nitadori,Kiyohiko Gokon,Masato Kadobe. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-08-10.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20230253230A1. Автор: Kaoru Sato,Hiromi Nitadori,Kiyohiko Gokon,Masato Kadobe. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-08-10.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20090192652A1. Автор: Tomoyuki Yamada. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2009-07-30.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09818630B2. Автор: Akira Takahashi,Kazuyuki Toyoda. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-11-14.

Substrate processing apparatus and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US09530677B2. Автор: Akinori Tanaka,Daisuke Hara,Takatomo Yamaguchi. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2016-12-27.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09687887B2. Автор: Atsuyasu Miura. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-06-27.

Substrate processing apparatus, substrate processing method and storage medium

Номер патента: US09308559B2. Автор: Yoshifumi Amano. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-04-12.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09818626B2. Автор: Yoshifumi Amano,Yuki Ito,Jiro Higashijima,Eiichiro Okamoto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-11-14.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20230101475A1. Автор: Hiroki Tajiri,Masayuki ORISAKA,Takashi Izuta. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2023-03-30.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09793142B2. Автор: Yoshifumi Amano,Yuki Ito,Jiro Higashijima,Eiichiro Okamoto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-10-17.

Substrate processing system

Номер патента: US20110000428A1. Автор: Akihiko Sato,Tsutomu Sahoda,Futoshi Shimai. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2011-01-06.

Substrate Treating Apparatus And Substrate Treating Method

Номер патента: US20130199578A1. Автор: Hiroyuki Araki,Kentaro Tokuri. Владелец: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd. Дата публикации: 2013-08-08.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09721814B2. Автор: Masanobu Sato,Hiroyuki Yashiki. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-08-01.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20230307264A1. Автор: Kunio Yamada,Masayuki Hayashi,Takashi Ota,Jiro Okuda,Tomoaki Aihara. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-28.

Substrate processing apparatus, substrate processing system, and substrate processing method

Номер патента: US20240162061A1. Автор: Yoshihiro Kawaguchi,Yohei Yamashita. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-05-16.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US12046499B2. Автор: Kevin M. Bourbeau,Christopher BUSSIERE,Emilien Joseph Claude AUDERBRAND,Joseph M. HALLISEY. Владелец: Brooks Automation US LLC. Дата публикации: 2024-07-23.

Substrate treatment method and substrate treatment apparatus

Номер патента: US09431277B2. Автор: Takashi Ota,Kazuhide Saito,Taiki HINODE. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2016-08-30.

Information processing device, inference device, and machine learning device

Номер патента: US20240338017A1. Автор: Takamasa Nakamura,Hirofumi OTAKI,Ching Wei Huang. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-10-10.

Information processing device, inference device, and machine learning device

Номер патента: US20240363449A1. Автор: Takamasa Nakamura,Hirofumi OTAKI,Ching Wei Huang,Sho ICHINOSE. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-10-31.

Substrate processing apparatus

Номер патента: EP4100995A1. Автор: Kevin M. Bourbeau,Christopher BUSSIERE,Emilien Joseph Claude AUDERBRAND,Joseph M. HALLISEY. Владелец: Brooks Automation US LLC. Дата публикации: 2022-12-14.

Substrate processing device and substrate transfer method

Номер патента: US09929030B2. Автор: Shinji Wakabayashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-03-27.

Substrate processing apparatus and maintenance method thereof

Номер патента: US09613837B2. Автор: Ken Horiuchi,Koji Ando,Shigeru Senzaki,Michishige Saito,Shingo Koiwa,Daiki Satoh. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-04-04.

Substrate processing device and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20180082869A1. Автор: Katsuhiro Sato,Hiroaki Yamada,Yuya Akeboshi,Shinsuke MURAKI. Владелец: Toshiba Memory Corp. Дата публикации: 2018-03-22.

Substrate processing device comprising door unit having inclined surface

Номер патента: US11701693B2. Автор: Hyung Chul Kim,Dong Hwa Lee,You Sun JUNG. Владелец: KCTech Co Ltd. Дата публикации: 2023-07-18.

Substrate processing device comprising door unit having inclined surface

Номер патента: US20230001462A1. Автор: Hyung Chul Kim,Dong Hwa Lee,You Sun JUNG. Владелец: KCTech Co Ltd. Дата публикации: 2023-01-05.

Substrate processing device

Номер патента: US20240318307A1. Автор: Heeyeon Kim,Seongho Park,Hyunho Choi,Byunghwan Kong,Seongwan KIM,Heesun Song. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-09-26.

Substrate processing device and substrate processing method

Номер патента: US09601357B2. Автор: Koji Hashimoto,Masahiro Miyagi,Mitsukazu Takahashi. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-03-21.

Substrate processing device

Номер патента: US11767589B2. Автор: Jaemin Roh. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2023-09-26.

Substrate processing device

Номер патента: US11767589B2. Автор: Jaemin Roh. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2023-09-26.

Substrate processing device

Номер патента: US20240213041A1. Автор: Thomas Jongwan Kwon,Youngdae Chung,Chengyeh Hsu,Taeshin KIM. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-27.

Substrate processing device

Номер патента: US20240278288A1. Автор: Tomoyuki Shinohara,Kazuma FUNAHASHI. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-22.

Substrate processing device and method for operating the same

Номер патента: US20240234164A1. Автор: Ki Hoon Jang,Won Keun Cho,Dong Hoon KWON. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-07-11.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240201602A1. Автор: Cheng Cheng,HUI Wang,Jun Wang,Jun Wu,Mark Lee,Andrew Jung,Bruce SOHN,Yy KIM. Владелец: Cleanchip Technologies Ltd. Дата публикации: 2024-06-20.

Substrate processing system and substrate processing method

Номер патента: US20240249964A1. Автор: Seiji Nakashima,Shinsuke TAKAKI,Akihiro TERAMOTO,Ryo SHOBU. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-25.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20120160805A1. Автор: Mitsuo Suzuki,Kiyoshi Ehara. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2012-06-28.

Substrate processing method

Номер патента: SG177250A1. Автор: Shinya Nakamura,Yoshinori Fujii,Hideto Nagashima. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2012-02-28.

Substrate processing method

Номер патента: US20240234189A1. Автор: Tomohiro Takahashi. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-11.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09703199B2. Автор: Takashi Taguchi,Toru Asano,Tsuyoshi Mitsuhashi,Yukio Toriyama. Владелец: Screen Semiconductor Solutions Co Ltd. Дата публикации: 2017-07-11.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US12033872B2. Автор: Hiroshi Yoshida,Takashi Nagai,Koji Ogura,Takumi Honda,Jun Nonaka,Keita Hirase. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-09.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240254628A1. Автор: Manabu Honma. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-01.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20180197748A1. Автор: Kazuaki Nishimura,Koji Takeya,Jun Lin. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-07-12.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240282598A1. Автор: Hiroshi Marumoto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-22.

Substrate processing apparatus and substrate processing system

Номер патента: US20240253093A1. Автор: Koji Ando,Noritake SUMI,Tomohiro Motono. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-01.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240321650A1. Автор: Yuji Otsuki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-26.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US12091753B2. Автор: Manabu Honma. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-17.

Compact substrate processing tool with multi-station processing and pre-processing and/or post-processing stations

Номер патента: US09916995B2. Автор: Karl Leeser. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2018-03-13.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09766617B2. Автор: Keiji Osada,Junichi Ogawa,Youichi Nakayama,Hiroaki DEWA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-09-19.

Maintenance System, and Substrate Processing Device

Номер патента: US20150012124A1. Автор: Tsutomu Hiroki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2015-01-08.

Substrate processing apparatus, substrate processing method and storage medium

Номер патента: US9337070B2. Автор: Hideaki Sato. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-05-10.

Substrate processing method and manufacturing method of semiconductor device

Номер патента: US20060289431A1. Автор: Shinichi Ito,Tsuyoshi Shibata,Kei Hayasaki,Koutarou Sho. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-12-28.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20230257877A1. Автор: Yasushi Takeuchi,Manabu Honma,Junnosuke Taguchi,Ibuki HAYASHI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-08-17.

Substrate processing apparatus and method of driving relay member

Номер патента: US20220037125A1. Автор: Shin Matsuura,Nobutaka Sasaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-02-03.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US12080526B2. Автор: Do Hyung Kim,Young Woon Kim,Woong Kyo Oh,Kwang Su YOO,Yun Gyu HA. Владелец: Jusung Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-03.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20230241636A1. Автор: Yoko TAKAKITA. Владелец: Shibaura Mechatronics Corp. Дата публикации: 2023-08-03.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240304452A1. Автор: Hiroshi Marumoto,Tsunemoto OGATA,Suguen Lee. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-12.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240301555A1. Автор: Tatsuya Yamaguchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-12.

Substrate processing system

Номер патента: US20200411341A1. Автор: George Xinsheng Guo. Владелец: Individual. Дата публикации: 2020-12-31.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09721815B2. Автор: Hiroaki Takahashi,Kentaro Tokuri. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-08-01.

Substrate processing apparatus, method of operating substrate processing apparatus, and storage medium

Номер патента: US09696262B2. Автор: Katsuhiro Morikawa,Ikuo Sunaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-07-04.

Substrate processing system and substrate transfer control method

Номер патента: US09646864B2. Автор: Daisuke Morisawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-05-09.

Batch-type vertical substrate processing apparatus and substrate holder

Номер патента: US09613838B2. Автор: Mitsuhiro Okada,Kazuhide Hasebe. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-04-04.

Substrate processing apparatus, substrate processing method and storage medium

Номер патента: US09396978B2. Автор: Takeshi Matsumoto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-07-19.

