CATIONICALLY POLYMERIZABLE RESIST UNDERLAYER FILM-FORMING COMPOSITION.

CATIONICALLY POLYMERIZABLE RESIST UNDERLAYER FILM-FORMING COMPOSITION

Номер патента: US20180081274A1
Опубликовано: 22-03-2018
Автор(ы): Kimura Shigeo, Kishioka Takahiro, OGATA Hiroto, Ohashi Tomoya, Usui Yuki
Принадлежит: NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.
Получить PDF файл: Открыть в новом окне

Рисунок 1. Взаимосвязь патентов (ближайшие 20).

Resist underlayer film forming composition for lithography, containing aromatic fused ring-containing resin

Номер патента: US20110207331A1. Автор: Takahiro Sakaguchi,Tomoyuki Enomoto,Tetsuya Shinjo. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2011-08-25.

Thick film-forming composition and method for manufacturing cured film using the same

Номер патента: EP4449200A1. Автор: Takanori Kudo,Yoshio Nojima,Takashi Sekito,Hiroshi Hitokawa. Владелец: Merck Patent GmBH. Дата публикации: 2024-10-23.

Film forming composition

Номер патента: US5078791A. Автор: Raj Subramaniam,Brij P. Singh. Владелец: NanoFilm Corp. Дата публикации: 1992-01-07.

Silicon-containing resist underlayer film forming composition having urea group

Номер патента: US09760006B2. Автор: Makoto Nakajima,Wataru Shibayama,Yuta Kanno. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2017-09-12.

Resist underlayer film-forming composition

Номер патента: US09534140B2. Автор: Shigeo Kimura,Hiroto Ogata,Tomoya Ohashi. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2017-01-03.

Resist underlayer film-forming composition containing copolymer that has triazine ring and sulfur atom in main chain

Номер патента: US09678427B2. Автор: Hiroto Ogata,Yuki Usui,Takahiro Kishioka,Yoshiomi Hiroi,Tomoya Ohashi. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2017-06-13.

Method for producing a lithography coating film forming-composition

Номер патента: FI20215686A1. Автор: Hiroki Yamaguchi,Suguru Sassa,Takumi Oya. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2022-01-11.

Method for producing a lithography coating film forming-composition

Номер патента: FI130927B1. Автор: Hiroki Yamaguchi,Suguru Sassa,Takumi Oya. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2024-05-30.

Metal oxide-containing film-forming composition, metal oxide-containing film-formed substrate, and patterning process

Номер патента: US20100086872A1. Автор: Tsutomu Ogihara,Takafumi Ueda,Toshiharu Yano. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2010-04-08.

Method for producing coating film-forming composition for lithography

Номер патента: US20210397091A1. Автор: Suguru Sassa,Tomoya Ohashi,Toyoshiro YOSHIDA. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2021-12-23.

Method for Producing Coating Film-Forming Composition for Lithography

Номер патента: FI130725B1. Автор: Suguru Sassa,Tomoya Ohashi,Toyoshiro YOSHIDA. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2024-02-12.

Resist underlayer film forming compositions for lithography, containing aromatic fused ring-containing resin

Номер патента: KR20090087097A. Автор: 타카히로 사카구치,테츠야 신조,토모유키 이노모토. Владелец: 닛산 가가쿠 고교 가부시키 가이샤. Дата публикации: 2009-08-14.

BASE FILM-FORMING COMPOSITION, AND DIRECTED SELF-ASSEMBLY LITHOGRAPHY METHOD

Номер патента: US20170088740A1. Автор: Nagai Tomoki,Naruoka Takehiko,KOMATSU Hiroyuki,MINEGISHI Shinya,SAKAI Kaori. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2017-03-30.

PATTERN-FORMING METHOD, AND SILICON-CONTAINING FILM-FORMING COMPOSITION

Номер патента: US20200117091A1. Автор: SEKO Tomoaki,SAKAI Tetsuya,SATOU Nozomi,TAJI Tomoya. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2020-04-16.

METAL-CONTAINING FILM-FORMING COMPOSITION, METAL-CONTAINING FILM AND PATTERN-FORMING METHOD

Номер патента: US20200159121A1. Автор: SERIZAWA Ryuichi,SATOU Nozomi,OOTSUBO Yuusuke. Владелец: JSR CORPORATION. Дата публикации: 2020-05-21.

Resist underlayer film-forming composition, resist underlayer film, resist underlayer film-forming process, and production method of patterned substrate

Номер патента: US20180046081A1. Автор: Masayuki Miyake,Kazunori Sakai,Tsubasa Abe,Kazunori Takanashi,Goji Wakamatsu. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2018-02-15.

Resist underlayer film-forming composition including cyclic carbonyl compound

Номер патента: US12072630B2. Автор: Keisuke Hashimoto,Makoto Nakajima,Hiroto Ogata,Hikaru TOKUNAGA. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2024-08-27.

Novolac resin-containing resist underlayer film-forming composition using bisphenol aldehyde

Номер патента: US20160068709A1. Автор: Takafumi Endo,Rikimaru Sakamoto,Keisuke Hashimoto,Hirokazu Nishimaki. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2016-03-10.

Silicon-containing EUV resist underlayer film-forming composition including additive

Номер патента: US09627217B2. Автор: Shuhei Shigaki,Rikimaru Sakamoto,Hiroaki Yaguchi,Wataru Shibayama,Bangching Ho. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2017-04-18.

Resist underlayer film-forming composition

Номер патента: US20170153548A1. Автор: Takafumi Endo,Rikimaru Sakamoto,Keisuke Hashimoto,Hirokazu Nishimaki. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2017-06-01.

Resist underlayer film-forming composition containing novolac resin to which aromatic vinyl compound is added

Номер патента: US12072629B2. Автор: Takafumi Endo,Rikimaru Sakamoto,Keisuke Hashimoto,Hirokazu Nishimaki. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2024-08-27.

Resist underlayer film-forming composition containing polymer having arylene group

Номер патента: US20170315445A1. Автор: Takafumi Endo,Rikimaru Sakamoto,Keisuke Hashimoto,Hirokazu Nishimaki. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2017-11-02.

Resist underlayer film forming composition containing triaryldiamine-containing novolac resin

Номер патента: US20190212649A1. Автор: Rikimaru Sakamoto,Keisuke Hashimoto,Daigo Saito. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2019-07-11.

Resist underlayer film-forming composition including cyclic carbonyl compound

Номер патента: US20210124268A1. Автор: Keisuke Hashimoto,Makoto Nakajima,Hiroto Ogata,Hikaru TOKUNAGA. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2021-04-29.

Resist underlayer film-forming composition that contains triaryldiamine-containing novolac resin to which aromatic vinyl compound is added

Номер патента: US12025916B2. Автор: Ryo Karasawa,Keisuke Hashimoto,Daigo Saito,Hirokazu Nishimaki. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2024-07-02.

Resist underlayer film-forming composition containing amide solvent

Номер патента: US11798810B2. Автор: Rikimaru Sakamoto,Satoshi Hamada,Keisuke Hashimoto,Hikaru TOKUNAGA. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2023-10-24.

Resist underlayer film-forming composition containing amide solvent

Номер патента: US20240006183A1. Автор: Rikimaru Sakamoto,Satoshi Hamada,Keisuke Hashimoto,Hikaru TOKUNAGA. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2024-01-04.

Resist underlayer film-forming composition containing terminal-blocked reaction product

Номер патента: US20230341777A1. Автор: Mamoru Tamura,Tomotada HIROHARA,Shou SHIMIZU. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2023-10-26.

Resist underlayer film-forming composition containing a reaction product of trifunctional compound

Номер патента: US20240004295A1. Автор: Mamoru Tamura,Shou SHIMIZU. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2024-01-04.

Resist underlayer film-forming composition

Номер патента: US20200201184A1. Автор: Mamoru Tamura,Hiroto Ogata,Takahiro Kishioka,Yuto HASHIMOTO. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2020-06-25.

Silicon-containing resist underlayer film-forming composition and patterning process

Номер патента: US20130137041A1. Автор: Tsutomu Ogihara,Fujio Yagihashi,Takafumi Ueda. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2013-05-30.

Resist underlayer film-forming composition containing indolocarbazole novolak resin

Номер патента: US20230324802A1. Автор: Rikimaru Sakamoto,Keisuke Hashimoto,Daigo Saito,Hikaru TOKUNAGA. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2023-10-12.

Underlayer film-forming composition

Номер патента: EP3832390A1. Автор: Masatoshi Echigo,Takashi Makinoshima,Yu Okada. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc. Дата публикации: 2021-06-09.

Chemical-resistant protective film forming composition containing hydroxyaryl-terminated polymer

Номер патента: US20240301126A1. Автор: Takafumi Endo,Tokio Nishita,Takahiro Kishioka,Yuki Endo,Shigetaka OTAGIRI. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2024-09-12.

Film-forming composition, film formed thereby, and method for manufacturing organic semiconductor element using same

Номер патента: US09842993B2. Автор: Yoshiharu Terui,Fumito Kobayashi,Haruhiko Komoriya,Ikunari Hara,Yukari Hara. Владелец: Central Glass Co Ltd. Дата публикации: 2017-12-12.

Upper film-forming composition and method for producing phase-separated pattern

Номер патента: US20230280654A1. Автор: Mamoru Tamura,Ryuta Mizuochi,Sho Shimizu. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2023-09-07.

Resist overlayer film forming composition and method for producing semiconductor device including the same

Номер патента: US09977331B2. Автор: Rikimaru Sakamoto,Noriaki Fujitani. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2018-05-22.

Resist overlayer film forming composition for lithography and method for manufacturing semiconductor device using the same

Номер патента: US09494864B2. Автор: Rikimaru Sakamoto,Bangching Ho,Ryuji Ohnishi. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2016-11-15.

Protective film forming composition having a diol structure

Номер патента: US11768436B2. Автор: Yasunobu Someya,Takafumi Endo,Takahiro Kishioka. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2023-09-26.

Chemical-resistant protective film forming composition containing hydroxyaryl-terminated polymer

Номер патента: US20220204686A1. Автор: Takafumi Endo,Tokio Nishita,Takahiro Kishioka,Yuki Endo,Shigetaka OTAGIRI. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2022-06-30.

Chemical-resistant protective film forming composition containing hydroxyaryl-terminated polymer

Номер патента: US11965059B2. Автор: Takafumi Endo,Tokio Nishita,Takahiro Kishioka,Yuki Endo,Shigetaka OTAGIRI. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2024-04-23.

Metal oxide film-forming composition, method for producing metal oxide films using same, and method for reducing volume shrinkage ratio of metal oxide films

Номер патента: EP4257644A1. Автор: Kenichi Yamauchi,Kunihiro Noda,Dai Shiota. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-11.

Metal oxide film-forming composition, method for producing metal oxide films using same, and method for reducing volume shrinkage ratio of metal oxide films

Номер патента: US20240027889A1. Автор: Kenichi Yamauchi,Kunihiro Noda,Dai Shiota. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-25.

ADDITIVE AND RESIST UNDERLAYER FILM-FORMING COMPOSITION CONTAINING THE SAME

Номер патента: US20170108777A1. Автор: Takase Kenji,Sakamoto Rikimaru,Sakaida Yasushi,HASHIMOTO Yuto. Владелец: NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.. Дата публикации: 2017-04-20.

RESIST UNDERLAYER FILM-FORMING COMPOSITION

Номер патента: US20190227438A1. Автор: Sakamoto Rikimaru,NISHITA Tokio. Владелец: NISSAN CHEMICAL CORPORATION. Дата публикации: 2019-07-25.

PROTECTIVE FILM FORMING COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING PROTECTIVE FILM FORMING COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD, AND METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRONIC DEVICE

Номер патента: US20190011835A1. Автор: Yonekuta Yasunori. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2019-01-10.

RESIST OVERLAYER FILM FORMING COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING SEMICONDUCTOR DEVICE INCLUDING THE SAME

Номер патента: US20170010535A1. Автор: Sakamoto Rikimaru,FUJITANI Noriaki. Владелец: NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.. Дата публикации: 2017-01-12.

Cationic polymerizable resist underlayer film forming composition

Номер патента: KR20170132806A. Автор: 토모야 오하시,히로토 오가타,유키 우스이,타카히로 키시오카,시게오 키무라. Владелец: 닛산 가가쿠 고교 가부시키 가이샤. Дата публикации: 2017-12-04.

Cationic polymerizable resist underlayer film forming composition

Номер патента: TWI662058B. Автор: 木村茂雄,緒方裕斗,臼井友輝,大橋智也,岸岡高広. Владелец: 日商日產化學工業股份有限公司. Дата публикации: 2019-06-11.

Cationic Polymerizable Resist Underlayer Film Forming Composition

Номер патента: KR102273332B1. Автор: 토모야 오하시,히로토 오가타,유키 우스이,타카히로 키시오카,시게오 키무라. Владелец: 닛산 가가쿠 가부시키가이샤. Дата публикации: 2021-07-06.

Composition for forming silicon-containing resist underlayer film and patterning process

Номер патента: US20200341377A1. Автор: Tsutomu Ogihara,Tsukasa Watanabe,Yusuke Biyajima,Masahiro Kanayama. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2020-10-29.

Resist underlayer film forming composition and method for forming resist pattern by use of the composition

Номер патента: TW201235789A. Автор: Takafumi Endo,Rikimaru Sakamoto,Noriaki Fujitani,Bang-Ching Ho,Ryuji Ohnishi. Владелец: Nissan Chemical Ind Ltd. Дата публикации: 2012-09-01.

