Sputtering apparatus for coating at least one substrate and process for the regulation of the apparatus
Номер патента: EP1197580B1
Опубликовано: 17-03-2004
Автор(ы): Jürgen Prof. Dr.-Ing. Bechtloff, Manfred Czybik, Peter Hennes, Reimund Böwer
Принадлежит: Interpane Entwicklungs und Beratungs GmbH and Co KG
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 17-03-2004
Автор(ы): Jürgen Prof. Dr.-Ing. Bechtloff, Manfred Czybik, Peter Hennes, Reimund Böwer
Принадлежит: Interpane Entwicklungs und Beratungs GmbH and Co KG
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Method of manufacturing at least one sputter-coated substrate and sputter source
Номер патента: EP1969613B1. Автор: Siegfried Krassnitzer,Walter Haag,Pius Gruenenfelder,Stanislav Kadlec,Fachri Atamny. Владелец: Oerlikon Solar AG. Дата публикации: 2012-08-22.