Substrate processing device

Номер патента: US20190198356A1. Автор: Ayumi Higuchi. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2019-06-27.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240234183A1. Автор: Naofumi Ohashi,Teruo Yoshino,Tadashi Takasaki. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-07-11.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20230307254A1. Автор: Yuta Segawa,Chiaki MORIYA. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-28.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20130084709A1. Автор: Masahiro Miyagi,Kazunori Fujikawa. Владелец: Individual. Дата публикации: 2013-04-04.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US12051605B2. Автор: Yusuke Hashimoto,Hiroki Sakurai,Daisuke Goto,Takahiro Koga,Nobuhiro Ogata,Kanta Mori. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-30.

Substrate processing system

Номер патента: US20200257269A1. Автор: Masanori Nakayama,Tsukasa Kamakura. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2020-08-13.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20190206695A1. Автор: Kazuya Koyama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-07-04.

Substrate processing system having improved substrate transport system

Номер патента: US20090060689A1. Автор: G. X. Guo,K. A. Wang. Владелец: Individual. Дата публикации: 2009-03-05.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240299971A1. Автор: Masafumi Suzuki,Shigehiro Goto. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-12.

Substrate processing apparatus and method thereof

Номер патента: US20240326406A1. Автор: Seong Soo JEONG. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-03.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: EP4447096A1. Автор: Masafumi Suzuki,Shigehiro Goto. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-16.

Flexible temperature compensation systems and methods for substrate processing systems

Номер патента: US09864361B2. Автор: Andrew D. Bailey, III,Marcus Carbery. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2018-01-09.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09852931B2. Автор: Masanobu Sato,Masahiro Miyagi,Hiroyuki Araki. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-12-26.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09795999B2. Автор: Takashi Ootagaki,Konosuke Hayashi,Yosuke Himori. Владелец: Shibaura Mechatronics Corp. Дата публикации: 2017-10-24.

Control apparatus, substrate processing apparatus, and substrate processing system

Номер патента: US09772624B2. Автор: Takanori Saito,Yuichi Takenaga. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-09-26.

Substrate processing method, program, computer-readable storage medium, and substrate processing system

Номер патента: US09690185B2. Автор: Hidetami Yaegashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-06-27.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09373528B2. Автор: Mitsunori Komatsu,Toru Maruyama. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2016-06-21.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09330950B2. Автор: Shinji Wakabayashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-05-03.

Block valve for substrate processing device, and substrate processing device

Номер патента: US20230228339A1. Автор: Tae Ho Lee,Myeong Ki MIN. Владелец: Jusung Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2023-07-20.

Substrate processing apparatus and method thereof

Номер патента: US20240210836A1. Автор: Young Seop CHOI,Joo Sung Lee,Bok Kyu Lee,Je Myung Cha,Myung A Jeon. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-27.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240231232A1. Автор: Tsuyoshi Watanabe,Yoji SAKATA,Masashi Tsuchiyama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-11.

Substrate processing system

Номер патента: WO2024151636A1. Автор: Jairo T. Moura,Robert T. Caveney. Владелец: Brooks Automation Us, Llc. Дата публикации: 2024-07-18.

Substrate processing apparatus

Номер патента: EP4333035A1. Автор: Jun Komori. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-06.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US12080572B2. Автор: Masahiro DOGOME,Masatomo KITA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-03.

Substrate Processing Apparatus

Номер патента: US20170062245A1. Автор: Sang-Dong Kwon,Sang-Rok Oh,Jong-Woo Sun,Kwang-Nam Kim,Jung-pyo HONG,Yong-Moon Jang. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2017-03-02.

Substrate processing system

Номер патента: US20240355654A1. Автор: Jairo T. Moura,Robert T. Caveney. Владелец: Brooks Automation US LLC. Дата публикации: 2024-10-24.

Substrate processing apparatus

Номер патента: EP4451310A1. Автор: Jong Chan Lee,Kwang Sung Yoo,Hyen Woo Chu. Владелец: PSK Inc. Дата публикации: 2024-10-23.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09698037B2. Автор: Yuichi Matsuda,Tomoyuki Yamada,Takashi Nogami,Shinobu Sugiura,Seiyo Nakashima. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-07-04.

Substrate processing method

Номер патента: US09543162B2. Автор: Takashi Ota,Kazuhide Saito,Taiki HINODE. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-01-10.

Substrate processing device

Номер патента: US11869788B2. Автор: HAIYANG Xu,Koji Maeda,Tetsuya Yashima,Mitsuhiko Inaba. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-01-09.

Data processing method, data processing device, and storage medium

Номер патента: US12008022B2. Автор: Takashi Ikeuchi,Hideji NAOHARA. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-11.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20230369018A1. Автор: Jaewon Shin,Sangjeong LEE,Jongwon Park,Yoonseok Choi,Kyunghun JANG,Youngun Bong,Hanlim Kang,Hyunwoo Jo. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-16.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240006160A1. Автор: Yunsang Kim,Kwangryul Kim. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-04.

Management device for substrate processing system and management method for substrate processing system

Номер патента: US20230205174A1. Автор: Man Gyu LEE. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2023-06-29.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240100647A1. Автор: Boun Yoon,Donghoon Kwon. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-03-28.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240234093A1. Автор: Sejin Oh,Dougyong Sung. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-07-11.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20160121373A1. Автор: Daisuke Aoki,Junya Minamida. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-05-05.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20070009649A1. Автор: Hiroshi Nakamura,Seiichi Kaise. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2007-01-11.

Improved heater for use in substrate processing apparatus to deposit tungsten

Номер патента: EP1080485A1. Автор: Jun Zhao,Talex Sajoto,Leonid Selyutin. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2001-03-07.

Chiller make-break connector for substrate processing systems

Номер патента: US12074039B2. Автор: Alexander Charles Marcacci. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-08-27.

Substrate processing system including coil with RF powered faraday shield

Номер патента: US12087557B2. Автор: SHEN Peng,Anthony Nguyen,Dan Marohl,Tamarak Pandhumsoporn. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-09-10.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20130340796A1. Автор: Itaru Kanno,Norihiro Ito,Yosuke Hachiya,Kotaro Ooishi,Hisashi Kawano,Jun Nogami. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2013-12-26.

Substrate processing apparatus, linked processing system, and substrate processing method

Номер патента: US11784057B2. Автор: Jong Won Yun. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-10-10.

Substrate holding apparatus and polishing apparatus

Номер патента: US09550268B2. Автор: Hiroyuki Shinozaki. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2017-01-24.

Substrate processing device, polishing device, and substrate processing method

Номер патента: US20240139782A1. Автор: Kohei Sato,Hiroki Takahashi,Koichi Fukaya,Daichi Kondo. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-05-02.

Substrate processing device and determination method

Номер патента: US11461136B2. Автор: Ken Watanabe. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-10-04.

Substrate processing device and substrate processing method

Номер патента: US12106941B2. Автор: Chul-Joo Hwang. Владелец: Jusung Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-01.

Substrate processing method

Номер патента: US20240254619A1. Автор: SeungJu Chun. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-08-01.

Substrate processing device equipped with semicircle shaped antenna

Номер патента: US09416451B2. Автор: Il Kwang Yang,Byung Gyu Song,Song Hwan Park,Sung Tae Je. Владелец: Eugene Technology Co Ltd. Дата публикации: 2016-08-16.

Film forming method and substrate processing device

Номер патента: US20240274436A1. Автор: Keiichi Nagasaka,Toru Kitada,Shota ISHIBASHI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-15.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US12018373B2. Автор: Seiyo Nakashima. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-06-25.

Substrate processing system and substrate processing method

Номер патента: US20240242975A1. Автор: Kotaro Tsurusaki,Yoshihiro Kai,Keiji Onzuka,Kouzou Kanagawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-18.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20180033618A1. Автор: Kazuo Yabe,Jun Ogawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-02-01.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20210159095A1. Автор: Masami Yamashita,Gentaro Goshi,Toru Ihara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-05-27.

Substrate processing tool with integrated metrology and method of using

Номер патента: US20190295870A1. Автор: Robert Clark,Kandabara Tapily. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-09-26.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20180305816A1. Автор: Akira Takahashi. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2018-10-25.

Substrate processing apparatus including processing unit

Номер патента: US09869019B2. Автор: Byoung-Gyu Song,Kyong-Hun Kim,Yong-Ki Kim,Yang-Sik Shin,Il-Kwang Yang. Владелец: Eugene Technology Co Ltd. Дата публикации: 2018-01-16.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09865454B2. Автор: Hitoshi Kato,Jun Sato,Masato Yonezawa,Hiroyuki Kikuchi,Shigehiro Miura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-01-09.

Substrate processing apparatus and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US09818600B2. Автор: Takayuki Sato. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-11-14.

Substrate processing device and substrate processing method

Номер патента: US11837445B2. Автор: Chul-Joo Hwang. Владелец: Jusung Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-05.

Substrate processing device and substrate processing method

Номер патента: US20240055233A1. Автор: Chul-Joo Hwang. Владелец: Jusung Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-15.

Substrate processing device, substrate processing system, and method for processing substrate

Номер патента: US20240068068A1. Автор: Daisuke Mori,Masashi Okada,Kazuhiro Sonoda. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2024-02-29.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240189856A1. Автор: Koichi Matsunaga,Teruhiko Kodama,Hideaki Iwasaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-13.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20220285166A1. Автор: Takumi Honda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-09-08.

Substrate processing apparatus, substrate processing method and recording medium

Номер патента: US20190139791A1. Автор: Hiromi Kiyose. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-05-09.