Additive for resist underlayer film-forming composition and resist underlayer film-forming composition containing the same

Номер патента: US20190317405A1. Автор: Tokio Nishita,Rikimaru Sakamoto. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2019-10-17.

Additive for resist underlayer film-forming composition and resist underlayer film-forming composition containing the same

Номер патента: US10795261B2. Автор: Tokio Nishita,Rikimaru Sakamoto. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2020-10-06.

Additive for resist underlayer film forming composition and resist underlayer film forming composition containing the additive

Номер патента: JPWO2017086213A1. Автор: 力丸坂本,登喜雄西田,坂本　力丸. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2018-09-06.

Additive for resist underlayer film-forming composition, and resist underlayer film-forming composition containing such additive

Номер патента: WO2017086213A1. Автор: 登喜雄西田,坂本　力丸. Владелец: 日産化学工業株式会社. Дата публикации: 2017-05-26.

RESIST UNDERLAYER FILM-FORMING COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN USING THE SAME

Номер патента: US20170045820A1. Автор: Sakamoto Rikimaru,Sakaida Yasushi,FUJITANI Noriaki,NISHITA Tokio. Владелец: NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.. Дата публикации: 2017-02-16.

Resist underlayer film-forming composition containing copolymer that has triazine ring and sulfur atom in main chain

Номер патента: US20170038687A1. Автор: Hiroto Ogata,Yuki Usui,Takahiro Kishioka,Yoshiomi Hiroi,Tomoya Ohashi. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2017-02-09.

RESIST UNDERLAYER FILM FORMING COMPOSITION HAVING A DISULFIDE STRUCTURE

Номер патента: US20210063881A1. Автор: GOTO Yuichi,Someya Yasunobu,Endo Takafumi,MIZUOCHI Ryuta,KAMIBAYASHI Satoshi. Владелец: NISSAN CHEMICAL CORPORATION. Дата публикации: 2021-03-04.

THERMAL CROSSLINKING ACCELERATOR, POLYSILOXANE-CONTAINING RESIST UNDERLAYER FILM FORMING COMPOSITION CONTAINING SAME, AND PATTERNING PROCESS USING SAME

Номер патента: US20180081272A1. Автор: OGIHARA Tsutomu,BIYAJIMA Yusuke,Urano Hiroyuki. Владелец: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.. Дата публикации: 2018-03-22.

RESIST UNDERLAYER FILM-FORMING COMPOSITION CONTAINING NOVOLAC RESIN TO WHICH AROMATIC VINYL COMPOUND IS ADDED

Номер патента: US20170097568A1. Автор: HASHIMOTO Keisuke,Nishimaki Hirokazu,Sakamoto Rikimaru,Endo Takafumi. Владелец: NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.. Дата публикации: 2017-04-06.

SILICON-CONTAINING RESIST UNDERLAYER FILM-FORMING COMPOSITION HAVING HALOGENATED SULFONYLALKYL GROUP

Номер патента: US20170168397A1. Автор: Takeda Satoshi,Nakajima Makoto,Shibayama Wataru,Takase Kenji,Sakamoto Rikimaru,Wakayama Hiroyuki. Владелец: NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.. Дата публикации: 2017-06-15.

RESIST UNDERLAYER FILM-FORMING COMPOSITION CONTAINING POLYMER WHICH CONTAINS NITROGEN-CONTAINING RING COMPOUND

Номер патента: US20160186006A1. Автор: Sakamoto Rikimaru,Sakaida Yasushi,Ohnishi Ryuji,NISHITA Tokio,MIZUOCHI Ryuta. Владелец: NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.. Дата публикации: 2016-06-30.

RESIST UNDERLAYER FILM FORMING COMPOSITION

Номер патента: US20150212418A1. Автор: HASHIMOTO Keisuke,SHINJO Tetsuya,Nishimaki Hirokazu,Sakamoto Rikimaru,Endo Takafumi. Владелец: . Дата публикации: 2015-07-30.

RESIST UNDERLAYER FILM-FORMING COMPOSITION

Номер патента: US20200192224A1. Автор: Kishioka Takahiro,Usui Yuki,OGATA Hiroto,ENDO Masahisa. Владелец: NISSAN CHEMICAL CORPORATION. Дата публикации: 2020-06-18.

RESIST UNDERLAYER FILM-FORMING COMPOSITION COMPRISING CARBONYL-CONTAINING POLYHYDROXY AROMATIC RING NOVOLAC RESIN

Номер патента: US20150316850A1. Автор: HASHIMOTO Keisuke,SHINJO Tetsuya,Someya Yasunobu,Karasawa Ryo,Sakamoto Rikimaru. Владелец: . Дата публикации: 2015-11-05.

RESIST UNDERLAYER FILM FORMING COMPOSITION FOR LITHOGRAPHY CONTAINING POLYETHER STRUCTURE-CONTAINING RESIN

Номер патента: US20160320704A1. Автор: HASHIMOTO Keisuke,SHINJO Tetsuya,Kato Masakazu,Okuyama Hiroaki,Someya Yasunobu. Владелец: NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.. Дата публикации: 2016-11-03.

RESIST UNDERLAYER FILM-FORMING COMPOSITION CONTAINING POLYMER HAVING ARYLENE GROUP

Номер патента: US20170315445A1. Автор: HASHIMOTO Keisuke,Nishimaki Hirokazu,Sakamoto Rikimaru,Endo Takafumi. Владелец: NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.. Дата публикации: 2017-11-02.

RESIST UNDERLAYER FILM FORMING COMPOSITION FOR LITHOGRAPHY CONTAINING HYDROLYZABLE SILANE HAVING HALOGEN-CONTAINING CARBOXYLIC ACID AMIDE GROUP

Номер патента: US20170322491A1. Автор: Shibayama Wataru,Takase Kenji,Sakamoto Rikimaru. Владелец: NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.. Дата публикации: 2017-11-09.

RESIST UNDERLAYER FILM-FORMING COMPOSITION

Номер патента: US20150337164A1. Автор: Kimura Shigeo,Ohashi Tomoya,OGATA Hiroto. Владелец: . Дата публикации: 2015-11-26.

RESIST UNDERLAYER FILM-FORMING COMPOSITION

Номер патента: US20150362838A1. Автор: Sakamoto Rikimaru,FUJITANI Noriaki,Endo Takafumi. Владелец: . Дата публикации: 2015-12-17.

ELECTRON BEAM RESIST UNDERLAYER FILM-FORMING COMPOSITION CONTAINING LACTONE-STRUCTURE-CONTAINING POLYMER

Номер патента: US20160363863A1. Автор: Sakamoto Rikimaru,Sakaida Yasushi,MIZUOCHI Ryuta. Владелец: NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.. Дата публикации: 2016-12-15.

Additive and resist underlayer film forming composition containing the additive

Номер патента: TW201602140A. Автор: 境田康志,坂本力丸,橋本雄人,高瀬顕示. Владелец: 日產化學工業股份有限公司. Дата публикации: 2016-01-16.

Additive, and resist underlayer film-forming composition containing said additive

Номер патента: KR102100268B1. Автор: 유토 하시모토,야스시 사카이다,리키마루 사카모토,켄지 타카세. Владелец: 닛산 가가쿠 가부시키가이샤. Дата публикации: 2020-04-13.

Electron-beam resist underlayer film forming composition having polymer containing lactone structure

Номер патента: TWI640834B. Автор: 境田康志,坂本力丸,水落龍太. Владелец: 日商日產化學工業股份有限公司. Дата публикации: 2018-11-11.

Resist underlayer film-forming composition

Номер патента: KR101937895B1. Автор: 토모야 오하시,히로토 오가타,시게오 키무라. Владелец: 닛산 가가쿠 가부시키가이샤. Дата публикации: 2019-01-11.

Resist underlayer film-forming composition

Номер патента: CN104885010A. Автор: 大桥智也,绪方裕斗,木村茂雄. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2015-09-02.

Resist underlayer film forming composition containing hydroxy group-containing carbazole novolak resin

Номер патента: TW201241569A. Автор: Ryo Karasawa,Yasunobu Someya,Masakazu Kato,Keisuke Hashimoto,Tetsuya Shinjo,Hiroaki Okuyama. Владелец: Nissan Chemical Ind Ltd. Дата публикации: 2012-10-16.

Resist underlayer film forming composition comprising a copolymer having a triazine ring and a sulfur atom in the main chain

Номер патента: JP6458954B2. Автор: 佳臣広井,友輝臼井,高広岸岡,岸岡　　高広,裕斗緒方,智也大橋. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2019-01-30.

Resist underlayer film forming composition comprising a copolymer having a triazine ring and a sulfur atom in the main chain

Номер патента: JPWO2015098525A1. Автор: 佳臣広井,友輝臼井,高広岸岡,岸岡　　高広,裕斗緒方,智也大橋. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2017-03-23.

Resist underlayer film forming composition containing silicone having urea group

Номер патента: TW200951624A. Автор: Makoto Nakajima,Wataru Shibayama,Yuta Kanno. Владелец: Nissan Chemical Ind Ltd. Дата публикации: 2009-12-16.

SILICON-CONTAINING RESIST UNDERLAYER FILM-FORMING COMPOSITION HAVING ORGANIC GROUP HAVING ALIPHATIC POLYCYCLIC STRUCTURE

Номер патента: US20170153549A1. Автор: Takeda Satoshi,Nakajima Makoto,Shibayama Wataru,Sakamoto Rikimaru,Wakayama Hiroyuki,SHIGAKI Shuhei. Владелец: NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.. Дата публикации: 2017-06-01.

RESIST UNDERLAYER FILM-FORMING COMPOSITION COMPRISING EPOXY ADDUCT HAVING LONG-CHAIN ALKYL GROUP

Номер патента: US20180181001A1. Автор: Karasawa Ryo,Sakamoto Rikimaru,SAITO Daigo,Endo Takafumi. Владелец: NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.. Дата публикации: 2018-06-28.

Underlayer-film-forming composition for imprinting, and pattern formation method

Номер патента: EP2980831A4. Автор: Yuichiro Enomoto,Hirotaka Kitagawa. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2016-02-17.

Underlayer-film-forming composition for imprinting, and pattern formation method

Номер патента: WO2014157226A1. Автор: 北川　浩隆,雄一郎榎本. Владелец: 富士フイルム株式会社. Дата публикации: 2014-10-02.

Metal-containing film-forming composition, metal-containing film-forming composition manufacturing method, semiconductor device, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: JP6591058B2. Автор: 博文田中,田中　博文,靖剛茅場,昇子小野. Владелец: Mitsui Chemicals Inc. Дата публикации: 2019-10-16.

Compound, polymer, composition, film-forming composition, method for forming pattern, method for forming insulating film and method for producing compound, and method for producing iodine-containing vinyl polymer and acetylated derivative thereof

Номер патента: TW202120462A. Автор: 牧野嶋高史,越後雅敏,大松禎,片岡健太郎,松本正裕,新美結士. Владелец: 日商三菱瓦斯化學股份有限公司. Дата публикации: 2021-06-01.

RESIST-PROTECTIVE FILM-FORMING COMPOSITION AND PATTERNING PROCESS

Номер патента: US20130143163A1. Автор: Hatakeyama Jun. Владелец: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.. Дата публикации: 2013-06-06.

RESIST OVERLAYER FILM FORMING COMPOSITION FOR LITHOGRAPHY AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE SAME

Номер патента: US20150248057A1. Автор: Sakamoto Rikimaru,Ho Bangching,Ohnishi Ryuji. Владелец: . Дата публикации: 2015-09-03.

LIGHT ABSORBING POLYMER, METHOD OF ITS SYNTHESIS, AND FILM-FORMING COMPOSITION, AND ANTI-REFERENCE FILM PRODUCED BY USING THIS POLYMER

Номер патента: DE69736168T2. Автор: Wen-Bing Ogasa-gun KANG,Akihiko Tokida,Kayo Ogasa-gun ARAMAKI,Hatsuyuki Clariant TANAKA (Japan) K. K.,Ken Kimura. Владелец: AZ Electronic Materials USA Corp. Дата публикации: 2007-05-03.

Additive for resist underlayer film-forming composition and resist underlayer film-forming composition containing the same

Номер патента: US09927705B2. Автор: Takafumi Endo,Rikimaru Sakamoto,Noriaki Fujitani,Ryuji Ohnishi. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2018-03-27.

Resist underlayer film forming composition containing silicon having sulfone structure and amine structure

Номер патента: US09494862B2. Автор: Satoshi Takeda,Hiroyuki Wakayama,Makoto Nakajima,Kenji Takase,Yuta Kanno. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2016-11-15.

Resist underlayer film-forming composition comprising polymer having structural unit having urea linkage

Номер патента: US12025915B2. Автор: Tokio Nishita,Rikimaru Sakamoto,Yuichi Goto,Gun Son. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2024-07-02.

Resist underlayer film-forming composition and method for forming resist pattern using the same

Номер патента: US12072631B2. Автор: Yasunobu Someya,Hiroyuki Wakayama,Ryuta Mizuochi,Shou SHIMIZU. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2024-08-27.

Resist underlayer film-forming composition containing acid catalyst-supporting polymer

Номер патента: US20240310730A1. Автор: Mamoru Tamura,Hiroyuki Wakayama,Shou SHIMIZU. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2024-09-19.

