PELLICLE SUPPORT FRAME, PELLICLE, METHOD FOR MANUFACTURING PELLICLE SUPPORT FRAME, AND EXPOSURE ORIGINAL PLATE AND EXPOSURE DEVICE EMPLOYING PELLICLE
Номер патента: US20210080824A1
Опубликовано: 18-03-2021
Автор(ы): Ishikawa Akira, Kohmura Kazuo, Okubo Atsushi, Ono Yosuke
Принадлежит: Mitsui Chemicals, Inc.
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 18-03-2021
Автор(ы): Ishikawa Akira, Kohmura Kazuo, Okubo Atsushi, Ono Yosuke
Принадлежит: Mitsui Chemicals, Inc.
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Support frame for pellicle, method for manufacturing pellicle and support frame for pellicle, and exposure plate and exposure apparatus using pellicle.
Номер патента: JPWO2019240166A1. Автор: 彰 石川,一夫 高村,敦 大久保,高村 一夫,陽介 小野. Владелец: Mitsui Chemicals Inc. Дата публикации: 2021-05-20.