Magnet holding structures for plasma processing applications

Номер патента: WO2022086709A1. Автор: Canfeng Lai,Andrew Nguyen,Kallol Bera,Sathya Swaroop GANTA. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2022-04-28.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and storage medium

Номер патента: US20200144052A1. Автор: Gentaro Goshi,Keisuke Egashira. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-05-07.

Magnetic holding structures for plasma processing applications

Номер патента: US20240297059A1. Автор: Canfeng Lai,Andrew Nguyen,Kallol Bera,Sathya Swaroop GANTA. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-09-05.

Substrate processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: EP4428898A2. Автор: Maju TOMURA,Ryutaro Suda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-11.

Substrate processing method and substrate processing system

Номер патента: US09953840B2. Автор: Mitsunori Nakamori,Hiromi Kiyose,Kazuyuki Mitsuoka,Hiroshi Marumoto,Hisashi Kawano. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-04-24.

Systems and methods for removing particles from a substrate processing chamber using RF plasma cycling and purging

Номер патента: US09899195B2. Автор: Hu Kang,Adrien Lavoie. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2018-02-20.

Method for processing substrate and substrate processing apparatus

Номер патента: US09768012B2. Автор: Masanori Sakai,Tsutomu Kato,Yuji Takebayashi,Hirohisa Yamazaki. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-09-19.

Systems and methods for removing particles from a substrate processing chamber using RF plasma cycling and purging

Номер патента: US09478408B2. Автор: Hu Kang,Adrien Lavoie. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2016-10-25.

Substrate processing device, method for preparing substrate processing device, and substrate processing method

Номер патента: US20220415613A1. Автор: Won Tae Cho. Владелец: Jusung Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2022-12-29.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240234170A9. Автор: Kenji Fukushima. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-11.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US12027393B2. Автор: Takuya Mori. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-02.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20210335636A1. Автор: Takuya Mori. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-10-28.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US12065746B2. Автор: Masaki Inaba,Yasutoshi Okuno,Akihisa Iwasaki. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-20.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20230057538A1. Автор: Chul-Joo Hwang,Duck Ho Kim,Il Hyong CHO. Владелец: Jusung Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2023-02-23.

Substrate processing method, substrate processing apparatus and substrate processing system

Номер патента: US20240288775A1. Автор: Soichiro Okada. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-29.

Substrate processing apparatus and processing liquid supply method

Номер патента: US20180090306A1. Автор: Jiro Higashijima,Yusuke Hashimoto,Nobuhiro Ogata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-03-29.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US09970109B2. Автор: Jun Yoshikawa,Motoshi Fukudome. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-05-15.

Schedule preparation method for substrate processing device and substrate processing device

Номер патента: US10514684B2. Автор: Satoshi Yamanaka. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2019-12-24.

Substrate supporting unit and a substrate processing device including the same

Номер патента: US11866823B2. Автор: Seunghwan Lee,HakYong Kwon,Sungbae Kim,Jongsu Kim,JuHyuk Park. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-01-09.

Substrate processing method and substrate processing device

Номер патента: US20220333249A1. Автор: Munehito Kagaya. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-10-20.

Substrate processing method and substrate processing device

Номер патента: US20240203709A1. Автор: Dong Hwan Choi,Kwang su PARK,Kyung Ran PARK,Won Uk CHAE,Cheol Young Choi. Владелец: Jusung Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-20.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20200152443A1. Автор: Jiro Higashijima,Yusuke Hashimoto,Nobuhiro Ogata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-05-14.

Substrate processing method

Номер патента: US20100048026A1. Автор: Takashi Sone,Ellchl Nishimura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2010-02-25.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and storage medium

Номер патента: US20210063882A1. Автор: Keiichi Tanaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-03-04.

Substrate processing apparatus including nozzle unit and substrate processing method

Номер патента: US20240091819A1. Автор: Hyeon Jun Lee,So Young PARK,Ju Hwan Lee,Myung A Jeon. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-21.

Substrate processing apparatus and method of processing substrate

Номер патента: US11733612B2. Автор: Kazuya Iwata,Norihisa Koga. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-08-22.

Substrate processing tool with integrated metrology and method of using

Номер патента: US11769677B2. Автор: Robert Clark,Kandabara Tapily. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-09-26.

Substrate processing apparatus and semiconductor device producing method

Номер патента: US20110212626A1. Автор: Masanori Sakai,Tomohiro Yoshimura. Владелец: Individual. Дата публикации: 2011-09-01.

Substrate processing apparatus and semiconductor device producing method

Номер патента: US8901011B2. Автор: Masanori Sakai,Tomohiro Yoshimura. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2014-12-02.

Substrate Processing Apparatus and Semiconductor Device Producing Method

Номер патента: US20080153309A1. Автор: Masanori Sakai,Tomohiro Yoshimura. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2008-06-26.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and storage medium

Номер патента: US20210063883A1. Автор: Keiichi Tanaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-03-04.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20180195178A1. Автор: Masayuki Otsuji. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2018-07-12.

Substrate processing device

Номер патента: US20170117160A1. Автор: Akio Hashizume,Takashi Ota. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-04-27.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20220134375A1. Автор: Tomohiro Takahashi. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2022-05-05.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20070277856A1. Автор: Akio Hashizume. Владелец: Individual. Дата публикации: 2007-12-06.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09623434B2. Автор: Yoshifumi Amano. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-04-18.

Polishing head for holding substrate and substrate processing apparatus

Номер патента: US20200306924A1. Автор: Kenichi Kobayashi,Makoto Kashiwagi. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2020-10-01.

Substrate processing method and substrate processing device

Номер патента: EP4231785A1. Автор: Kiyoshi Maeda,Yasuhiko Saito,Atsutoshi Inokuchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-08-23.

Substrate processing method including reprocessing rejected wafers

Номер патента: US09847263B2. Автор: Tsuneo Torikoshi,Hirofumi OTAKI. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2017-12-19.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240014011A1. Автор: Hyun Kim,Kang Hee KIM,Yong Taek Eom. Владелец: Wonik Ips Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-11.

Prediction method and apparatus for substrate processing apparatus

Номер патента: US20070215574A1. Автор: Hideki Tanaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2007-09-20.

Substrate processing method and control apparatus

Номер патента: US09798317B2. Автор: Katsuhiko Komori,Yuichi Takenaga. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-10-24.

Substrate processing method

Номер патента: US20110237083A1. Автор: Akira Nakagawa,Yoshinobu Hayakawa,Yusuke Okazaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2011-09-29.

Precoat method for substrate processing apparatus and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240191349A1. Автор: Atsushi Tanaka,Taichi Monden. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-13.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20220251709A1. Автор: Takafumi Niwa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-08-11.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240290609A1. Автор: Tadahiro Ishizaka,Takashi Sakuma,Yoshiyuki Hanada,Kunihiro Tada. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-29.

Electromagnetic dipole for plasma density tuning in a substrate processing chamber

Номер патента: US09779953B2. Автор: Joseph F. Aubuchon,Tza-Jing Gung,Samer Banna. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-10-03.

Processing gas diffusing and supplying unit and substrate processing apparatus

Номер патента: US09484213B2. Автор: Toshifumi Ishida. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-11-01.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240194497A1. Автор: Takao Matsumoto,Hajime NISHIDE,Kwichang KANG. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-13.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20220384151A1. Автор: Shinya Ishikawa,Sho Kumakura,Yuta NAKANE. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-12-01.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20220189779A1. Автор: Tsuyoshi Takahashi,Yu Nunoshige. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-06-16.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20230207339A1. Автор: Kohei Sato,Hiroki Takahashi. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2023-06-29.

Substrate processing system and substrate processing method

Номер патента: US20240307821A1. Автор: Koji Kagawa,Mitsunori Nakamori,Yosuke Hachiya. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-19.

Substrate processing method and substrate processing system

Номер патента: US12051571B2. Автор: Tatsuya Yamaguchi,Syuji Nozawa,Kazuya Ichiki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-30.

Method for cleaning chamber or component, substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: EP4383314A1. Автор: Sho Kumakura,Yuta NAKANE. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-12.

Substrate processing device

Номер патента: US11813646B2. Автор: Joichi Nishimura,Nobuaki Okita. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-14.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20230386787A1. Автор: Kiyoshi Maeda,Yasuhiko Saito,Atsutoshi Inokuchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-11-30.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20220293398A1. Автор: WonKi Jeong,DaeYoun Kim,JuIll Lee,Hyungchul Moon,GeunHwi Kim. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2022-09-15.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240258107A1. Автор: kana Tahara,Masaki Inaba,Ryo Muramoto. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-01.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20150059645A1. Автор: Koji Hashimoto,Masahiro Miyagi,Toru Endo. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2015-03-05.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US8883030B2. Автор: Koji Hashimoto,Masahiro Miyagi,Toru Endo. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2014-11-11.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09713822B2. Автор: Koji Hashimoto,Masahiro Miyagi,Toru Endo. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-07-25.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20230294124A1. Автор: Jun Komori. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-21.

Substrate processing apparatus

Номер патента: EP4258328A1. Автор: Jun Komori. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-11.

Substrate treatment method and substrate treatment device

Номер патента: US20200111715A1. Автор: Yuji Okita,Hiroaki Kakuma,Hideji NAOHARA,Tatsuya Masui. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2020-04-09.

Substrate drying device and substrate drying method

Номер патента: US20230005762A1. Автор: Tomoatsu Ishibashi. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2023-01-05.

Substrate processing device and substrate processing method

Номер патента: US09607867B2. Автор: Yuji Kajihara. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2017-03-28.

Valve module and substrate processing device comprising the same

Номер патента: US12092235B2. Автор: Jae Min Lee,Sang Min Kim. Владелец: Presys Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-17.