Resist underlayer film-forming composition which contains alicyclic skeleton-containing carbazole resin

Номер патента: US09343324B2. Автор: Ryo Karasawa,Yasunobu Someya,Keisuke Hashimoto,Tetsuya Shinjo. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2016-05-17.

Resist underlayer film-forming composition

Номер патента: US12044969B2. Автор: Makoto Nakajima,Hiroto Ogata,Hirokazu Nishimaki,Hikaru TOKUNAGA. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2024-07-23.

Resist underlayer film-forming composition, process for forming resist underlayer film and patterning process

Номер патента: US20110177459A1. Автор: Tsutomu Ogihara,Katsuya Takemura,Toshihiko Fujii,Takeshi Kinsho,Takeru Watanabe,Daisuke Kori. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2011-07-21.

Metal-containing resist underlayer film-forming composition containing polyacid

Номер патента: US09725618B2. Автор: Satoshi Takeda,Hiroyuki Wakayama,Makoto Nakajima,Wataru Shibayama. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2017-08-08.

Film-forming composition containing silicone having crosslinking reactivity

Номер патента: US20180335698A1. Автор: Hiroyuki Wakayama,Makoto Nakajima,Masahisa Endo,Kenji Takase. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2018-11-22.

Underlayer film forming composition for lithography, underlayer film for lithography, and pattern formation method and purification method

Номер патента: US20220260910A1. Автор: Hiroaki Yamamoto,Masatoshi Echigo,Takashi Makinoshima. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc. Дата публикации: 2022-08-18.

Underlayer film forming composition for lithography, underlayer film, and pattern formation method

Номер патента: US20230324801A1. Автор: Hiroaki Yamamoto,Masatoshi Echigo,Takashi Makinoshima,Atsuko Iwasaki. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc. Дата публикации: 2023-10-12.

Semiconductor device production method employing silicon-containing resist underlayer film-forming composition including organic group having ammonium group

Номер патента: US11966164B2. Автор: Makoto Nakajima,Wataru Shibayama,Hayato Hattori,Ken ISHIBASHI. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2024-04-23.

Resist underlayer film-forming composition containing polymer which contains nitrogen-containing ring compound

Номер патента: US20160186006A1. Автор: Yasushi Sakaida,Tokio Nishita,Rikimaru Sakamoto,Ryuta Mizuochi,Ryuji Ohnishi. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2016-06-30.

Resist underlayer film-forming composition

Номер патента: US20240004296A1. Автор: Makoto Nakajima,Hirokazu Nishimaki,Hikaru TOKUNAGA. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2024-01-04.

Silicon-containing resist underlayer film forming composition having fluorine-based additive

Номер патента: US20130224957A1. Автор: Makoto Nakajima,Masayuki Haraguchi,Motonobu Matsuyama,Tomoko Misaki,Yuta Kanno. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2013-08-29.

Resist underlayer film-forming composition having benzylidenecyanoacetate group

Номер патента: US20230393479A1. Автор: Tokio Nishita,Takahiro Kishioka,Yuki Endo,Shun KUBODERA. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2023-12-07.

Chemical-resistant protective film-forming composition containing polymerization product of arylene compound having glycidyl group

Номер патента: US12077633B2. Автор: Takafumi Endo,Tokio Nishita,Ryuta Mizuochi. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2024-09-03.

Film forming composition, hardcoat film, polarizing plate, and method for manufacturing hydrophilized hardcoat film

Номер патента: US20180292589A1. Автор: Reiko Fukagawa,Akio Tamura,Taketo Otani. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2018-10-11.

Resist overlayer film forming composition for lithography and method for producing semiconductor device using the same

Номер патента: US09746768B2. Автор: Rikimaru Sakamoto,Noriaki Fujitani,Ryuji Ohnishi. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2017-08-29.

Dielectric film forming composition containing acyl germanium compound

Номер патента: US20240248400A1. Автор: Sanjay Malik,Binod B. De,William A. Reinerth,Stephanie Dilocker. Владелец: Fujifilm Electronic Materials USA Inc. Дата публикации: 2024-07-25.

Film-forming composition, silicon-containing film, and resist pattern-forming method

Номер патента: US12098282B2. Автор: Tatsuya Sakai,Hiromitsu Tanaka,Tomoaki Seko,Nozomi SATOU,Tomoya TAJI. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2024-09-24.

Dielectric film forming composition containing acyl germanium compound

Номер патента: WO2024147917A1. Автор: Sanjay Malik,Binod B. De,William A. Reinerth,Stephanie Dilocker. Владелец: Fujifilm Electronic Materials U.S.A., Inc.. Дата публикации: 2024-07-11.

Film-forming composition, resist pattern formation method, and polyhedral oligomeric silsesquioxane

Номер патента: US20240329534A1. Автор: Keiichi IBATA,Hayato Ouchi. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-03.

Low refractive index film-forming composition and method of forming low refractive index film using the same

Номер патента: US09605159B2. Автор: Kazuhiko Yamasaki,Satoko Higano. Владелец: Mitsubishi Materials Corp. Дата публикации: 2017-03-28.

Chemical solution-resistant protective film forming composition containing polymerization product having diol structure at terminal thereof

Номер патента: US20220145119A1. Автор: Takafumi Endo,Tokio Nishita. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2022-05-12.

Film forming composition for hard disk

Номер патента: US9217096B2. Автор: Taku Kato,Masayoshi Suzuki,Junpei Kobayashi,Keisuke Shuto. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2015-12-22.

Film forming composition for hard disk

Номер патента: US20130270222A1. Автор: Taku Kato,Masayoshi Suzuki,Junpei Kobayashi,Keisuke Shuto. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2013-10-17.

Dielectric film-forming composition

Номер патента: EP4232421A1. Автор: Raj Sakamuri,Sanjay Malik,Binod B. De,William A. Reinerth,Stephanie Dilocker. Владелец: Fujifilm Electronic Materials USA Inc. Дата публикации: 2023-08-30.

Composition for forming resist underlayer film

Номер патента: US20240201592A1. Автор: Masahisa Endo,Hayato Hattori,Hirokazu Nishimaki,Yuki MITSUTAKE. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2024-06-20.

Composition for forming resist underlayer film, resist underlayer film, method for forming resist pattern and method for producing semiconductor device

Номер патента: US20200142310A1. Автор: Rikimaru Sakamoto,Keisuke Hashimoto,Daigo Saito. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2020-05-07.

Additive for resist underlayer film forming composition and resist underlayer film forming composition containing the same

Номер патента: JPWO2010074075A1. Автор: 力丸坂本,佳臣広井,邦慶何,坂本　力丸. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2012-06-21.

Resist underlayer film forming composition, underlayer film for lithography, and pattern forming method

Номер патента: CN112005168A. Автор: 佐藤隆,越后雅敏,牧野岛高史. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc. Дата публикации: 2020-11-27.

Resist underlayer film-forming composition, underlayer film for lithography, and pattern formation method

Номер патента: EP3786710A4. Автор: Takashi Sato,Masatoshi Echigo,Takashi Makinoshima. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc. Дата публикации: 2021-06-23.

Resist underlayer film forming composition and method for forming resist pattern in which same is used

Номер патента: WO2015163195A1. Автор: 康志境田,登喜雄西田,徳昌藤谷,坂本　力丸. Владелец: 日産化学工業株式会社. Дата публикации: 2015-10-29.

Resist underlayer film-forming composition and method for forming resist pattern using the same

Номер патента: US9910354B2. Автор: Yasushi Sakaida,Tokio Nishita,Rikimaru Sakamoto,Noriaki Fujitani. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2018-03-06.

Silicon-containing condensate, silicon-containing resist underlayer film forming composition, and pattern forming method

Номер патента: JP6603115B2. Автор: 勤荻原,恵介新井田,靖之山本. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2019-11-06.

Silicon-containing resist underlayer film-forming composition and patterning process

Номер патента: US20130137271A1. Автор: Tsutomu Ogihara,Takafumi Ueda,Yoshinori Taneda. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2013-05-30.

SILICON-CONTAINING RESIST UNDERLAYER FILM-FORMING COMPOSITION HAVING PHENYL GROUP-CONTAINING CHROMOPHORE

Номер патента: US20200026191A1. Автор: Takeda Satoshi,Nakajima Makoto,Shibayama Wataru,Takase Kenji. Владелец: NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.. Дата публикации: 2020-01-23.

Resist underlayer film-forming composition for lithography containing polymer having blocked isocyanate structure

Номер патента: US20170045818A1. Автор: Ryo Karasawa,Yasunobu Someya,Takafumi Endo,Tokio Nishita,Rikimaru Sakamoto. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2017-02-16.

RESIST UNDERLAYER FILM-FORMING COMPOSITION INCLUDING CYCLIC CARBONYL COMPOUND

Номер патента: US20210124268A1. Автор: HASHIMOTO Keisuke,Nakajima Makoto,OGATA Hiroto,TOKUNAGA Hikaru. Владелец: NISSAN CHEMICAL CORPORATION. Дата публикации: 2021-04-29.

RESIST UNDERLAYER FILM-FORMING COMPOSITION CONTAINING SUBSTITUTED CROSSLINKABLE COMPOUND

Номер патента: US20160139509A1. Автор: HASHIMOTO Keisuke,SHINJO Tetsuya,Takase Kenji,Sakamoto Rikimaru,Endo Takafumi. Владелец: NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.. Дата публикации: 2016-05-19.

RESIST UNDERLAYER FILM-FORMING COMPOSITION CONTANING PYRROLE NOVOLAC RESIN

Номер патента: US20160147151A1. Автор: HASHIMOTO Keisuke,SHINJO Tetsuya,Nishimaki Hirokazu,Someya Yasunobu,Karasawa Ryo,Endo Takafumi. Владелец: NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.. Дата публикации: 2016-05-26.

RESIST UNDERLAYER FILM-FORMING COMPOSITION

Номер патента: US20170153548A1. Автор: HASHIMOTO Keisuke,Nishimaki Hirokazu,Sakamoto Rikimaru,Endo Takafumi. Владелец: NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.. Дата публикации: 2017-06-01.

RESIST UNDERLAYER FILM-FORMING COMPOSITION

Номер патента: US20200201184A1. Автор: Kishioka Takahiro,Tamura Mamoru,OGATA Hiroto,HASHIMOTO Yuto. Владелец: NISSAN CHEMICAL CORPORATION. Дата публикации: 2020-06-25.

RESIST UNDERLAYER FILM FORMING COMPOSITION CONTAINING TRIARYLDIAMINE-CONTAINING NOVOLAC RESIN

Номер патента: US20190212649A1. Автор: HASHIMOTO Keisuke,Sakamoto Rikimaru,SAITO Daigo. Владелец: NISSAN CHEMICAL CORPORATION. Дата публикации: 2019-07-11.

Resist underlayer film-forming composition

Номер патента: US20170250079A1. Автор: Tokio Nishita,Rikimaru Sakamoto,Noriaki Fujitani. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2017-08-31.

RESIST UNDERLAYER FILM FORMING COMPOSITION

Номер патента: US20190294046A1. Автор: HASHIMOTO Keisuke,Nishimaki Hirokazu,Sakamoto Rikimaru. Владелец: NISSAN CHEMICAL CORPORATION. Дата публикации: 2019-09-26.

RESIST UNDERLAYER FILM-FORMING COMPOSITION CONTAINING NOVOLAC POLYMER HAVING SECONDARY AMINO GROUP

Номер патента: US20160326396A1. Автор: HASHIMOTO Keisuke,Nishimaki Hirokazu,Sakamoto Rikimaru,Endo Takafumi. Владелец: NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.. Дата публикации: 2016-11-10.

Resist underlayer film-forming composition containing long chain alkyl group-containing novolac

Номер патента: US20180314154A1. Автор: Ryo Karasawa,Takafumi Endo,Rikimaru Sakamoto,Daigo Saito. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2018-11-01.

Resist underlayer film forming composition using a fluorene compound

Номер патента: US20200379350A1. Автор: Rikimaru Sakamoto,Keisuke Hashimoto,Hikaru TOKUNAGA. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2020-12-03.

RESIST UNDERLAYER FILM-FORMING COMPOSITION CONTAINING INDOLOCARBAZOLE NOVOLAK RESIN

Номер патента: US20220404707A1. Автор: HASHIMOTO Keisuke,Sakamoto Rikimaru,SAITO Daigo,TOKUNAGA Hikaru. Владелец: NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.. Дата публикации: 2022-12-22.

Resist underlayer film-forming composition for lithography containing polymer having acrylamide structure and acrylic acid ester structure

Номер патента: US10295907B2. Автор: Ryo Karasawa,Yasunobu Someya,Takafumi Endo,Tokio Nishita,Rikimaru Sakamoto. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2019-05-21.

Resist underlay film-forming composition

Номер патента: KR102401259B1. Автор: 리키마루 사카모토,토키오 니시타,노리아키 후지타니. Владелец: 닛산 가가쿠 가부시키가이샤. Дата публикации: 2022-05-24.

Resist underlayer film forming composition

Номер патента: KR102328436B1. Автор: 야스시 사카이다,타카히로 키시오카,리키마루 사카모토,켄지 타카세. Владелец: 닛산 가가쿠 가부시키가이샤. Дата публикации: 2021-11-18.

Semiconductor device manufacturing method using silicon-containing resist underlayer film forming composition for solvent development

Номер патента: KR102515849B1. Автор: 사토시 타케다,마코토 나카지마,유타 칸노,히로유키 와카야마. Владелец: 닛산 가가쿠 가부시키가이샤. Дата публикации: 2023-03-30.

