기판 처리 장치 및 반도체 장치의 제조 방법 및 기록 매체
Номер патента: KR101724394B1
Опубликовано: 07-04-2017
Автор(ы): 유키 타이라, 카츠히코 야마모토
Принадлежит: 가부시키가이샤 히다치 고쿠사이 덴키
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Method of Manufacturing Semiconductor Device, Substrate Processing Method and Apparatus, Non-Transitory Computer Readable Recording Medium, and Semiconductor Device
Номер патента: US20140084389A1. Автор: Arito Ogawa. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2014-03-27.