Motor attachment bracket, motor attachment structure, and substrate processing apparatus

Номер патента: SG10201800586RA. Автор: Tanaka Hideaki. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2018-08-30.

Substrate processing method and substrate processing device

Номер патента: EP4394847A1. Автор: Masayuki Nakanishi,Masayuki Satake,Yuta Mitsuki. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-07-03.

Substrate processing module and laser beam providing method

Номер патента: US20240006167A1. Автор: Yunsang Kim,Kwang Ryul Kim. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-04.

Substrate processing apparatus, program, storage medium and conditioning necessity determining method

Номер патента: US20090143890A1. Автор: Daisuke Morisawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2009-06-04.

Substrate processing apparatus, program, storage medium and conditioning necessity determining method

Номер патента: US8255072B2. Автор: Daisuke Morisawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2012-08-28.

Substrate processing system and group management device

Номер патента: US20230101147A1. Автор: Ryuichi Kimura,Hiroakira MATSUI,Naruhisa MIYAZAKI. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2023-03-30.

Substrate processing method, recording medium, and substrate processing apparatus

Номер патента: US12083553B2. Автор: Yusuke MIYAKUBO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-10.

Substrate processing method

Номер патента: US09477162B2. Автор: Tetsuya Hamada,Shuichi Yasuda,Tadashi Miyagi,Koji Kaneyama,Kazuhito Shigemori,Masashi Kanaoka. Владелец: Screen Semiconductor Solutions Co Ltd. Дата публикации: 2016-10-25.

Substrate processing apparatus and fluid heating device

Номер патента: US20240234172A9. Автор: Takahiro Hayashida,Shigeru Moriyama,Shota Umezaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-11.

Substrate processing apparatus and fluid heating device

Номер патента: US20240136206A1. Автор: Takahiro Hayashida,Shigeru Moriyama,Shota Umezaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-04-25.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20100285225A1. Автор: Shuichi Yasuda,Tadashi Miyagi,Koji Kaneyama,Kazuhito Shigemori,Masashi Kanaoka. Владелец: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd. Дата публикации: 2010-11-11.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240361072A1. Автор: Kazuhiro Shoji,Tomohiro Uemura,Shuhei NEMOTO,Ryotaro SHINOHARA. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-31.

Substrate processing apparatus and control method for a substrate processing apparatus

Номер патента: US20240120204A1. Автор: Yuji Takimoto,Keisuke Tsugao. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-04-11.

Substrate processing system and its control method

Номер патента: US20240055283A1. Автор: Kenji Ikeda,Tasuku Suzuki,Nobuyuki Kawabata,Jun Kitagawa,Masato Anzai,Taichi YOSHIOKA. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-02-15.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20140363587A1. Автор: Jeung Hoon Han,Song Whe Huh. Владелец: Jusung Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2014-12-11.

Semiconductor substrate processing apparatus and the method thereof

Номер патента: US20230203654A1. Автор: Todd Dunn,Taku Omori,Cheuk Li,Aadil Vora,Paridhi GUPTA. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2023-06-29.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20180164702A1. Автор: Naofumi Ohashi. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2018-06-14.

Machine learning platform for substrate processing

Номер патента: EP4405766A1. Автор: David Everton Norman. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-07-31.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US11587805B2. Автор: Masanobu Watanabe,Katsunori Ichino,Tomoki Okazawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-02-21.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09960073B2. Автор: Jeung Hoon Han,Song Whe Huh. Владелец: Jusung Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2018-05-01.

Part for substrate processing apparatus and substrate processing system

Номер патента: US20210178523A1. Автор: Michishige Saito,Sho Yamahira. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-06-17.

Substrate processing apparatus and display device using the same

Номер патента: US10825837B2. Автор: Jeong Kweon Park,Jinwook KWAK,Jangcheol KIM,Ik Hyun KUON,Ju Ik HONG. Владелец: LG Display Co Ltd. Дата публикации: 2020-11-03.

Substrate processing apparatus and display device using the same

Номер патента: US20180097018A1. Автор: Jeong Kweon Park,Jinwook KWAK,Jangcheol KIM,Ik Hyun KUON,Ju Ik HONG. Владелец: LG Display Co Ltd. Дата публикации: 2018-04-05.

Electrostatic chuck, glass substrate processing method, and said glass substrate

Номер патента: US09866151B2. Автор: Toshifumi Sugawara,Yoshiaki Tatsumi. Владелец: Creative Technology Corp. Дата публикации: 2018-01-09.

Home port and substrate processing apparatus using same

Номер патента: US20230195030A1. Автор: Tae Hoon Lee,Do Yeon Kim,Young Jun SON,Hyun Yoon. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2023-06-22.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20230241634A1. Автор: Yuji Okita,Hiroaki Kakuma,Hideji NAOHARA,Tatsuya Masui,Yuichi DEBA. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2023-08-03.

Discharge method, discharge system and substrate processing apparatus including the same

Номер патента: US20230052781A1. Автор: Daesoo Kim,Jimin CHOI. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2023-02-16.

In-situ film growth rate monitoring apparatus, systems, and methods for substrate processing

Номер патента: US12077880B2. Автор: Yong Zheng,TAO Sheng,Nyi Oo Myo,Zhepeng Cong. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-09-03.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20200027688A1. Автор: Shinji Kubota,Naohiko Okunishi,Shota Kaneko,Yosuke Tamuro. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-01-23.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09779921B2. Автор: Nobuo Yamaguchi,Susumu Akiyama,Kazuaki Matsuo,Satoshi Uchino,Yoshimitsu Shimane. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2017-10-03.

Substrate holding device

Номер патента: US20230140269A1. Автор: Masatoshi Onoda,Yusuke Otsuki,Ippei Nishimura. Владелец: Nissin Ion Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2023-05-04.

Keyswitch support connection structure and keyswitch structure therewith

Номер патента: US12131874B2. Автор: Chin-Hung Lin,Ling-Hsi Chao,Liang-Ta Yeh,Po-Chun Hou. Владелец: Darfon Electronics Corp. Дата публикации: 2024-10-29.

Keyswitch support connection structure and keyswitch structure therewith

Номер патента: US20210304981A1. Автор: Chin-Hung Lin,Ling-Hsi Chao,Liang-Ta Yeh,Po-Chun Hou. Владелец: Darfon Electronics Corp. Дата публикации: 2021-09-30.

Terminal temporary holding structure and resolver including terminal temporary holding structure

Номер патента: US09595769B2. Автор: Yoshiaki Ozaki. Владелец: Japan Aviation Electronics Industry Ltd. Дата публикации: 2017-03-14.

Connector holding structure and electronic device

Номер патента: US20210075153A1. Автор: Yoichi Matsuo. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2021-03-11.

Electrical break for substrate processing systems

Номер патента: US20240339302A1. Автор: Andrew Nguyen,Tom K. Cho,Yogananda SARODE VISHWANATH. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-10-10.

Input keyboard apparatus for information processing device and other keyboard devices

Номер патента: WO1993002865A1. Автор: Jeffrey P. Szmanda,William J. Szmanda. Владелец: Health Care Keyboard Company. Дата публикации: 1993-02-18.

Input Keyboard Apparatus for Information Processing Device and Other Keyboard Devices

Номер патента: CA2093014A1. Автор: Jeffrey P. Szmanda,William J. Szmanda. Владелец: Individual. Дата публикации: 1993-02-09.

Plasma shutter and substrate processing apparatus including the same

Номер патента: US20240096606A1. Автор: Hyungsik KO. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-03-21.

Substrate processing apparatus and method for processing substrate

Номер патента: US20230245858A1. Автор: Hitoshi Kato,Hiroyuki Kikuchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-08-03.

Substrate processing method

Номер патента: US20230235457A1. Автор: Ji Hyun Cho,Hong Min Yoon,Jae Sung Roh,Chul Joo Hwang,Cheong SON,Se Whan JIN,Hong Soo YOON,Youn Joo JANG. Владелец: Jusung Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2023-07-27.

Method of cleaning substrate processing apparatus

Номер патента: US09925571B2. Автор: Akihiro Kikuchi,Mitsuhiro Tomura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-03-27.

Substrate processing device and substrate processing method

Номер патента: US20240203696A1. Автор: Tae Sung Kim,Duk Hyun SON. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-20.

Substrate Processing Apparatus and Substrate Processing Method

Номер патента: US20180037995A1. Автор: Takayuki Karakawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-02-08.

Plug-in electronic module and method for connecting a plug-in electronic module to a holding structure

Номер патента: US20050052842A1. Автор: Uwe Fischer,Mario Festag. Владелец: Individual. Дата публикации: 2005-03-10.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20230085592A1. Автор: Jong Sik Kim,Ji Hun Lee. Владелец: Jusung Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2023-03-16.

Substrate processing apparatus and substrate processing method using the same

Номер патента: US20240282557A1. Автор: Jinuk Park,Euijin Park,Dongyup Choo. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-08-22.

Substrate processing apparatus, substrate processing system, and abnormality detection method

Номер патента: US12087562B2. Автор: Katsuhito Hirose,Kazushi HIKAWA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-10.

Ignition control method, film formation method, and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240312763A1. Автор: Takeshi Kobayashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-19.

Substrate processing apparatus having ground electrode

Номер патента: US09970111B2. Автор: Kohei Fukushima,Takeshi Ando,Koichi Shimada,Hiroyuki Matsuura,Yutaka Motoyama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-05-15.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09455125B2. Автор: Makoto Kobayashi,Jun Tamura,Tetsuji Sato,Akihiro Yoshimura,Hiroshi Tsujimoto,Nobuhiro Wada,Masato Horiguchi,Mamoru NAOI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-09-27.