Resist underlayer film forming composition containing novolak resin to which aromatic vinyl compound is added

Номер патента: JP6583636B2. Автор: 力丸坂本,圭祐橋本,坂本　力丸,橋本　圭祐,貴文遠藤,裕和西巻. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2019-10-02.

Resist underlayer film forming composition

Номер патента: JP6901704B2. Автор: 力丸坂本,圭祐橋本,坂本　力丸,橋本　圭祐,裕和西巻. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2021-07-14.

Resist underlayer film forming composition containing heterocyclic compound

Номер патента: KR20220079813A. Автор: 사토시 카미바야시,유키 엔도. Владелец: 닛산 가가쿠 가부시키가이샤. Дата публикации: 2022-06-14.

Resist underlayer film forming composition for lithography containing hydrolyzable silane having carbonate skeleton

Номер патента: US10838303B2. Автор: Rikimaru Sakamoto,Makoto Nakajima,Yuichi Goto,Wataru Shibayama. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2020-11-17.

Silicon-containing resist underlayer film forming composition having an organic group containing a protected aliphatic alcohol

Номер патента: JPWO2012039337A1. Автор: 誠中島,裕太菅野,中島　誠,諭武田. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2014-02-03.

Silicon-containing euv resist underlayer film forming composition containing onium sulfonate

Номер патента: TWI590002B. Автор: 志垣修平,坂本力丸,柴山亘. Владелец: 日產化學工業股份有限公司. Дата публикации: 2017-07-01.

Resist underlayer film-forming composition containing novolac polymer having secondary amino group

Номер патента: CN105874386A. Автор: 坂本力丸,西卷裕和,桥本圭祐,远藤贵文. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2016-08-17.

Silicon-containing resist underlayer film forming composition having aliphatic polycyclic structure-containing organic group

Номер патента: TWI723956B. Автор: 志垣修平,坂本力丸,若山浩之,柴山亘,武田諭,中島誠. Владелец: 日商日產化學工業股份有限公司. Дата публикации: 2021-04-11.

Resist underlayer film forming composition containing silicone having protected aliphatic alcohol-containing organic group

Номер патента: TW201227176A. Автор: Satoshi Takeda,Makoto Nakajima,Yuta Kanno. Владелец: Nissan Chemical Ind Ltd. Дата публикации: 2012-07-01.

Resist underlayer film forming composition

Номер патента: TW201413394A. Автор: Takafumi Endo,Rikimaru Sakamoto,Keisuke Hashimoto,Tetsuya Shinjo,Hirokazu Nishimaki. Владелец: Nissan Chemical Ind Ltd. Дата публикации: 2014-04-01.

Resist underlay film-forming composition

Номер патента: WO2016063805A1. Автор: 登喜雄西田,徳昌藤谷,坂本　力丸. Владелец: 日産化学工業株式会社. Дата публикации: 2016-04-28.

Resist underlayer film forming composition for lithography containing polymer that contains acrylamide structure and acrylic acid ester structure

Номер патента: WO2015178236A1. Автор: 涼柄澤,登喜雄西田,坂本　力丸,安信染谷,貴文遠藤. Владелец: 日産化学工業株式会社. Дата публикации: 2015-11-26.

Resist underlayer film forming composition containing polyhydroxy aromatic ring novolac resin having carbonyl group

Номер патента: TWI646396B. Автор: 坂本力丸,染谷安信,柄澤涼,新城徹也,橋本圭裕. Владелец: 日商日產化學工業股份有限公司. Дата публикации: 2019-01-01.

Resist underlayer film forming composition containing copolymer resin having heterocyclic ring

Номер патента: CN104067175A. Автор: 坂本力丸,西卷裕和,桥本圭祐,新城彻也,柄泽凉,染谷安信. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2014-09-24.

Resist underlayer film forming composition

Номер патента: TW202109194A. Автор: 西卷裕和,中島誠,緒方裕斗,広原知忠. Владелец: 日商日產化學股份有限公司. Дата публикации: 2021-03-01.

Resist underlayer film forming composition containing novolak resin reacted with aromatic methylol compound

Номер патента: JPWO2016021594A1. Автор: 力丸坂本,圭祐橋本,坂本　力丸,橋本　圭祐,貴文遠藤,裕和西巻. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2017-05-25.

Resist underlayer film forming composition having improved flattening property

Номер патента: TW201920344A. Автор: 西卷裕和,遠藤貴文. Владелец: 日商日產化學工業股份有限公司. Дата публикации: 2019-06-01.

Resist underlayer film forming composition containing novolak resin to which aromatic vinyl compound is added

Номер патента: JPWO2015151803A1. Автор: 力丸坂本,圭祐橋本,坂本　力丸,橋本　圭祐,貴文遠藤,裕和西巻. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2017-04-13.

Resist underlayer film-forming composition

Номер патента: US20220229368A1. Автор: Makoto Nakajima,Hiroto Ogata,Hirokazu Nishimaki,Tomotada HIROHARA. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2022-07-21.

Resist underlayer film forming composition for lithography containing polymer having blocked isocyanate structure

Номер патента: CN106233206B. Автор: 坂本力丸,柄泽凉,远藤贵文,染谷安信,西田登喜雄. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2020-01-03.

Amide solvent-containing resist underlayer film-forming composition

Номер патента: WO2018131562A1. Автор: 坂本　力丸,橋本　圭祐,光 ▲徳▼永,聡志濱田. Владелец: 日産化学工業株式会社. Дата публикации: 2018-07-19.

Resist underlayer film-forming composition containing silicon having phenyl group-containing chromophore

Номер патента: WO2015194555A1. Автор: 中島　誠,亘柴山,顕司高瀬,諭武田. Владелец: 日産化学工業株式会社. Дата публикации: 2015-12-23.

Lithography resist underlayer film-forming-composition containing hydrolyzable silane having carbonate skeleton

Номер патента: KR102426422B1. Автор: 리키마루 사카모토,와타루 시바야마,마코토 나카지마,유이치 고토. Владелец: 닛산 가가쿠 가부시키가이샤. Дата публикации: 2022-07-28.

Resist underlayer film-forming composition containing heterocyclic compound

Номер патента: US20220356297A1. Автор: Yuki Endo,Satoshi KAMIBAYASHI. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2022-11-10.

Silicon-containing resist underlayer film-forming composition and patterning process

Номер патента: KR20130060137A. Автор: 츠토무 오기하라,다카후미 우에다,요시노리 다네다. Владелец: 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2013-06-07.

Resist underlayer film forming composition

Номер патента: KR20200043312A. Автор: 히로토 오가타,유키 우스이,타카히로 키시오카,마사히사 엔도. Владелец: 닛산 가가쿠 가부시키가이샤. Дата публикации: 2020-04-27.

Resist underlayer film-forming composition with suppressed denaturation of crosslinking agent

Номер патента: KR20220161272A. Автор: 사토시 카미바야시,유키 엔도,슌 쿠보데라, 쿠보데라. Владелец: 닛산 가가쿠 가부시키가이샤. Дата публикации: 2022-12-06.

Resist underlayer film forming composition containing novolac resin to which aromatic methylol compound reacted

Номер патента: TW201620981A. Автор: 坂本力丸,西卷裕和,遠藤貴文,橋本圭祐. Владелец: 日產化學工業股份有限公司. Дата публикации: 2016-06-16.

Silicon-containing resist underlayer film-forming composition and patterning process

Номер патента: EP2599818B1. Автор: Tsutomu Ogihara,Takafumi Ueda,Yoshinori Taneda. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2017-02-01.

Resist underlayer film forming composition

Номер патента: WO2019059210A1. Автор: 高広岸岡,裕斗緒方,護田村. Владелец: 日産化学株式会社. Дата публикации: 2019-03-28.

Resist underlayer film forming composition

Номер патента: JP7011226B2. Автор: 力丸坂本,高広岸岡,康志境田,顕司高瀬. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2022-01-26.

Resist underlayer film-forming composition containing a reaction product of a trifunctional compound

Номер патента: KR20230082015A. Автор: 마모루 타무라,쇼우 시미즈. Владелец: 닛산 가가쿠 가부시키가이샤. Дата публикации: 2023-06-08.

Resist underlayer film forming composition

Номер патента: JPWO2019039355A1. Автор: 友輝臼井,高広岸岡,岸岡　　高広,雅久遠藤,裕斗緒方. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2020-07-30.

A resist underlayer film forming composition for lithography containing a polymer containing an acrylamide structure and an acrylic acid ester structure.

Номер патента: JP7037127B2. Автор: 力丸坂本,涼柄澤,登喜雄西田,安信染谷,貴文遠藤. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2022-03-16.

Resist underlayer film forming composition using fluorene compound

Номер патента: JP7056651B2. Автор: 力丸坂本,圭祐橋本,光 ▲徳▼永. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2022-04-19.

The resist underlayer film forming composition

Номер патента: KR20190004259A. Автор: 야스시 사카이다,타카히로 키시오카,리키마루 사카모토,켄지 타카세. Владелец: 닛산 가가쿠 가부시키가이샤. Дата публикации: 2019-01-11.

Resist underlayer film forming composition containing silicone having onium group

Номер патента: US20110143149A1. Автор: Makoto Nakajima,Wataru Shibayama,Yuta Kanno. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2011-06-16.

Silicon-containing resist underlayer film forming composition having phenyl group-containing chromophore

Номер патента: JP6562220B2. Автор: 誠中島,中島　誠,亘柴山,顕司高瀬,諭武田. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2019-08-21.

Resist underlayer film forming composition for lithography containing hydrolyzable silane having carbonate skeleton

Номер патента: TWI689784B. Автор: 坂本力丸,柴山亘,中島誠,後藤裕一. Владелец: 日商日產化學工業股份有限公司. Дата публикации: 2020-04-01.

Resist underlayer film forming composition containing silicone having sulfonamide group

Номер патента: TW201127880A. Автор: Makoto Nakajima,Wataru Shibayama,Yuta Kanno. Владелец: Nissan Chemical Ind Ltd. Дата публикации: 2011-08-16.

Resist underlayer film-forming composition containing reaction product of trifunctional compound

Номер патента: TW202229389A. Автор: 清水祥,田村護. Владелец: 日商日產化學股份有限公司. Дата публикации: 2022-08-01.

A resist underlayer film forming composition for lithography containing a hydrolyzable silane having a carbonate skeleton.

Номер патента: JP6754098B2. Автор: 力丸坂本,誠中島,裕一後藤,坂本　力丸,中島　誠,亘柴山. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2020-09-09.

Resist underlayer film forming composition

Номер патента: KR102391745B1. Автор: 리키마루 사카모토,히로카즈 니시마키,케이스케 하시모토. Владелец: 닛산 가가쿠 가부시키가이샤. Дата публикации: 2022-04-28.

SILICON-CONTAINING RESIST UNDERLAYER FILM-FORMING COMPOSITION HAVING PHENYL GROUP-CONTAINING CHROMOPHORE

Номер патента: US20170146906A1. Автор: Takeda Satoshi,Nakajima Makoto,Shibayama Wataru,Takase Kenji. Владелец: NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.. Дата публикации: 2017-05-25.

RESIST UNDERLAYER FILM-FORMING COMPOSITION CONTAINING NOVOLAC RESIN REACTED WITH AROMATIC METHYLOL COMPOUND

Номер патента: US20170227850A1. Автор: HASHIMOTO Keisuke,Nishimaki Hirokazu,Sakamoto Rikimaru,Endo Takafumi. Владелец: NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.. Дата публикации: 2017-08-10.

Semiconductor device manufacturing method using silicon-containing resist underlayer film forming composition for solvent development

Номер патента: KR20220027252A. Автор: 사토시 타케다,마코토 나카지마,유타 칸노,히로유키 와카야마. Владелец: 닛산 가가쿠 가부시키가이샤. Дата публикации: 2022-03-07.

Resist underlayer film forming composition containing novolac resin reacted with aromatic methylol compound

Номер патента: KR20170042500A. Автор: 리키마루 사카모토,타카후미 엔도,히로카즈 니시마키,케이스케 하시모토. Владелец: 닛산 가가쿠 고교 가부시키 가이샤. Дата публикации: 2017-04-19.

Film-forming material for semiconductor, member-forming material for semiconductor, process member-forming material for semiconductor, underlayer film-forming material, underlayer film, and semiconductor device

Номер патента: US20240352203A1. Автор: Masatomi Irisawa,Hiromasa Saito,Yousuke MURAMATSU,Mizuki SUZUKI. Владелец: Adeka Corp. Дата публикации: 2024-10-24.

Resist underlayer film forming method and pattern forming method

Номер патента: JP6711104B2. Автор: 直矢野坂,剛史若松,翼阿部,裕史松村,嘉夫滝本. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2020-06-17.

Film-forming material for semiconductor, member-forming material for semiconductor, process member-forming material for semiconductor, underlayer film-forming material, underlayer film, and semiconductor device

Номер патента: EP4375750A1. Автор: Masatomi Irisawa,Hiromasa Saito,Yousuke MURAMATSU,Mizuki SUZUKI. Владелец: Adeka Corp. Дата публикации: 2024-05-29.

Resist agent underlayer film forming composition and method for forming resistant pattern using the same

Номер патента: TWI652304B. Автор: 境田康志,坂本力丸,西田登喜雄,藤谷徳昌. Владелец: 日商日產化學工業股份有限公司. Дата публикации: 2019-03-01.

