Substrate holding structure and substrate processing device
Номер патента: KR100796051B1
Опубликовано: 21-01-2008
Автор(ы): 데쓰야 사이토, 마스히로 나쓰하라, 스미 다나카, 히로히코 나카타
Принадлежит: 동경 엘렉트론 주식회사, 스미토모덴키고교가부시키가이샤
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Опубликовано: 21-01-2008
Автор(ы): 데쓰야 사이토, 마스히로 나쓰하라, 스미 다나카, 히로히코 나카타
Принадлежит: 동경 엘렉트론 주식회사, 스미토모덴키고교가부시키가이샤
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Substrate processing apparatus and substrate processing method
Номер патента: US12074048B2. Автор: Yuji Kawaguchi,Hiroki Harada,Tokutarou Hayashi,Tatsuhiko Tsujihashi,Tsuyoshi OTSUKA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-27.