Antenna enhancing holding structure for an internet-of-things (iot) device

Номер патента: US20190379128A1. Автор: Jingyuan Tan. Владелец: Netgear Inc. Дата публикации: 2019-12-12.

Substrate Processing Apparatus, Method of Manufacturing Semiconductor Device and Substrate Processing Method

Номер патента: US20220090260A1. Автор: Hirohisa Yamazaki. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2022-03-24.

Information processing device, information processing method, and program

Номер патента: EP3039862A1. Автор: Keiji Okamoto. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2016-07-06.

Battery holding structure

Номер патента: US20100136397A1. Автор: Pen-Uei Lu. Владелец: Chi Mei Communication Systems Inc. Дата публикации: 2010-06-03.

Substrate holding apparatus

Номер патента: US20110075023A1. Автор: Takeshi Naito,Tadashi Asano,Shunsuke Saiki. Владелец: Aisin Seiki Co Ltd. Дата публикации: 2011-03-31.

Fan holding structure, heat-dissipating module with the fan holding structure and electronic device having the same

Номер патента: US09374930B2. Автор: Chun-Lung Ho. Владелец: Lite On Technology Corp. Дата публикации: 2016-06-21.

Passive module for a holding structure, and such a holding structure

Номер патента: US20200220610A1. Автор: Peter Ökvist. Владелец: Telefonaktiebolaget LM Ericsson AB. Дата публикации: 2020-07-09.

Passive module for a holding structure, and such a holding structure

Номер патента: EP3707338A1. Автор: Peter Ökvist. Владелец: Telefonaktiebolaget LM Ericsson AB. Дата публикации: 2020-09-16.

Substrate processing apparatus

Номер патента: EP4104941A1. Автор: Hiroyoshi Mori. Владелец: M Dia & Co Ltd. Дата публикации: 2022-12-21.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20220063139A1. Автор: Hiroyoshi Mori. Владелец: M Dia and Co Ltd. Дата публикации: 2022-03-03.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US11986978B2. Автор: Hiroyoshi Mori. Владелец: M Dia and Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-21.

Wire holding structure, and image forming apparatus including wire holding structure

Номер патента: US20170063059A1. Автор: Tomoya Hotani. Владелец: Kyocera Document Solutions Inc. Дата публикации: 2017-03-02.

Filter holding structure and component mounting apparatus

Номер патента: US20180249607A1. Автор: Yukinari Awano. Владелец: Yamaha Motor Co Ltd. Дата публикации: 2018-08-30.

Microphone holding structure and electronic device

Номер патента: US09871901B2. Автор: Tsutomu Osawa,Takahiro Hiramatsu. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2018-01-16.

Microphone holding structure and electronic device

Номер патента: US20160352879A1. Автор: Tsutomu Osawa,Takahiro Hiramatsu. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2016-12-01.

Information processing device and method

Номер патента: US20240346701A1. Автор: Tsuyoshi Kato,Ohji Nakagami,Satoru Kuma,Kao HAYASHI. Владелец: Sony Group Corp. Дата публикации: 2024-10-17.

Information processing device, log analysis method, and program

Номер патента: EP3848806A1. Автор: Masashi Tanaka,Yasushi Okano,Takuma KOYAMA,Keita Hasegawa. Владелец: Nippon Telegraph and Telephone Corp. Дата публикации: 2021-07-14.

Image processing device and method

Номер патента: US12108016B2. Автор: Hiroyuki Yasuda,Koji Yano,Tsuyoshi Kato,Ohji Nakagami,Satoru Kuma. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2024-10-01.

Image processing device and method

Номер патента: US09924189B2. Автор: Yoshitomo Takahashi,Ohji Nakagami. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2018-03-20.

Optimization program and substrate process system

Номер патента: US09804592B2. Автор: Kazuya Fukao. Владелец: Fuji Machine Manufacturing Co Ltd. Дата публикации: 2017-10-31.

System of image processing, device of image processing and method of its control

Номер патента: RU2413381C2. Автор: Хиройоси ЙОСИДА. Владелец: Кэнон Кабусики Кайся. Дата публикации: 2011-02-27.

Mobile device case with accessory holding structure

Номер патента: US20230396282A1. Автор: II Teddy Bob Fitzgerald Richards. Владелец: Individual. Дата публикации: 2023-12-07.

Data processing device

Номер патента: RU2559745C2. Автор: Минору ФУДЗИСАВА. Владелец: Кэнон Кабусики Кайся. Дата публикации: 2015-08-10.

Electronic device, information processing device and information processing method

Номер патента: RU2698430C1. Автор: Биншань ХУ,Чень СУНЬ. Владелец: Сони Корпорейшн. Дата публикации: 2019-08-26.

Information processing device and method of controlling said device

Номер патента: RU2458387C2. Автор: Сатору НАКАДЗИМА. Владелец: Кэнон Кабусики Кайся. Дата публикации: 2012-08-10.

Information processing device

Номер патента: RU2727883C2. Автор: Тосиюки СЕКИЯ,Юитиро КОЯМА,Юя ХИРАНО. Владелец: Сони Корпорейшн. Дата публикации: 2020-07-24.

Security data processing device

Номер патента: GB2581525A. Автор: FERNANDEZ Jose,Bhushan Bharat,BOTT Andrew. Владелец: Secure Thingz Ltd. Дата публикации: 2020-08-26.

Conversion device, information processing device, and image processing device

Номер патента: US20150146263A1. Автор: Masahiro Fujishita. Владелец: Brother Industries Ltd. Дата публикации: 2015-05-28.

Information processing system, information processing device, and device control method

Номер патента: US20160072925A1. Автор: Kazuhiro Yamada. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2016-03-10.

Information processing system, information processing device, server device, and method

Номер патента: US8806597B2. Автор: Hiroyuki Hasegawa,Manabu Iwasaki,Shin Ohtake. Владелец: Fuji Xerox Co Ltd. Дата публикации: 2014-08-12.

Information processing system, information processing device, server device, and method

Номер патента: US20120222101A1. Автор: Hiroyuki Hasegawa,Manabu Iwasaki,Shin Ohtake. Владелец: Fuji Xerox Co Ltd. Дата публикации: 2012-08-30.

Information processing system, information processing device, and device control method

Номер патента: US09838386B2. Автор: Kazuhiro Yamada. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2017-12-05.

Relaying device, image processing device, and system comprising image processing device and relaying device

Номер патента: US09667721B2. Автор: Fumio Okumura. Владелец: Brother Industries Ltd. Дата публикации: 2017-05-30.

Image processing device, imaging device, image processing method, and recording medium storing image processing program

Номер патента: US09544490B2. Автор: Takashi TOMIYASU. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2017-01-10.

Relaying device, image processing device, and system comprising image processing device and relaying device

Номер патента: US09432441B2. Автор: Masayuki Ishibashi. Владелец: Brother Industries Ltd. Дата публикации: 2016-08-30.

Image processing device

Номер патента: RU2706237C2. Автор: Кадзуси САТО. Владелец: Сони Корпорейшн. Дата публикации: 2019-11-15.

Information processing device and information processing method

Номер патента: RU2634837C2. Автор: Ясуаки ЯМАГИСИ,Хитоси НАКАМУРА. Владелец: Сони Корпорейшн. Дата публикации: 2017-11-07.

Image processing device and method

Номер патента: RU2641259C2. Автор: Ёситака МОРИГАМИ,Кадзуси САТО,Суо ЛУ. Владелец: Сони Корпорейшн. Дата публикации: 2018-01-16.

Data processing device, control over data processing device and programme

Номер патента: RU2560816C2. Автор: Йосихиде ТЕРАО. Владелец: Кэнон Кабусики Кайся. Дата публикации: 2015-08-20.

Digital image processing device and control method thereof

Номер патента: RU2599260C2. Автор: Ин-ра ДЗАНГ. Владелец: САМСУНГ ЭЛЕКТРОНИКС КО., ЛТД.. Дата публикации: 2016-10-10.

Data packet processing device and method

Номер патента: RU2693563C1. Автор: Хуань ЛИ,Вэй ЛУ. Владелец: Хуавэй Текнолоджиз Ко., Лтд.. Дата публикации: 2019-07-03.

Image processing device and method

Номер патента: RU2733096C2. Автор: Такэси ЦУКУБА. Владелец: Сони Корпорейшн. Дата публикации: 2020-09-29.

Electric wire holding structure for electric compressor and electric wire holding method for electric compressor

Номер патента: US20090315418A1. Автор: Takehiro Hasegawa. Владелец: Individual. Дата публикации: 2009-12-24.

Vibration motor holding structure and vibration motor

Номер патента: US20110285228A1. Автор: Kazuaki Sato,Mikio Umehara,Daichi Kadowaki. Владелец: Minebea Motor Manufacturing Corp. Дата публикации: 2011-11-24.

Information processing device, control method, and recording medium

Номер патента: US20240236255A1. Автор: Mitsuru Konji,Toshihiro Yokoyama. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-07-11.

Image processing device, output system, and output method

Номер патента: US12022046B2. Автор: Tsuyoshi Nagao. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 2024-06-25.

Information processing device, management program and management method for managing storage devices

Номер патента: US11706354B2. Автор: Yuichiro Sakuragi. Владелец: Brother Industries Ltd. Дата публикации: 2023-07-18.

Information processing device, information processing method, and program

Номер патента: US12033490B2. Автор: Ryusei Koike. Владелец: Sony Group Corp. Дата публикации: 2024-07-09.

Information processing device and information processing method

Номер патента: US20230050142A1. Автор: Yoshinori Kusayanagi,Takura Yanagi. Владелец: Nissan Motor Co Ltd. Дата публикации: 2023-02-16.