UNDERLAYER FILM FORMING COMPOSITION

Номер патента: US20210294214A1. Автор: ECHIGO Masatoshi,MAKINOSHIMA Takashi,OKADA Yu. Владелец: . Дата публикации: 2021-09-23.

Underlayer film forming composition using antimony compound

Номер патента: TW201906885A. Автор: 坂本力丸,德永光,橋本圭祐. Владелец: 日商日產化學工業股份有限公司. Дата публикации: 2019-02-16.

Underlayer film-forming composition

Номер патента: EP3832390A4. Автор: Masatoshi Echigo,Takashi Makinoshima,Yu Okada. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc. Дата публикации: 2021-09-22.

Color filter underlayer film forming resin composition

Номер патента: JPWO2016013344A1. Автор: 安達　勲,勲安達,崇洋坂口. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2017-04-27.

Protective film-forming composition having acetal structure and amide structure

Номер патента: US12044968B2. Автор: Takafumi Endo,Tokio Nishita,Takahiro Kishioka,Yuki Endo. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2024-07-23.

Metal oxide film-forming composition, method for producing metal oxide films using same, and method for reducing volume shrinkage ratio of metal oxide films

Номер патента: EP4257644A4. Автор: Kenichi Yamauchi,Kunihiro Noda,Dai Shiota. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-22.

CURED FILM-FORMING COMPOSITION

Номер патента: US20200019061A1. Автор: HOSHINO Yuki,YUKAWA Shojiro. Владелец: NISSAN CHEMICAL CORPORATION. Дата публикации: 2020-01-16.

FILM FORMING COMPOSITION CONTAINING FLUORINE-CONTAINING SURFACTANT

Номер патента: US20210102088A1. Автор: Umezaki Makiko,Karasawa Ryo,SHIGAKI Shuhei,MIZUOCHI Ryuta. Владелец: NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.. Дата публикации: 2021-04-08.

PROTECTIVE FILM-FORMING COMPOSITION

Номер патента: US20200183282A1. Автор: Kishioka Takahiro,Ohashi Tomoya,Sakaida Yasushi,OGATA Hiroto,TOKUNAGA Hikaru,HASHIMOTO Yuto. Владелец: NISSAN CHEMICAL CORPORATION. Дата публикации: 2020-06-11.

Resist underlying film forming composition

Номер патента: US20200209753A1. Автор: Mamoru Tamura,Hiroto Ogata,Takahiro Kishioka. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2020-07-02.

Film forming composition containing fluorine-containing surfactant

Номер патента: US20160347965A1. Автор: Shuhei Shigaki,Ryo Karasawa,Ryuta Mizuochi,Makiko Umezaki. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2016-12-01.

Resist underlayer film-forming composition including reaction product of acid dianhydride

Номер патента: US12099303B2. Автор: Mamoru Tamura,Yuki Kato,Tomotada HIROHARA. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2024-09-24.

Resist underlayer film forming composition for lithography containing polyether structure-containing resin

Номер патента: US09746772B2. Автор: Yasunobu Someya,Masakazu Kato,Keisuke Hashimoto,Tetsuya Shinjo,Hiroaki Okuyama. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2017-08-29.

Resist underlayer film forming composition and method of forming resist pattern using the same

Номер патента: US20100221657A1. Автор: Takafumi Endo,Rikimaru Sakamoto,Tomohisa Ishida,Yoshiomi Hiroi. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2010-09-02.

Resist underlayer film forming composition that contains novolac resin having polynuclear phenol

Номер патента: US09469777B2. Автор: Ryo Karasawa,Yasunobu Someya,Takafumi Endo,Rikimaru Sakamoto,Keisuke Hashimoto,Tetsuya Shinjo,Hirokazu Nishimaki. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2016-10-18.

Resist underlayer film-forming composition including reaction product of acid dianhydride

Номер патента: US20240118620A1. Автор: Mamoru Tamura,Yuki Kato,Tomotada HIROHARA. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2024-04-11.

Resist underlayer film forming composition for lithography containing polyether structure-containing resin

Номер патента: US20160320704A1. Автор: Yasunobu Someya,Masakazu Kato,Keisuke Hashimoto,Tetsuya Shinjo,Hiroaki Okuyama. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2016-11-03.

Film-forming composition having a multiple bond

Номер патента: US20240085792A1. Автор: Mamoru Tamura,Tomotada HIROHARA. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2024-03-14.

Film-forming composition

Номер патента: US20230176481A1. Автор: Shuhei Shigaki,Satoshi Takeda,Makoto Nakajima,Wataru Shibayama,Kodai KATO,Ken ISHIBASHI. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2023-06-08.

Color correction material, film-forming composition, and optical filter

Номер патента: US20110049446A1. Автор: Tatsuya Ishida,Yosuke Maeda,Satoshi Yanagisawa. Владелец: Adeka Corp. Дата публикации: 2011-03-03.

Curable film-forming compositions demonstrating adhesion to diverse substrates and fast sandability

Номер патента: US20240228822A9. Автор: Scott J. Moravek,Davina J. Schwartzmiller,Ian Michael Jones. Владелец: PPG Industries Ohio Inc. Дата публикации: 2024-07-11.

Under layer film-forming composition for imprints and method of forming pattern

Номер патента: US09796803B2. Автор: Yuichiro Enomoto,Hirotaka Kitagawa,Akiko Hattori. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2017-10-24.

Film-forming composition

Номер патента: US09618654B2. Автор: Masaaki Ozawa,Shigeru Mitsui,Naoya Nishimura,Masashi Abe,Takahiro Kaseyama,Yasufumi Shikauchi,Natsumi Murakami. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2017-04-11.

Film-forming composition

Номер патента: US09502592B2. Автор: Taku Kato,Masaaki Ozawa,Naoya Nishimura,Yasuyuki Koide,Kei Yasui,Hideki Musashi. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2016-11-22.

Triazine ring-containing polymer and film-forming composition containing same

Номер патента: US09469729B2. Автор: Masaaki Ozawa,Naoya Nishimura,Yasuyuki Koide. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2016-10-18.

Curable film-forming compositions demonstrating adhesion to diverse substrates and fast sandability

Номер патента: AU2021429979A1. Автор: Scott J. Moravek,Davina J. Schwartzmiller,Ian Michael Jones. Владелец: PPG Industries Ohio Inc. Дата публикации: 2023-08-24.

Curable film-forming compositions demonstrating adhesion to diverse substrates and fast sandability

Номер патента: EP4298165A1. Автор: Scott J. Moravek,Davina J. Schwartzmiller,Ian Michael Jones. Владелец: PPG Industries Ohio Inc. Дата публикации: 2024-01-03.

Flattening film forming composition for hard disk

Номер патента: US9523020B2. Автор: Taku Kato,Masaaki Ozawa,Masayuki Haraguchi. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2016-12-20.

Curable film-forming compositions demonstrating adhesion to diverse substrates and fast sandability

Номер патента: US20240132746A1. Автор: Scott J. Moravek,Davina J. Schwartzmiller,Ian Michael Jones. Владелец: PPG Industries Ohio Inc. Дата публикации: 2024-04-25.

Flattening film forming composition for hard disk

Номер патента: US20140235743A1. Автор: Taku Kato,Masaaki Ozawa,Masayuki Haraguchi. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2014-08-21.

Film forming composition, hardcoat film, polarizing plate, and method for manufacturing hydrophilized hardcoat film

Номер патента: US10641938B2. Автор: Reiko Fukagawa,Akio Tamura,Taketo Otani. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2020-05-05.

Film forming composition for lithography, resist pattern formation method, and circuit pattern formation method

Номер патента: US20230333469A1. Автор: Takashi Sato,Masatoshi Echigo,Tadashi Omatsu,Takashi Makinoshima. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc. Дата публикации: 2023-10-19.

Euv resist underlayer film-forming composition

Номер патента: US20230060697A1. Автор: Mamoru Tamura,Hiroyuki Wakayama,Ryuta Mizuochi,Shou SHIMIZU. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2023-03-02.

Euv resist underlayer film-forming composition

Номер патента: US20230296984A1. Автор: Mamoru Tamura,Shou SHIMIZU. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2023-09-21.

Resist underlayer film-forming composition

Номер патента: US20230359123A1. Автор: Makoto Nakajima,Hirokazu Nishimaki,Hikaru TOKUNAGA. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2023-11-09.

RESIST UNDERLAYER FILM-FORMING COMPOSITION COMPRISING POLYMER HAVING STRUCTURAL UNIT HAVING UREA LINKAGE

Номер патента: US20200124965A1. Автор: GOTO Yuichi,Sakamoto Rikimaru,NISHITA Tokio,SON Gun. Владелец: NISSAN CHEMICAL CORPORATION. Дата публикации: 2020-04-23.

RESIST UNDERLYING FILM-FORMING COMPOSITION CONTAINING AN AMIDE GROUP-CONTAINING POLYESTER

Номер патента: US20200041905A1. Автор: Kishioka Takahiro,Usui Yuki,Tamura Mamoru,OGATA Hiroto. Владелец: NISSAN CHEMICAL CORPORATION. Дата публикации: 2020-02-06.

Resist overlayer film forming composition for lithography

Номер патента: US20140255847A1. Автор: Takafumi Endo,Rikimaru Sakamoto,Ryuji Ohnishi. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2014-09-11.

Resist underlayer film-forming composition containing polymer having alicyclic hydrocarbon group

Номер патента: US20240302745A1. Автор: Mamoru Tamura,Shou SHIMIZU. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2024-09-12.

Silicon-containing resist underlayer film-forming composition having sulfone structure

Номер патента: US09524871B2. Автор: Makoto Nakajima,Takahiro Kishioka,Yuta Kanno,Daisuke Sakuma. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2016-12-20.

Resist underlayer film forming composition and method for forming pattern

Номер патента: EP3757678A1. Автор: Takashi Sato,Masatoshi Echigo,Takashi Makinoshima. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc. Дата публикации: 2020-12-30.

Pattern-forming method and resist underlayer film-forming composition

Номер патента: US09607849B2. Автор: Toru Kimura,Takashi Mori,Yoshio Takimoto,Shinya Minegishi,Kyoyu Yasuda,Shinya NAKAFUJI,Kazuhiko KOUMURA. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2017-03-28.

Naphthalene unit-containing resist underlayer film-forming composition

Номер патента: US20240302747A1. Автор: Mamoru Tamura,Hiroto Ogata,Ryuta Mizuochi,Tomotada HIROHARA. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2024-09-12.

Silicon-containing resist underlayer film-forming composition

Номер патента: US20240295815A1. Автор: Shuhei Shigaki,Satoshi Takeda,Wataru Shibayama,Kodai KATO. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2024-09-05.

Resist underlayer film-forming composition comprising fluoroalkyl group-containing organic acid or salt thereof

Номер патента: US20230333474A1. Автор: Tetsuya Kimura,Hirokazu Nishimaki. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2023-10-19.

Method of manufacturing semiconductor device using organic underlayer film forming composition for solvent development lithography process

Номер патента: US09384977B2. Автор: Yasunobu Someya,Rikimaru Sakamoto,Satoshi Takeda,Keisuke Hashimoto,Tetsuya Shinjo. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2016-07-05.

Pattern forming method using resist underlayer film

Номер патента: US09793131B2. Автор: Shigeo Kimura,Hiroto Ogata,Yuki Usui,Tomoya Ohashi. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2017-10-17.

Underlayer film-forming composition for use in forming a microphase-separated pattern

Номер патента: US20190359749A1. Автор: Yasunobu Someya,Rikimaru Sakamoto,Hiroyuki Wakayama,Ryuta Mizuochi. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2019-11-28.

Composition for forming silicon-containing resist underlayer film removable by wet process

Номер патента: US11815815B2. Автор: Hiroyuki Wakayama,Makoto Nakajima,Masahisa Endo,Wataru Shibayama. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2023-11-14.

Film-forming compositions obtained from acyclic carbonates or polyamines, preparation method thereof and coated article

Номер патента: RU2406742C2. Автор: Грегори Дж. МакКОЛЛАМ,Алан Дж. КАЙЛО,Томас С. МОРИЭРИТИ,Эсваракришнан ВЕНКАТАЧАЛАМ,Мэтью СКОТТ,Джеффри Р. мл. ВЕБСТЕР,Джудит А. ОРЦЕШОВСКИ,Кевин Дж. ДАФФОРД,Дейвид Роберт ФЕНН. Владелец: Ппг Индастриз Огайо, Инк.. Дата публикации: 2010-12-20.

Curable film-forming compositions containing lithium silicates as corrosion inhibitors, and multilayered metal substrates with coating

Номер патента: RU2727808C2. Автор: Эрик Л. МОРРИС,Майкл А. МЭЙО,Элизабет А. ФУРАР,Томми Дж. БАНТЕН. Владелец: Прк-Десото Интернэшнл, Инк.. Дата публикации: 2020-07-24.

Acrylic polymers, cured film-forming compositions obtained therefrom and method for reducing accumulation of dirt on substrate

Номер патента: RU2655786C1. Автор: Ноэль Р. ВАНЬЕР,Деннис А. СИМПСОН,Шанти СВАРУП,Сянлин СЮЙ,Марк Е. ЭНДЛИШ. Владелец: Ппг Индастриз Огайо, Инк.. Дата публикации: 2018-05-30.

Film-forming composition containing agent capable of trapping formaldehyde

Номер патента: RU2558104C2. Автор: Бенжамен БЛАНШАР,Катажина ХУДА. Владелец: Сэн-Гобэн Адфорс. Дата публикации: 2015-07-27.

Silica-based film-forming composition, method of producing substrate including silica-based film, and additive added to silica-based film-forming composition

Номер патента: US20200024463A1. Автор: Yasushi Fujii. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2020-01-23.

Curable film-forming compositions containing reactive functional polymers and polysiloxane resins, multilayer composite coatings, and methods for their use

Номер патента: EP4365251A3. Автор: Susan Fundy Donaldson,Shanti Swarup,Matthew S. Luchansky,Jason Ryan Lewis. Владелец: PPG Industries Ohio Inc. Дата публикации: 2024-07-17.

Methods of preparing coated substrates and non-aqueous, curable film-forming compositions used therefor

Номер патента: WO2024215380A1. Автор: David N. Walters,David Joseph FORTMAN. Владелец: PPG Industries Ohio, Inc.. Дата публикации: 2024-10-17.

Film forming composition and film forming method using the same

Номер патента: US20210115253A1. Автор: Masakazu Kobayashi,Go Noya,Yuki Ozaki. Владелец: Merck Patent GmBH. Дата публикации: 2021-04-22.

Film forming composition and film forming method using the same

Номер патента: EP3607001A1. Автор: Masakazu Kobayashi,Go Noya,Yuki Ozaki. Владелец: Merck Patent GmBH. Дата публикации: 2020-02-12.

Wafer edge protective-film-forming composition for semiconductor manufacturing

Номер патента: EP4398035A1. Автор: Rikimaru Sakamoto,Satoshi Takeda,Takahiro Kishioka,Hayato Hattori,Shunsuke MORIYA. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2024-07-10.

LaNiO3 THIN FILM-FORMING COMPOSITION AND METHOD OF FORMING LaNiO3 THIN FILM USING THE SAME

Номер патента: US20140287136A1. Автор: Nobuyuki Soyama,Jun Fujii,Hideaki Sakurai. Владелец: Mitsubishi Materials Corp. Дата публикации: 2014-09-25.

Methods of improving burnish resistance using curable film-forming compositions demonstrating burnish resistance and low gloss

Номер патента: US09969900B2. Автор: Scott J. Moravek,Stephen John Thomas,Shantilal MOHNOT. Владелец: PPG Industries Ohio Inc. Дата публикации: 2018-05-15.

Curable film-forming compositions and method of mitigating dirt build-up on a substrate

Номер патента: US09688873B2. Автор: Shanti Swarup,W David Polk. Владелец: PPG Industries Ohio Inc. Дата публикации: 2017-06-27.

Film-forming composition and embedding material

Номер патента: US09434856B2. Автор: Masaaki Ozawa,Naoya Nishimura,Takahiro Kaseyama. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2016-09-06.

Upper-layer film forming composition and method for producing a phase-separated pattern

Номер патента: US20190233559A1. Автор: Yasunobu Someya,Rikimaru Sakamoto,Hiroyuki Wakayama,Ryuta Mizuochi. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2019-08-01.

A Transparent Film-Forming Composition for Producing a Near-Infrared Shielding Coating and a Method of Producing Thereof

Номер патента: US20240263023A1. Автор: Choo Ann GAN,Chooi Yang GAN. Владелец: Kristalbond Technologies Sdn Bhd. Дата публикации: 2024-08-08.

Transparent coating film forming composition

Номер патента: US20200199406A1. Автор: Tatsuro Kaneko. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2020-06-25.

Transparent silicone film-forming composition and method for curing same

Номер патента: AU2002300703B2. Автор: Kazutoshi Yoshihara,Satoshi Sawamura. Владелец: Individual. Дата публикации: 2007-01-25.

Transparent silicone film-forming composition and method for curing same

Номер патента: GB2382349B. Автор: Kazutoshi Yoshihara,Satoshi Sawamura. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-01-18.

Transparent silicone film-forming composition and method for curing same

Номер патента: EP1288270B8. Автор: Kazutoshi Yoshihara,Satoshi Sawamura. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-06-14.

Transparent silicone film-forming composition and method for curing same

Номер патента: GB2382349C. Автор: Kazutoshi Yoshihara,Satoshi Sawamura. Владелец: Individual. Дата публикации: 2007-04-05.

Curable film-forming compositions and coated articles prepared therewith

Номер патента: US20240336806A1. Автор: Ronald J. Kralic, Jr.,Steven E. Bowles,Hongying Zhou. Владелец: PPG Industries Ohio Inc. Дата публикации: 2024-10-10.

Curable film-forming compositions containing encapsulated catalyst components

Номер патента: US09650480B2. Автор: Wei Wang,Scott J. Moravek,Steven Bowles,Adam Bradley Powell,David Fenn,Davina Schwartzmiller. Владелец: PPG Industries Ohio Inc. Дата публикации: 2017-05-16.

Silicous film forming composition comprising block copolymer and method for producing siliceous film using same

Номер патента: US20220041814A1. Автор: Takashi Fujiwara,Atsuhiko Sato. Владелец: Merck Patent GmBH. Дата публикации: 2022-02-10.

Curable film-forming compositions and coated structures with improved corrosion resistance and durability

Номер патента: US20240218205A1. Автор: César Alejandro Bernabé NAVA ORTIZ,Ganesh Desai. Владелец: PPG Industries Ohio Inc. Дата публикации: 2024-07-04.

Curable film-forming compositions and coated structures with improved corrosion resistance and durability

Номер патента: EP4330306A1. Автор: Ganesh S. Desai,César Alejandro Bernabé NAVA ORTIZ. Владелец: PPG Industries Ohio Inc. Дата публикации: 2024-03-06.

Film-forming composition, insulating film and electronic device using the same

Номер патента: US20070066782A1. Автор: Hidetoshi Hiraoka. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 2007-03-22.

Film-forming composition and cosmetic

Номер патента: US20170240677A1. Автор: Emi Akabane. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2017-08-24.

Silicon-containing film forming composition and method for manufacturing silicon-containing film using the same

Номер патента: US20240262697A1. Автор: Takashi Fujiwara,Atsuhiko Sato,Naoko Nakamoto,Hideyuki TAKAGISHI. Владелец: Merck Electronics Ltd. Дата публикации: 2024-08-08.

Thin film forming composition for energy storage device electrodes

Номер патента: US20230099896A1. Автор: Takuma Nagahama,Takahiro Kaseyama,Mari Yajima. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2023-03-30.

Electroconductive-film-forming composition and method for producing electroconductive film

Номер патента: US09868864B2. Автор: Toru Watanabe,Yuuichi Hayata,Hiroaki Tsuyama. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2018-01-16.

Niobium-containing film forming compositions and vapor deposition of niobium-containing films

Номер патента: US09786671B2. Автор: Wontae NOH,Clement Lansalot-Matras. Владелец: LAir Liquide SA pour lEtude et lExploitation des Procedes Georges Claude. Дата публикации: 2017-10-10.

Tantalum-containing film forming compositions and vapor deposition of tantalum-containing films

Номер патента: US09748249B2. Автор: Wontae NOH,Clement Lansalot-Matras. Владелец: LAir Liquide SA pour lEtude et lExploitation des Procedes Georges Claude. Дата публикации: 2017-08-29.

Vanadium-containing film forming compositions and vapor deposition of vanadium-containing films

Номер патента: US09691771B2. Автор: Wontae NOH,Clement Lansalot-Matras. Владелец: LAir Liquide SA pour lEtude et lExploitation des Procedes Georges Claude. Дата публикации: 2017-06-27.

Vanadium-containing film forming compositions and vapor deposition of vanadium-containing films

Номер патента: US09691770B2. Автор: Wontae NOH,Clement Lansalot-Matras. Владелец: LAir Liquide SA pour lEtude et lExploitation des Procedes Georges Claude. Дата публикации: 2017-06-27.

Film-forming composition

Номер патента: US09534144B2. Автор: Taku Kato,Masaaki Ozawa,Yoshinari Koyama,Naoya Nishimura,Natsumi Murakami. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2017-01-03.

Curable film-forming compositions containing reactive functional polymers and polysiloxane resins, multi-layered composition coatings and methods for use thereof

Номер патента: RU2755296C2. Автор: Джейсон Райан ЛЬЮИС,Хунин ЧЖОУ,Мэтью С. ЛУЧАНСКИ,Шанти СВАРУП,Джон У. БЁРГМАН,Джастин ДЖОНС,Даниэль КИРБИ,Сьюзан Фанди ДОНАЛДСОН,Бинь ЦАО. Владелец: Ппг Индастриз Огайо, Инк.. Дата публикации: 2021-09-15.

Dielectric Film-Forming Composition

Номер патента: US20240254268A1. Автор: Raj Sakamuri,Sanjay Malik,Binod B. De,William A. Reinerth,Stephanie Dilocker. Владелец: Fujifilm Electronic Materials USA Inc. Дата публикации: 2024-08-01.

High-solids curable film-forming compositions and methods of improving appearance of coatings containing effect pigments

Номер патента: US20240327564A1. Автор: Jun Deng,Hongying Zhou. Владелец: PPG Industries Ohio Inc. Дата публикации: 2024-10-03.

Film-forming composition

Номер патента: US09745470B2. Автор: Naoya Nishimura,Daisuke Maeda. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2017-08-29.

Curable film-forming compositions with longer overlapping time

Номер патента: RU2703131C1. Автор: Гуанлян ТАН,Михаил ХУДЯКОВ. Владелец: Прк-Десото Интернэшнл, Инк.. Дата публикации: 2019-10-15.

Thermally cured film-forming compositions providing advantages in the appearance and effectiveness in runoff control

Номер патента: RU2770730C2. Автор: Мэтью С. ЛУЧАНСКИ,Дэниел Ф. МОЙАНО,Митчелл Р. СТИББАРД. Владелец: Ппг Индастриз Огайо, Инк.. Дата публикации: 2022-04-21.

Curable film-forming compositions containing branched-chain acrylic polymers with hydroxyl functional groups, and multilayer composite coatings

Номер патента: RU2717065C1. Автор: Шанти СВАРУП,Джейсон Льюис. Владелец: Ппг Индастриз Огайо, Инк.. Дата публикации: 2020-03-17.

Curable film-forming compositions containing lithium silicates as the corrosion inhibitors and coated multi-layer metal substrates

Номер патента: RU2682604C1. Автор: Эрик Л. МОРРИС,Майкл А. МЭЙО,Элизабет А. ФУРАР,Томми Дж. БАНТЕН. Владелец: Прк-Десото Интернэшнл, Инк.. Дата публикации: 2019-03-19.

Acid etch resistant film-forming compositions and composite coating compositions

Номер патента: US6136443A. Автор: George W. Mauer,Daniel D. Kish,Melissa S. Rush-Batista. Владелец: PPG Industries Ohio Inc. Дата публикации: 2000-10-24.

Flexible aminoplast-curable film-forming compositions providing films having resistance to acid etching

Номер патента: US5663244A. Автор: Steven V. Barancyk,Christopher A. Verardi,William A. Humphrey. Владелец: PPG Industries Inc. Дата публикации: 1997-09-02.

Curable film-forming compositions containing lithium silicates as corrosion inhibitors and multilayer coated metal substrates

Номер патента: CA2987053C. Автор: Eric L. Morris,Michael A. Mayo,Elizabeth A. Furar,Tommy G. BUNTEN. Владелец: PRC Desoto International Inc. Дата публикации: 2020-03-10.

Curable film-forming compositions containing hydroxyl functional acrylic polymers and bisurea compounds and multilayer composite coatings

Номер патента: CA3062831C. Автор: Shanti Swarup,John W. Burgman,Hongying Zhou,Justin Jones,Matthew S. Luchansky,Jason Ryan Lewis,Danielle Kirby. Владелец: Lewis Jason Ryan. Дата публикации: 2021-08-03.

Film-forming compositions having improved scratch resistance

Номер патента: US6541119B2. Автор: Thomas R. Hockswender,Masayuki Nakajima,Lawrence G. Anderson,Richard J. Sadvary,Dennis A. Simpson,Truman F. Wilt. Владелец: PPG Industries Ohio Inc. Дата публикации: 2003-04-01.

Flexible aminoplast-curable film-forming compositions providing films having resistance to acid etching

Номер патента: CA2188832C. Автор: Steven V. Barancyk,Christopher A. Verardi,William A. Humphrey. Владелец: PPG Industries Ohio Inc. Дата публикации: 2000-06-20.

Ferrite thin film-forming composition material, method of forming ferrite thin film, and ferrite thin film formed using the same

Номер патента: US20130256582A1. Автор: Toshihiro Doi,Nobuyuki Soyama,Hideaki Sakurai,Kenzo Nakamura,Kazunori Igarashi. Владелец: Mitsubishi Materials Corp. Дата публикации: 2013-10-03.

Curable film-forming compositions containing reactive functional polymers and polysiloxane resins, multilayer composite coatings, and methods for their use

Номер патента: EP4365251A2. Автор: Susan Fundy Donaldson,Shanti Swarup,Matthew S. Luchansky,Jason Ryan Lewis. Владелец: PPG Industries Ohio Inc. Дата публикации: 2024-05-08.

Curable film-forming compositions demonstrating decreased cure time with stable pot life

Номер патента: WO2018208364A3. Автор: Steven R. Zawacky,Silvia BEZER,Diane Schillinger. Владелец: PPG Industries Ohio, Inc.. Дата публикации: 2019-01-03.