Information processing device, information processing method, and program

Номер патента: US20230396526A1. Автор: Yuki Ashino,Takashi Hitani,Masahiro Karube. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 2023-12-07.

Image processing device and method

Номер патента: US11882311B2. Автор: Takeshi Tsukuba. Владелец: Sony Group Corp. Дата публикации: 2024-01-23.

Information processing device, image-capturing device, and information processing method

Номер патента: US20230092368A1. Автор: Daijiro Ichijima. Владелец: Sony Group Corp. Дата публикации: 2023-03-23.

Information processing device, imaging device, and information processing method

Номер патента: EP4109881A1. Автор: Daijiro Ichijima. Владелец: Sony Group Corp. Дата публикации: 2022-12-28.

Radio frequency signal receiving device and signal processing device

Номер патента: EP3529905A1. Автор: Meryem Benammar,Iñaki Estella Aguerri,Abdellatif ZAIDI. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2019-08-28.

Signal processing device

Номер патента: US20230283305A1. Автор: Long Chen,Lisong Zhou. Владелец: WISTRON NEWEB CORP. Дата публикации: 2023-09-07.

Heating element for a substrate processing system.

Номер патента: NL2033372B1. Автор: Van Rijn Richard,Joseph Wehenkel Dominique. Владелец: Applied Nanolayers B V. Дата публикации: 2024-05-08.

Information processing device, information processing method, and computer program

Номер патента: US20120297060A1. Автор: Hiroshi Takagi. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2012-11-22.

Information processing device, information processing method, and program

Номер патента: EP3952281A1. Автор: HIRONORI Hattori,Koji Kamiya,Naohide Yamada,Satoshi Tsubaki. Владелец: Sony Group Corp. Дата публикации: 2022-02-09.

Signal processing device

Номер патента: US11838037B2. Автор: Long Chen,Lisong Zhou. Владелец: WISTRON NEWEB CORP. Дата публикации: 2023-12-05.

Image processing device for displaying device information and executing jobs based on received setting information

Номер патента: US12052397B2. Автор: Tsuyoshi Nagao. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 2024-07-30.

System and image processing device

Номер патента: US20210211549A1. Автор: Masahiko Takashima,Daisaku Imaizumi. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 2021-07-08.

Information processing device, management program and management method

Номер патента: US20220247876A1. Автор: Yuichiro Sakuragi. Владелец: Brother Industries Ltd. Дата публикации: 2022-08-04.

Image processing device, output system, and output method

Номер патента: US20230283735A1. Автор: Tsuyoshi Nagao. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 2023-09-07.

Wireless communication system, first processing device, and second processing device

Номер патента: US11354070B2. Автор: Kota NISHIDA. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2022-06-07.

Method for allocating a video conferencing task to a processing device

Номер патента: US20160286165A1. Автор: Roman Sorokin,Moulay Fadili. Владелец: ALE International SAS. Дата публикации: 2016-09-29.

Information processing device, information processing method, and program

Номер патента: EP4236480A2. Автор: Tomoya Yamaura,Takeshi Itagaki,Yusuke Tanaka,Yuichi Morioka. Владелец: Sony Group Corp. Дата публикации: 2023-08-30.

Information management system, information processing device, and non-transitory computer readable medium

Номер патента: US20150334092A1. Автор: Hiroaki Machida. Владелец: Fuji Xerox Co Ltd. Дата публикации: 2015-11-19.

Image processing device and method

Номер патента: US20240275970A1. Автор: Takeshi Tsukuba. Владелец: Sony Group Corp. Дата публикации: 2024-08-15.

MMT transmission system, encryption processing device, and receiver

Номер патента: US10554381B2. Автор: Tomoo Yamakage. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2020-02-04.

Mmt transmission system, encryption processing device, and receiver

Номер патента: US20160373247A1. Автор: Tomoo Yamakage. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2016-12-22.

Information processing method, information processing device, program, and recording medium

Номер патента: US20180357408A1. Автор: Shinichi Suzuki. Владелец: Toyota Motor Corp. Дата публикации: 2018-12-13.

An information processing device, method and computer program

Номер патента: WO2024160689A1. Автор: Nicolas Pierre Rose. Владелец: Sony Europe B.V.. Дата публикации: 2024-08-08.

Holding structure

Номер патента: US20150137761A1. Автор: Hung-Sen Yang. Владелец: Wistron Corp. Дата публикации: 2015-05-21.

System and method for integrating message content into a target data processing device

Номер патента: US11736587B2. Автор: Nicolas Guillon,Eduardo Rafael Lopez Ruiz. Владелец: Amadeus SAS. Дата публикации: 2023-08-22.

Video processing device, computer-readable recording medium storing video processing program, and video processing method

Номер патента: US20240259517A1. Автор: Yoshihide Kasai. Владелец: Roland Corp. Дата публикации: 2024-08-01.

Processing device, non-transitory recording medium storing computer-readable program, and data conversion system

Номер патента: US10621458B2. Автор: Yoshimi Nakayama. Владелец: KONICA MINOLTA INC. Дата публикации: 2020-04-14.

Carried image processing device

Номер патента: US20030147054A1. Автор: Jone Su. Владелец: Aiptek International Inc. Дата публикации: 2003-08-07.

Sound processing devices and corresponding methods and computer programs

Номер патента: US20230298608A1. Автор: Alexandru SERBANATI,Thomas CARETTE. Владелец: Sony Group Corp. Дата публикации: 2023-09-21.

Digital signal processing device and audio device

Номер патента: US20190335275A1. Автор: Satoshi Umemoto. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2019-10-31.

Method and devices for qualifying substrate-processing production processes

Номер патента: AU2002351691A1. Автор: Bernd Muller,Ulrich Wittreich,Hartmut Meier. Владелец: SIEMENS AG. Дата публикации: 2003-06-10.

Image processing device, output system, and output method

Номер патента: US20240314254A1. Автор: Tsuyoshi Nagao. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 2024-09-19.

Information processing device and method, and program

Номер патента: US20240314562A1. Автор: Noriyuki Suzuki. Владелец: Sony Group Corp. Дата публикации: 2024-09-19.

Data Structure, Model for Populating a Data Structure and Method of Programming a Processing Device Utilising a Data Structure

Номер патента: US20180032548A1. Автор: Seidel Benjamin. Владелец: . Дата публикации: 2018-02-01.

Substrate holding apparatus and polishing apparatus

Номер патента: US09550271B2. Автор: Hozumi Yasuda,Osamu Nabeya,Makoto Fukushima,Masahiko KISHIMOTO. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2017-01-24.

Substrate rotation processing device and substrate polishing device

Номер патента: US20240207999A1. Автор: Hiroki Miyamoto. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-06-27.

Biochip substrate holding method and biochip-reader

Номер патента: US20050136533A1. Автор: Takeo Tanaami,Yumiko Sugiyama. Владелец: Yokogawa Electric Corp. Дата публикации: 2005-06-23.

Tissue substrate holding device

Номер патента: US20130039820A1. Автор: Jacquelyn D. Marsing,Lynn Marsing. Владелец: Individual. Дата публикации: 2013-02-14.

Substrate-holding technique

Номер патента: US20050122505A1. Автор: Yoshikazu Miyajima. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2005-06-09.

Information processing device, substrate processing device, and information processing method

Номер патента: US20240302817A1. Автор: Takamasa Nakamura,Hirofumi OTAKI,Sho ICHINOSE. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-09-12.

Cup-shaped chuck of substrate holding device, and substrate holding device

Номер патента: EP4265825A1. Автор: HUI Wang,Jian Wang,Yinuo JIN,Zhaowei Jia,Hongchao YANG. Владелец: ACM Research Shanghai Inc. Дата публикации: 2023-10-25.

Cup-shaped chuck of substrate holding device and substrate holding device

Номер патента: US20240035189A1. Автор: HUI Wang,Jian Wang,Yinuo JIN,Zhaowei Jia,Hongchao YANG. Владелец: ACM Research Shanghai Inc. Дата публикации: 2024-02-01.

Substrate processing device and control method for substrate processing device

Номер патента: US20230201860A1. Автор: Jae Hong Kim,Young-Joo Seo,Sang Hyun Son,Sang Min HA,Hyeong Jun CHO. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2023-06-29.

Side holding structure and thermal transfer printing device

Номер патента: AU2023267801A1. Автор: Min Ai,Wenxiong Huang. Владелец: Hunan Sijiu Technology Co ltd. Дата публикации: 2024-07-18.

Fastener bracket, fastener kit, aircra.. structure and methods

Номер патента: EP4454867A1. Автор: Alexei Vichniakov. Владелец: AIRBUS OPERATIONS GMBH. Дата публикации: 2024-10-30.

Organic compound synthesizing device, light irradiation device, and substrate for organic compound synthesis

Номер патента: US20070224091A1. Автор: Hideaki Okayama. Владелец: Oki Data Corp. Дата публикации: 2007-09-27.

Substrate processing device and control method for substrate processing device

Номер патента: US20230211622A1. Автор: Jae Hong Kim,Young-Joo Seo,Sang Hyun Son,Sang Min HA,Hyeong Jun CHO. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2023-07-06.

Substrate processing device and method for measuring process gas temperature and concentration

Номер патента: US20240241042A1. Автор: Yuji Obata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-18.

Optical sheet holding structure and display apparatus

Номер патента: US09810834B2. Автор: Kouji Matsumoto,Ryota Kawabata. Владелец: Sakai Display Products Corp. Дата публикации: 2017-11-07.

System for identification and active control of vibrations in a structure and relating method

Номер патента: WO2020011591A1. Автор: Francesco Ripamonti,Alberto Bussini. Владелец: ISAAC S.R.L.. Дата публикации: 2020-01-16.