Acrylic polymers, curable film-forming compositions prepared therefrom, and method of mitigating dirt build-up on a substrate

Номер патента: CA2951693C. Автор: Noel R. Vanier,Shanti Swarup,Dennis A. Simpson,Xiangling Xu,Mark E. Endlish. Владелец: PPG Industries Ohio Inc. Дата публикации: 2018-12-04.

Waterborne film-forming compositions containing alternating copolymers of isobutylene type monomers

Номер патента: CA2476433C. Автор: Edward R. Coleridge,Mark A. Tucker,Roxalana L. Martin,Mary E. Grolemund. Владелец: PPG Industries Ohio Inc. Дата публикации: 2010-06-22.

Curable film-forming compositions containing reactive functional polymers and polysiloxane resins, multilayer composite coatings, and methods for their use

Номер патента: CA3069525C. Автор: Susan Fundy Donaldson,Shanti Swarup,John W. Burgman,Hongying Zhou,Bin Cao,Justin Jones,Matthew S. Luchansky,Jason Ryan Lewis,Danielle Kirby. Владелец: Lewis Jason Ryan. Дата публикации: 2022-04-19.

Water borne film-forming compositions

Номер патента: AU767116C. Автор: Michael R. Van De Mark,Nantana Jiratumnukul. Владелец: University of Missouri System. Дата публикации: 2005-04-14.

Silicon-containing polymer, film-forming composition, method for forming silicon-containing polymer coating, method for forming silica-based coating, and production method for silicon-containing polymer

Номер патента: US20200362115A1. Автор: Takehiro Seshimo,Yohei Kinoshita,Keisuke Kubo,Kunihiro Noda. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2020-11-19.

Curable film-forming compositions containing rheology modifiers comprising non-aqueous dispersions

Номер патента: CA3136953C. Автор: Wei Wang,David Robert Fenn,Bin Cao,Matthew S. Luchansky,Dennis Allan Simpson,Chinming Hui,Inanllely Yuderka Gonzalez. Владелец: PPG Industries Ohio Inc. Дата публикации: 2024-01-02.

Film-forming composition, method for producing surface-treated metal member, and method for producing metal-resin composite

Номер патента: EP3636802A1. Автор: Yuko Shibanuma,Yasutaka Amitani,Itsuro Tomatsu,Kosuke KUMAZAKI,Ikuyo KATAYAMA. Владелец: MEC Co Ltd. Дата публикации: 2020-04-15.

Film-forming composition, method for producing surface-treated metal member, and method for producing metal-resin composite

Номер патента: US20200157394A1. Автор: Yuko Shibanuma,Yasutaka Amitani,Itsuro Tomatsu,Kosuke KUMAZAKI,Ikuyo KATAYAMA. Владелец: MEC Co Ltd. Дата публикации: 2020-05-21.

Coating film-forming composition, method for producing surface-treated metal member, and method for producing metal-resin composite

Номер патента: US20220017755A1. Автор: Motohiro Nakano,Masahiro HAYASHIZAKI,Masataka Araki,Koki Morikawa. Владелец: MEC Co Ltd. Дата публикации: 2022-01-20.

Methods of preparing coated substrates and non-aqueous, curable film-forming compositions used therefor

Номер патента: AU2021301263B2. Автор: David N. Walters,Scott William SISCO,David Joseph FORTMAN. Владелец: PPG Industries Ohio Inc. Дата публикации: 2024-03-28.

Methods of preparing coated substrates and non-aqueous, curable film-forming compositions used therefor

Номер патента: EP4176012A1. Автор: David N. Walters,Scott William SISCO,David Joseph FORTMAN. Владелец: PPG Industries Ohio Inc. Дата публикации: 2023-05-10.

Methods of preparing coated substrates and non-aqueous, curable film-forming compositions used therefor

Номер патента: US20230287173A1. Автор: David N. Walters,Scott William SISCO,David Joseph FORTMAN. Владелец: PPG Industries Ohio Inc. Дата публикации: 2023-09-14.

Methods of preparing coated substrates and non-aqueous, curable film-forming compositions used therefor

Номер патента: AU2021301263A1. Автор: David N. Walters,Scott William SISCO,David Joseph FORTMAN. Владелец: PPG Industries Ohio Inc. Дата публикации: 2023-02-23.

Curable film-forming compositions containing photothermally active materials, coated metal substrates, and methods of coating substrates

Номер патента: EP3294816A1. Автор: David Walters,Daniel E. Rardon,Stephen John Thomas,Michael Andrew ZALICH,Michael Paul MAKOWSKI,Kaitlin HAAS,Benjamin LEAR. Владелец: PPG Industries Ohio Inc. Дата публикации: 2018-03-21.

Coating film-forming composition, method for producing surface-treated metal member, and method for producing metal-resin composite

Номер патента: EP3943640A1. Автор: Motohiro Nakano,Masahiro HAYASHIZAKI,Masataka Araki,Koki Morikawa. Владелец: MEC Co Ltd. Дата публикации: 2022-01-26.

Curable film-forming composition comprising additive associated with a carrier

Номер патента: EP3066163A1. Автор: Scott J. Moravek,Davina J. Schwartzmiller,Jane N. Valenta. Владелец: PPG Industries Ohio Inc. Дата публикации: 2016-09-14.

Curable film-forming composition comprising additive associated with a carrier

Номер патента: NZ719944A. Автор: Davina J Schwartzmiller,Scott J Moravek,Jane N Valenta. Владелец: Ppg Ind Ohio Inc. Дата публикации: 2017-12-22.

Curable Film-Forming Compositions Demonstrating Decreased Cure Time with Stable Pot Life

Номер патента: US20200095365A1. Автор: Steven R. Zawacky,Silvia BEZER,Diane Schillinger. Владелец: PPG Industries Ohio Inc. Дата публикации: 2020-03-26.

Curable film-forming compositions demonstrating burnish resistance and low gloss, and methods of improving burnish resistance of a substrate

Номер патента: CA2888270A1. Автор: Scott J. Moravek,Lawrence G. Anderson. Владелец: PPG Industries Ohio Inc. Дата публикации: 2014-04-24.

Improved color in film-forming compositions

Номер патента: CA2493185C. Автор: Teodora R. Tabuena-Salyers,Paul D. Bloom,George B. Poppe,Peter K. Fuge. Владелец: Archer Daniels Midland Co. Дата публикации: 2012-07-10.

Curable film-forming compositions and coated articles prepared therewith

Номер патента: CA3222674A1. Автор: Steven E. Bowles,Hongying Zhou,Ronald J. KRALIC Jr.. Владелец: Individual. Дата публикации: 2023-01-12.

Curable film-forming compositions containing lithium silicates as corrosion inhibitors and multilayer coated metal substrates

Номер патента: EP4242272A3. Автор: Eric L. Morris,Michael A. Mayo,Elizabeth A. Furar,Tommy G. BUNTEN. Владелец: PRC Desoto International Inc. Дата публикации: 2023-11-01.

Silicon-containing polymer, film-forming composition, method for forming silicon-containing polymer coating, method for forming silica coating, and production method for silicon-containing polymer

Номер патента: US11912889B2. Автор: Takehiro Seshimo,Kunihiro Noda,Dai Shiota. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-27.

Curable film-forming compositions and coated articles prepared therewith

Номер патента: EP4367158A1. Автор: Ronald J. Kralic, Jr.,Steven E. Bowles,Hongying Zhou. Владелец: PPG Industries Ohio Inc. Дата публикации: 2024-05-15.

A transparent film-forming composition for producing a near-infrared shielding coating and a method of producing thereof

Номер патента: AU2022285451A1. Автор: Choo Ann GAN,Chooi Yang GAN. Владелец: Kristalbond Tech Sdn Bhd. Дата публикации: 2023-11-23.

Polymer and film forming composition

Номер патента: US20070073020A1. Автор: Katsuyuki Watanabe,Hidetoshi Hiraoka. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 2007-03-29.

Curable film-forming compositions demonstrating burnish resistance and low gloss

Номер патента: CA2884504C. Автор: Scott J. Moravek,Stephen J. Thomas,Shantilal MOHNOT. Владелец: PPG Industries Ohio Inc. Дата публикации: 2017-08-29.

Elastomeric film-forming compositions and articles made from the elastomeric film

Номер патента: CA2918437C. Автор: Khon Pu Foo,Kumaresan PRABHAKARAN. Владелец: Skinprotect Corp Sdn Bhd. Дата публикации: 2018-07-03.

Film-forming composition

Номер патента: US9243165B2. Автор: Taku Kato,Masaaki Ozawa,Yoshinari Koyama,Naoya Nishimura,Natsumi Murakami. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2016-01-26.

Film-forming composition including an agent capable of trapping formaldehyde

Номер патента: MY189638A. Автор: Benjamin Blanchard,Katarzyna Chuda. Владелец: Saint Gobain Adfors. Дата публикации: 2022-02-22.

Film forming composition, process for producing film forming composition, insulating film forming material, process for forming film, and silica-based film

Номер патента: US7462678B2. Автор: Koichi Hasegawa,Masahiro Akiyama,Seitaro Hattori,Masaki Obi. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2008-12-09.

Film-forming composition

Номер патента: GB1021431A. Автор: . Владелец: Deering Milliken Research Corp. Дата публикации: 1966-03-02.

Coating film forming composition and coating film

Номер патента: US20240010847A1. Автор: Yuta Takenouchi,Akie IKENAGA,Yijun Xie. Владелец: Nitto Denko Corp. Дата публикации: 2024-01-11.

Vanadium-containing film forming compositions and vapor deposition of vanadium-containing films

Номер патента: US20160304542A1. Автор: Wontae NOH,Clement Lansalot-Matras. Владелец: LAir Liquide SA pour lEtude et lExploitation des Procedes Georges Claude. Дата публикации: 2016-10-20.

Niobium-containing film forming compositions and vapor deposition of niobium-containing films

Номер патента: US20160307902A1. Автор: Wontae NOH,Clement Lansalot-Matras. Владелец: LAir Liquide SA pour lEtude et lExploitation des Procedes Georges Claude. Дата публикации: 2016-10-20.

Vanadium-containing film forming compositions and vapor deposition of vanadium-containing films

Номер патента: US20160307905A1. Автор: Wontae NOH,Clement Lansalot-Matras. Владелец: LAir Liquide SA pour lEtude et lExploitation des Procedes Georges Claude. Дата публикации: 2016-10-20.

Insulating film forming composition, insulating film, and semiconductor device provided with insulating film

Номер патента: US20210139652A1. Автор: Hiroto Miyake,Akira Yamakawa,Naoko Tsuji. Владелец: Daicel Corp. Дата публикации: 2021-05-13.

Silicon carbonaceous film forming composition comprising polycarbosilane and method for manufacturing silicon carbonaceous film using the same

Номер патента: WO2019030206A1. Автор: Toshiya Okamura. Владелец: Merck Patent GmBH. Дата публикации: 2019-02-14.

Polysilazane, siliceous film-forming composition comprising the same, and method for producing siliceous film using the same

Номер патента: US20230374226A1. Автор: Tetsuo Okayasu,Toshiya Okamura,Thorsten vom Stein,Katsuchika Suzuki. Владелец: Merck Electronics Ltd. Дата публикации: 2023-11-23.

Silicon carbonaceous film forming composition comprising polycarbosilane and method for manufacturing silicon carbonaceous film using the same

Номер патента: US20200385581A1. Автор: Toshiya Okamura. Владелец: Merck Patent GmBH. Дата публикации: 2020-12-10.

Metal oxide film-forming composition and method of producing metal oxide film using the composition

Номер патента: US20230049429A1. Автор: Atsushi Yamanouchi,Michihito Takahashi,Kenichi Yamauchi,Kunihiro Noda,Dai Shiota. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2023-02-16.

Silicon carbonaceous film forming composition comprising polycarbosilane and method for manufacturing silicon carbonaceous film using the same

Номер патента: EP3665211A1. Автор: Toshiya Okamura. Владелец: Merck Patent GmBH. Дата публикации: 2020-06-17.

A biocidal film-forming composition, a biocidal film and a method for forming a biocidal film on a substrate

Номер патента: WO2024074217A1. Автор: Ewa Skorupska,Michał Stefański. Владелец: Hydrosafeguard Spółka Akcyjna. Дата публикации: 2024-04-11.

Film-forming composition including thermosetting resin

Номер патента: US20170253764A1. Автор: Mamoru Tamura,Makoto Nakajima,Tomoyuki Enomoto. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2017-09-07.

Additive for resist underlayer film-forming composition and resist underlayer film-forming composition containing the same

Номер патента: US20160147152A1. Автор: Takafumi Endo,Rikimaru Sakamoto,Noriaki Fujitani,Ryuji Ohnishi. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2016-05-26.

Additive for resist underlayer film-forming composition, and resist underlayer film-forming composition containing same

Номер патента: KR102033748B1. Автор: 리키마루 사카모토,타카후미 엔도,노리아키 후지타니,류지 오니시. Владелец: 닛산 가가쿠 가부시키가이샤. Дата публикации: 2019-10-17.

Resist underlayer film-forming composition using carbon-oxygen double bond

Номер патента: US20210116814A1. Автор: Keisuke Hashimoto,Makoto Nakajima,Hiroto Ogata,Hikaru TOKUNAGA. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2021-04-22.

Water-repellent film-forming composition

Номер патента: CA1336929C. Автор: Hideo Kogure,Heihachi Murase,Kiyoshi Nanishi. Владелец: Kansai Paint Co Ltd. Дата публикации: 1995-09-05.