Knob holding structure and smart lock

Номер патента: EP4379174A1. Автор: Tetsuhiro Ishikawa,Yuji Yada. Владелец: Fujitsu Component Ltd. Дата публикации: 2024-06-05.

Information processing device, control method, and storage medium

Номер патента: US12072496B2. Автор: Katsumi Kikuchi,Yasunori BABAZAKI,Akane ARUGA. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 2024-08-27.

Paper roll holding structure and printer

Номер патента: US09475665B2. Автор: Takuya Tanaka. Владелец: Toshiba TEC Corp. Дата публикации: 2016-10-25.

Knob holding structure and smart lock

Номер патента: US20240177552A1. Автор: Tetsuhiro Ishikawa,Yuji Yada. Владелец: FCL COMPONENTS LIMITED. Дата публикации: 2024-05-30.

Pad rod for defecation pad and defecation processing device having same for companion animal

Номер патента: US20240057551A1. Автор: Jang Woon KIM. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-02-22.

Vibration generator holding structure and input device

Номер патента: US09798389B2. Автор: Akihiro Shinohe. Владелец: Alps Electric Co Ltd. Дата публикации: 2017-10-24.

Information processing device, information processing method, and recording medium

Номер патента: US20210150143A1. Автор: SADAMASA Kunihiko,Yuzuru Okajima,Shohei HIGASHIYAMA. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 2021-05-20.

Mirror holding structure and head-up display

Номер патента: US20230228968A1. Автор: Kousuke Sasaki,Daiki KAWAI. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2023-07-20.

Substrate Processing Apparatus

Номер патента: US20240219837A1. Автор: Ki Won Han,Jun Ho Seo. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-04.

Information processing device, information processing method, and information processing program

Номер патента: EP4276839A1. Автор: Hirokazu YARIMIZU,Yasushi HIKIDA. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2023-11-15.

Method for recycling substrate process components

Номер патента: WO2018182886A1. Автор: Brian T. West. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2018-10-04.

Method for recycling substrate process components

Номер патента: US20180281027A1. Автор: Brian T. West. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-10-04.

Image processing device, method, and program

Номер патента: EP4411069A1. Автор: Shuhei Horita. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-08-07.

Substrate processing apparatus control system and substrate processing apparatus control method

Номер патента: US20240149599A1. Автор: Beomjeong OH,Jong Nam NA. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-09.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09732421B2. Автор: Tsukasa Kamakura. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-08-15.

Substrate processing apparatus, simulation apparatus, storage medium and simulation method

Номер патента: US09558304B2. Автор: Satoko Yamamoto,Kimitoshi MIURA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-01-31.

Sheet glass processing device

Номер патента: RU2696473C1. Автор: Казуаки БАНДО. Владелец: Бандо Кико Ко., Лтд.. Дата публикации: 2019-08-01.

Brewing unit with optimized holding structure and method for operating such a brewing unit

Номер патента: CA3230943A1. Автор: Wolfgang Riessbeck,Yves Hug,Patrick Egger. Владелец: Eugster Frismag AG. Дата публикации: 2023-03-16.

Holding structure

Номер патента: US20240093828A1. Автор: David Rose,Philipp Werner,Steffen Nitschke,Daniel Renz,Rainer Schmidt-Sunnus. Владелец: Vibracoustic SE. Дата публикации: 2024-03-21.

Gas inlet tube assembly for an improved gas mixture in a substrate processing apparatus

Номер патента: US20240124981A1. Автор: DongRak Jung,Jongsu Kim,Arun THOTTAPPAYIL. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-04-18.

Multi-axis force-torque sensing device and holding structure for use therewith

Номер патента: EP4232786A1. Автор: Wim Desmet,Bert Pluymers,Jan CROES. Владелец: Katholieke Universiteit Leuven. Дата публикации: 2023-08-30.

Method for performing preventative maintenance in a substrate processing system

Номер патента: WO2011112968A1. Автор: Robert D. Clark,Cory Wajda,Steven P. CONSIGLIO. Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2011-09-15.

Structure, method for manufacturing structure, and processing device

Номер патента: EP4417409A1. Автор: Shigenori Nakata,Yoshimitsu Watanabe. Владелец: Adtec Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-21.

Holding structure for ready-to-use containers

Номер патента: US20240327055A1. Автор: Christian Komann,Ugljesa Babic,Petra Vilt,Yannick Dähler. Владелец: Schott Pharma Schweiz AG. Дата публикации: 2024-10-03.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09869022B2. Автор: Motoshi Sawada. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2018-01-16.

Fluid holding structure fluid circulating system

Номер патента: US09795937B2. Автор: John Ries. Владелец: Individual. Дата публикации: 2017-10-24.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240376603A1. Автор: Masato Kadobe. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-11-14.

Fluid holding structure fluid circulating system

Номер патента: US09630156B1. Автор: John Ries. Владелец: Individual. Дата публикации: 2017-04-25.

Booster cable holding structure

Номер патента: US09592778B2. Автор: Hideki Kawamura,Hiroki Tashiro. Владелец: Yazaki Corp. Дата публикации: 2017-03-14.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09487863B2. Автор: Kazuyuki Toyoda,Kazuhiro Morimitsu,Shun Matsui. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2016-11-08.

Linen processing device

Номер патента: RU2627008C2. Автор: Воосеонг КИМ,Дзинвоо СЕО,Воонгхой ВОН. Владелец: ЭлДжи ЭЛЕКТРОНИКС ИНК.. Дата публикации: 2017-08-02.

Processing device and processing method for etching and phosphating of metal parts

Номер патента: RU2691443C2. Автор: Йоахим ШЕНБЕРГ. Владелец: Рио Фервальтунгс Аг. Дата публикации: 2019-06-13.

Linen processing device

Номер патента: RU2628960C2. Автор: Сангвоок ХОНГ,Хиодзун КИМ,Янгсук КИМ. Владелец: ЭлДжи ЭЛЕКТРОНИКС ИНК.. Дата публикации: 2017-08-23.

Toilet seat sheet holding structure

Номер патента: US6041450A. Автор: Yasumas Akazawa. Владелец: Individual. Дата публикации: 2000-03-28.

Non-transitory computer-readable medium, information processing device, and management method

Номер патента: US12026416B2. Автор: Shintaro Kunimoto. Владелец: Brother Industries Ltd. Дата публикации: 2024-07-02.

System comprised of a floor processing device, a memory device and at least one accessory device

Номер патента: US20230157502A1. Автор: Frederic Hahn. Владелец: Vorwerk and Co Interholding GmbH. Дата публикации: 2023-05-25.

Method, apparatus and system for operating data processing devices

Номер патента: WO2005020053A2. Автор: Robert Dunstan,Dan Nowlin,Clifton W. Laney. Владелец: Intel Corporation. Дата публикации: 2005-03-03.

Method, apparatus and system for operating data processing devices

Номер патента: EP1656606A2. Автор: Robert Dunstan,Dan Nowlin,Clifton W. Laney. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2006-05-17.

Information processing device, information processing method, and non-transitory storage medium

Номер патента: US20240061665A1. Автор: Shinnosuke Nakashima. Владелец: Toyota Motor Corp. Дата публикации: 2024-02-22.

Non-transitory computer-readable medium, information processing device, and management method

Номер патента: US20230168852A1. Автор: Shintaro Kunimoto. Владелец: Brother Industries Ltd. Дата публикации: 2023-06-01.

Substrate processing method

Номер патента: US20180134607A1. Автор: Yasushi Ito,Kenichi Ichikawa,Kaori TATEISHI. Владелец: Via Mechanics Ltd. Дата публикации: 2018-05-17.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240309506A1. Автор: Sung Hwan Lee,Kun Woo Park,Woo Young Park,Jae Jin Han. Владелец: Wonik Ips Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-19.

Server, image processing device, and image processing system

Номер патента: US20130135677A1. Автор: Yuichi Ota. Владелец: Brother Industries Ltd. Дата публикации: 2013-05-30.

Data processing device

Номер патента: US20170249264A1. Автор: Hirokazu Tsuji,Keiji NAGAYANAGI. Владелец: Denso Corp. Дата публикации: 2017-08-31.

Infusion device having a processing device configured to determine a value indicative of a sensitivity of a sensor device

Номер патента: EP4398959A1. Автор: Rémy WOLFF. Владелец: FRESENIUS VIAL SAS. Дата публикации: 2024-07-17.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240329547A1. Автор: Shinichi Machidori. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-03.

Video processing device and video processing system

Номер патента: US12148221B2. Автор: Yuji Matsumoto,Yohei Ohmura. Владелец: Panasonic Automotive Systems Co Ltd. Дата публикации: 2024-11-19.

Substrate processing apparatus and method for detecting an abnormality of an ozone gas concentration

Номер патента: US09618493B2. Автор: Masaki Kondo. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-04-11.

Substrate processing apparatus and substrate processing system

Номер патента: US09606454B2. Автор: Takashi Taguchi,Joji KUWAHARA. Владелец: Screen Semiconductor Solutions Co Ltd. Дата публикации: 2017-03-28.

Screen module, processing device and processing unit for inorganic material

Номер патента: RU2625577C2. Автор: Петри КИННУНЕН. Владелец: Метсо Минералз, Инк.. Дата публикации: 2017-07-17.

Processing device of tape printer

Номер патента: RU2566915C2. Автор: Таиси САСАКИ. Владелец: СЕЙКО ЭПСОН КОРПОРЕЙШН. Дата публикации: 2015-10-27.

Image processing device and method for image processing device control

Номер патента: RU2637851C2. Автор: Хироси ИМАМУРА. Владелец: Кэнон Кабусики Кайся. Дата публикации: 2017-12-07.

Linen processing device and method of such device control

Номер патента: RU2737119C1. Автор: Сангвоок ХОНГ,Дзаехиук ДЗАНГ. Владелец: ЭлДжи ЭЛЕКТРОНИКС ИНК.. Дата публикации: 2020-11-24.

Image processing device, image processing method, and program

Номер патента: EP4177770A1. Автор: Noboru Yoshida,Jianquan Liu,Shoji Nishimura,Ryo Kawai,Yadong PAN. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 2023-05-10.

Surface treatment method and substrate treatment device

Номер патента: US20240191344A1. Автор: Yumiko Kawano,Hiroki Murakami,Shuji Azumo. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-13.

Job processing device, server and non-transitory recording medium storing a computer readable program

Номер патента: US20180275936A1. Автор: Shoichi Ayukawa. Владелец: KONICA MINOLTA INC. Дата публикации: 2018-09-27.

Information processing device, computer program product, and information processing method

Номер патента: US20150220072A1. Автор: Noriyuki Hirayama,Satoshi ODAKURA. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2015-08-06.

Settlement system, information processing device and server device

Номер патента: US20160162899A1. Автор: Hiroyuki Takeuchi,Ryuichi Yoshida,Yasumasa NAKAI,Hiroto YADA,Tatsuya Niwa. Владелец: Nintendo Co Ltd. Дата публикации: 2016-06-09.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: EP4393607A1. Автор: Masayuki Nakanishi,Masayuki Satake. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-07-03.

Modular sample processing device

Номер патента: CA3137269A1. Автор: Lee COFFEY,Tríona Marie DOOLEY-CULLINANE. Владелец: Waterford Institute of Technology. Дата публикации: 2020-12-03.

Modular sample processing device

Номер патента: EP3976252A1. Автор: Lee COFFEY,Tríona Marie DOOLEY-CULLINANE. Владелец: Waterford Institute of Technology. Дата публикации: 2022-04-06.

Method for removing vapors generated by processing device

Номер патента: US10406474B2. Автор: Li-Chin Lu,Jian-Hua Xiang. Владелец: Futaihua Industry Shenzhen Co Ltd. Дата публикации: 2019-09-10.

Data processing device, data driving device and system for driving display device

Номер патента: US11978383B2. Автор: Jung Min Choi. Владелец: LX Semicon Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-07.

Coal pyrolysis process device

Номер патента: AU2017416200B2. Автор: Fang Li,Shucheng Zhu,Xibin Wang,Guochao Cao,Jinfeng Li,Mingde LI,Yanwu LV. Владелец: Henan Longcheng Coal Efficient Technology Application Co Ltd. Дата публикации: 2020-03-12.

Methods and systems for energy-efficient scheduling of periodic tasks on a group of processing devices

Номер патента: WO2024000224A1. Автор: Lei Yu,Lan Wang. Владелец: ORANGE. Дата публикации: 2024-01-04.

System for processing device parts of simulated smoking devices

Номер патента: EP3823480A1. Автор: Oscar Slurink. Владелец: Sluis Cigar Machinery BV. Дата публикации: 2021-05-26.

Information-processing device deleting unspecified device information to complete setup process

Номер патента: US20210064387A1. Автор: Po Chun Chew,Mayumi Mio,Jun Komura. Владелец: Brother Industries Ltd. Дата публикации: 2021-03-04.

Image-processing device and display-control method for use in display-wall system

Номер патента: US20230084031A1. Автор: Wei-Lun Liu. Владелец: Wistron Corp. Дата публикации: 2023-03-16.

Method For Processing A Media Sheet In A Media Processing Device

Номер патента: US20090297194A1. Автор: Michael David Maul,Jichang Cao. Владелец: Individual. Дата публикации: 2009-12-03.

Information processing device and computer-readable recording medium

Номер патента: US20160328957A1. Автор: Kouichi Matsuda. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2016-11-10.

Systems and methods for reallocating image processing devices

Номер патента: US20140320891A1. Автор: Hisashi Kato. Владелец: Canon Information and Imaging Solutions Inc. Дата публикации: 2014-10-30.

System for processing device parts of simulated smoking devices

Номер патента: US20210294314A1. Автор: Oscar Slurink. Владелец: Sluis Cigar Machinery BV. Дата публикации: 2021-09-23.

System for processing device parts of simulated smoking devices

Номер патента: CA3105436A1. Автор: Oscar Slurink. Владелец: Sluis Cigar Machinery BV. Дата публикации: 2020-01-23.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240295024A1. Автор: Tatsuya Yamaguchi,Makoto Takahashi,Masato Kadobe. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-05.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240295023A1. Автор: Makoto Takahashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-05.

Lightpipe for high temperature substrate processing

Номер патента: US20240142310A1. Автор: Ji-Dih Hu. Владелец: Veeco Instruments Inc. Дата публикации: 2024-05-02.

Program, information processing device, and method

Номер патента: EP4428635A1. Автор: Hideki Sato,Eiji Kawai. Владелец: Chiyoda Corp. Дата публикации: 2024-09-11.

Management device that displays processing information for multiple processing devices

Номер патента: US12093581B2. Автор: Kimihiko Sasaki. Владелец: FUJIFILM BUSINESS INNOVATION CORP. Дата публикации: 2024-09-17.

Lightpipe for high temperature substrate processing

Номер патента: WO2024091827A3. Автор: Ji-Dih Hu. Владелец: VEECO INSTRUMENTS INC.. Дата публикации: 2024-07-04.

Lightpipe for high temperature substrate processing

Номер патента: WO2024091827A2. Автор: Ji-Dih Hu. Владелец: VEECO INSTRUMENTS INC.. Дата публикации: 2024-05-02.

MASS FLOW CONTROLLER, MASS FLOW CONTROLLER SYSTEM, SUBSTRATE PROCESSING DEVICE, AND GAS FLOW RATE ADJUSTING METHOD

Номер патента: US20120000542A1. Автор: . Владелец: KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA. Дата публикации: 2012-01-05.

SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD

Номер патента: US20120000886A1. Автор: NISHINO Masaru,HONDA Masanobu,Kubota Kazuhiro,Ooya Yoshinobu. Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2012-01-05.

SUBSTRATE PROCESSING INCLUDING A MASKING LAYER

Номер патента: US20120001320A1. Автор: Kumar Nitin,Duong Anh,Lang Chi-I,Chiang Tony P.,BOUSSIE Thomas R.,Malhotra Sandra G.,Fresco Zachary,Tong Jinhong. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

SUBSTRATE SUPPORT TABLE OF PLASMA PROCESSING DEVICE

Номер патента: US20120002345A1. Автор: . Владелец: MITSUBISHI HEAVY INDUSTRIES, LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

Holding structure and vehicle sunshade used thereof

Номер патента: MY161702A. Автор: GONG JING-SHYONG. Владелец: Creative & Coop Int Inc. Дата публикации: 2017-05-04.

SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND SUBSTRATE TRANSFER METHOD ADOPTED IN SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS

Номер патента: US20120004753A1. Автор: . Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2012-01-05.

SUBSTRATE STAGE, SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND SUBSTRATE PROCESSING SYSTEM

Номер патента: US20120000612A1. Автор: Muraki Yusuke,ODAGIRI Masaya,FUJIHARA Jin. Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2012-01-05.

SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS

Номер патента: US20120000629A1. Автор: . Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2012-01-05.

Chamber cleaning for substrate processing systems

Номер патента: WO2024196580A1. Автор: Hu Kang,Ming Li,Dong Wang,Xin Meng,Defu LIANG,Rohit ODE,Huifeng Zheng,Joseph Lindsey Womack. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2024-09-26.

AUDIO PROCESSING DEVICE, AUDIO PROCESSING METHOD, AND PROGRAM

Номер патента: US20120002828A1. Автор: . Владелец: SONY CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE-PROCESSING DEVICE AND IMAGE-PROCESSING METHOD, IMAGE-PICKUP DEVICE, AND COMPUTER PROGRAM

Номер патента: US20120002849A1. Автор: Tokuse Akira. Владелец: SONY CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

PHOTOGRAPHY APPARATUS, CONTROL METHOD, PROGRAM, AND INFORMATION PROCESSING DEVICE

Номер патента: US20120002883A1. Автор: OHWA Tsunayuki,ISHII Miruka,Gotoh Tomohiko,MOCHIZUKI Daisuke. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Radio-frequency Processing Device and Method and Related Wireless Communication Device

Номер патента: US20120003947A1. Автор: CHEN Wan-Ming,HO Chien-Ting,Su Chih-Chin,Lai Chung-Chi. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

GRIPPING DEVICE, TRANSFER DEVICE, PROCESSING DEVICE, AND MANUFACTURING METHOD FOR ELECTRONIC DEVICE

Номер патента: US20120004773A1. Автор: . Владелец: SHIBAURA MECHATRONICS CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE PROCESSING DEVICE AND IMAGE PROCESSING METHOD

Номер патента: US20120002067A1. Автор: . Владелец: SONY CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE PROCESSING DEVICE

Номер патента: US20120002885A1. Автор: . Владелец: Panasonic Corporation. Дата публикации: 2012-01-05.

System and methods for providing dynamic modular data processing device

Номер патента: RU2386163C2. Автор: Джейсон А. САЛЛИВАН. Владелец: Джейсон А. САЛЛИВАН. Дата публикации: 2010-04-10.

Document processing device

Номер патента: CA106034S. Автор: . Владелец: RDM Corp. Дата публикации: 2005-09-12.

Document processing device

Номер патента: CA99144S. Автор: . Владелец: RDM Corp. Дата публикации: 2003-04-30.