Odor resistant film-forming composition

Номер патента: CA2112873C. Автор: Teruhito Maruyama. Владелец: Dow Corning Asia Ltd. Дата публикации: 1998-08-25.

High-solids curable film-forming compositions and methods of improving appearance of coatings containing effect pigments

Номер патента: AU2022306591A1. Автор: Jun Deng,Hongying Zhou. Владелец: PPG Industries Ohio Inc. Дата публикации: 2024-01-25.

Dielectric film-forming composition

Номер патента: US11945894B2. Автор: Raj Sakamuri,Sanjay Malik,Binod B. De,William A. Reinerth,Stephanie Dilocker. Владелец: Fujifilm Electronic Materials USA Inc. Дата публикации: 2024-04-02.

High-solids curable film-forming compositions and methods of improving appearance of coatings containing effect pigments

Номер патента: EP4367157A1. Автор: Jun Deng,Hongying Zhou. Владелец: PPG Industries Ohio Inc. Дата публикации: 2024-05-15.

Polysilazane, siliceous film-forming composition comprising the same, and method for producing siliceous film using the same

Номер патента: US20230312978A1. Автор: Masahiro Ishii,Toshiya Okamura,Masamichi Kurokawa. Владелец: Merck Electronics Ltd. Дата публикации: 2023-10-05.

Aromatic polyamide and film-forming composition containing same

Номер патента: US20150252147A1. Автор: Masaaki Ozawa,Daisuke Maeda,Kei Yasui. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2015-09-10.

Metal oxide film-forming composition, and method for producing metal oxide film using the same

Номер патента: US20220282100A1. Автор: Kenichi Yamauchi,Kunihiro Noda,Dai Shiota,Naohiko IKUMA. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2022-09-08.

Film-forming composition

Номер патента: US20160017145A1. Автор: Naoya Nishimura,Daisuke Maeda. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2016-01-21.

Circuit sheet, sensor sheet, and coating film-forming composition

Номер патента: US20240182743A1. Автор: Shinichi Tomooka,Kanae Miyanaga. Владелец: Sekisui Polymatech Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-06.

Film, capsule and film-forming composition comprising water-soluble salt as opacifying agent

Номер патента: EP3983477A1. Автор: Kaori Sato,Takahisa Takubo,Hitomi Doi. Владелец: Capsugel Belgium NV. Дата публикации: 2022-04-20.

Circuit sheet, sensor sheet, and film-forming composition

Номер патента: EP4393995A1. Автор: Shinichi Tomooka,Kanae Miyanaga. Владелец: Sekisui Polymatech Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-03.

Resist underlayer film forming composition, resist underlayer film forming method, and pattern forming method

Номер патента: JP5068828B2. Автор: 武渡辺,勤荻原,剛金生,勝也竹村,大佑郡,俊彦藤井. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2012-11-07.

Resist-underlayer-film-forming composition used in multilayer resist process, resist underlayer film, method for forming same, and pattern-formation method

Номер патента: KR20140104420A. Автор: 마사유키 모토나리,요시오 다키모토,신야 나카후지,사토루 무라카미,가즈히코 고무라,가츠히사 미조구치. Владелец: 제이에스알 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2014-08-28.

Film forming composition, resist underlayer film, forming method thereof, and pattern forming method

Номер патента: TWI671347B. Автор: 生井準人,若松剛史. Владелец: 日商Ｊｓｒ股份有限公司. Дата публикации: 2019-09-11.

Underlayer film-forming composition and pattern forming process

Номер патента: US09620363B2. Автор: Tsutomu Ogihara,Jun Hatakeyama,Daisuke Kori. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2017-04-11.

Resist underlayer film forming composition and method for forming resist pattern by use of said composition

Номер патента: TW200951625A. Автор: Takafumi Endo,Rikimaru Sakamoto. Владелец: Nissan Chemical Ind Ltd. Дата публикации: 2009-12-16.

RESIST UNDERLAYER FILM FORMING COMPOSITION, AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN USING THE SAME

Номер патента: US20130230809A1. Автор: Sakamoto Rikimaru,Ho Bangching,FUJITANI Noriaki,Ohnishi Ryuji,Endo Takafumi. Владелец: NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.. Дата публикации: 2013-09-05.

Resist underlayer film forming composition and method of forming resist pattern using the same

Номер патента: KR102374269B1. Автор: 히로토 오가타,유키 우스이,타카히로 키시오카,마모루 타무라. Владелец: 닛산 가가쿠 가부시키가이샤. Дата публикации: 2022-03-15.

Resist underlayer film forming composition and resist pattern forming method

Номер патента: JPWO2009075265A1. Автор: 佳臣広井,智久石田,石田　智久,貴文遠藤. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2011-04-28.

Sulfur atom-containing resist underlayer film forming composition and method for forming resist pattern

Номер патента: TW201001078A. Автор: Tomohisa Ishida,Yoshiomi Hiroi,Yoshihito Tsukamoto. Владелец: Nissan Chemical Ind Ltd. Дата публикации: 2010-01-01.

Film-forming material, film-forming composition for lithography, optical component-forming material, resist composition, resist pattern forming method, permanent film for resist, radiation-sensitive composition, method for producing amorphous film, underlayer film-forming material for lithography , a composition for forming an underlayer film for lithography, a method for producing an underlayer film for lithography, and a method for forming a circuit pattern

Номер патента: JP7252516B2. Автор: 泰三樹,雅敏越後. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc. Дата публикации: 2023-04-05.

Resist underlayer film forming composition containing phenylindole-containing novolac resin

Номер патента: US20150044876A1. Автор: Ryo Karasawa,Yasunobu Someya,Rikimaru Sakamoto,Keisuke Hashimoto,Tetsuya Shinjo,Hirokazu Nishimaki. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2015-02-12.

RESIST UNDERLAYER FILM-FORMING COMPOSITION FOR LITHOGRAPHY CONTAINING POLYMER HAVING ACRYLAMIDE STRUCTURE AND ACRYLIC ACID ESTER STRUCTURE

Номер патента: US20170045819A1. Автор: Someya Yasunobu,Karasawa Ryo,Sakamoto Rikimaru,Endo Takafumi,NISHITA Tokio. Владелец: NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.. Дата публикации: 2017-02-16.

RESIST UNDERLAYER FILM FORMING COMPOSITION WHICH CONTAINS COMPOUND HAVING GLYCOLURIL SKELETON AS ADDITIVE

Номер патента: US20190086806A1. Автор: Kishioka Takahiro,Usui Yuki,Sakaida Yasushi,OGATA Hiroto. Владелец: NISSAN CHEMICAL CORPORATION. Дата публикации: 2019-03-21.

Resist underlayer film-forming composition for euv lithography containing condensation polymer

Номер патента: US20140170567A1. Автор: Takafumi Endo,Rikimaru Sakamoto,Noriaki Fujitani,Bangching Ho,Ryuji Ohnishi. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2014-06-19.

Resist underlayer film-forming composition

Номер патента: US20220146939A1. Автор: Makoto Nakajima,Hiroto Ogata,Hirokazu Nishimaki,Hikaru TOKUNAGA. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2022-05-12.

Semiconductor device production method employing silicon-containing resist underlayer film-forming composition including organic group having ammonium group

Номер патента: US20210181635A1. Автор: Makoto Nakajima,Wataru Shibayama,Hayato Hattori,Ken ISHIBASHI. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2021-06-17.

ALKALINE DEVELOPER SOLUABLE SILICON-CONTAINING RESIST UNDERLAYER FILM-FORMING COMPOSITION

Номер патента: US20200225584A1. Автор: Nakajima Makoto,Shibayama Wataru. Владелец: NISSAN CHEMICAL CORPORATION. Дата публикации: 2020-07-16.

RESIST UNDERLAYER FILM FORMING COMPOSITION FOR LITHOGRAPHY CONTAINING HYDROLYZABLE SILANE HAVING CARBONATE SKELETON

Номер патента: US20180239250A1. Автор: GOTO Yuichi,Nakajima Makoto,Shibayama Wataru,Sakamoto Rikimaru. Владелец: NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.. Дата публикации: 2018-08-23.

METAL-CONTAINING RESIST UNDERLAYER FILM-FORMING COMPOSITION CONTAINING POLYACID

Номер патента: US20160251546A1. Автор: Takeda Satoshi,Nakajima Makoto,Shibayama Wataru,Wakayama Hiroyuki. Владелец: NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.. Дата публикации: 2016-09-01.

SILICON-CONTAINING RESIST UNDERLAYER FILM-FORMING COMPOSITION CONTAINING ORGANIC GROUP HAVING DIHYDROXY GROUP

Номер патента: US20190265593A1. Автор: Nakajima Makoto,Shibayama Wataru,Sakamoto Rikimaru,ISHIBASHI Ken. Владелец: NISSAN CHEMICAL CORPORATION. Дата публикации: 2019-08-29.

RESIST UNDERLAYER FILM-FORMING COMPOSITION CONTAINING INDOLOCARBAZOLE NOVOLAK RESIN

Номер патента: US20180356732A1. Автор: HASHIMOTO Keisuke,Sakamoto Rikimaru,SAITO Daigo,TOKUNAGA Hikaru. Владелец: NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.. Дата публикации: 2018-12-13.

RESIST UNDERLAYER FILM-FORMING COMPOSITION CONTAINING AMIDE SOLVENT

Номер патента: US20190354018A1. Автор: HASHIMOTO Keisuke,Sakamoto Rikimaru,TOKUNAGA Hikaru,HAMADA Satoshi. Владелец: NISSAN CHEMICAL CORPORATION. Дата публикации: 2019-11-21.

RESIST UNDERLAYER FILM-FORMING COMPOSITION THAT CONTAINS TRIARYLDIAMINE-CONTAINING NOVOLAC RESIN TO WHICH AROMATIC VINYL COMPOUND IS ADDED

Номер патента: US20200387072A1. Автор: HASHIMOTO Keisuke,Nishimaki Hirokazu,Karasawa Ryo,SAITO Daigo. Владелец: NISSAN CHEMICAL CORPORATION. Дата публикации: 2020-12-10.

Silicon-Containing Resist Underlayer Film-Forming Composition Containing Cyclic Amino Group

Номер патента: KR101655251B1. Автор: 와타루 시바야마,마코토 나카지마,유타 칸노. Владелец: 닛산 가가쿠 고교 가부시키 가이샤. Дата публикации: 2016-09-07.

Resist underlayer film-forming composition which contains alicyclic skeleton-containing carbazole resin

Номер патента: CN103635858A. Автор: 桥本圭祐,新城彻也,柄泽凉,染谷安信. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2014-03-12.

Resist underlayer film-forming composition which contains alicyclic skeleton-containing carbazole resin

Номер патента: KR101913101B1. Автор: 료 카라사와,야스노부 소메야,케이스케 하시모토,테츠야 신조. Владелец: 닛산 가가쿠 가부시키가이샤. Дата публикации: 2018-10-31.

Silicon-containing resist underlayer film forming composition having cyclic amino group

Номер патента: JPWO2009104552A1. Автор: 誠中島,裕太菅野,中島　誠,亘柴山. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2011-06-23.

Silicon-containing resist underlayer film forming composition having sulfone structure and amine structure

Номер патента: JP6195078B2. Автор: 誠中島,裕太菅野,中島　誠,顕司高瀬,諭武田,若山　浩之,浩之若山. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2017-09-13.

Silicon-containing resist underlayer film-forming composition having sulfone structure and amine structure

Номер патента: WO2013191203A1. Автор: 裕太菅野,中島　誠,顕司高瀬,諭武田,若山　浩之. Владелец: 日産化学工業株式会社. Дата публикации: 2013-12-27.

Silicon-containing EUV resist underlayer film forming composition

Номер патента: US9337052B2. Автор: Shuhei Shigaki,Rikimaru Sakamoto,Hiroaki Yaguchi,Bang-Ching Ho. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2016-05-10.

Resist underlayer film forming composition for lithography containing hydrolyzable silane having halogen-containing carboxylic acid amide group

Номер патента: KR102462194B1. Автор: 리키마루 사카모토,와타루 시바야마,켄지 타카세. Владелец: 닛산 가가쿠 가부시키가이샤. Дата публикации: 2022-11-02.

Alkaline developer soluable silicon-containing resist underlayer film-forming composition

Номер патента: US20220155688A1. Автор: Makoto Nakajima,Wataru Shibayama. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2022-05-19.

Resist underlayer film forming composition containing silicon having ester group

Номер патента: US10372039B2. Автор: Satoshi Takeda,Hiroyuki Wakayama,Makoto Nakajima,Yuta Kanno. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2019-08-06.

Resist underlayer film-forming composition containing naphthol aralkyl resin

Номер патента: US11199775B2. Автор: Ryo Karasawa,Keisuke Hashimoto. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2021-12-14.

Resist underlayer film forming composition comprising a polymer having a structural unit having a urea bond

Номер патента: JPWO2018143359A1. Автор: 力丸坂本,軍孫,裕一後藤,登喜雄西田. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2019-11-21.

Resist underlayer film-forming composition for euv lithography containing condensation polymer

Номер патента: KR102006277B1. Автор: 리키마루 사카모토,타카후미 엔도,방칭 호,노리아키 후지타니,류지 오니시. Владелец: 닛산 가가쿠 가부시키가이샤. Дата публикации: 2019-08-01.

Resist underlayer film forming composition containing polymer having structural unit having urea bond

Номер патента: TWI746785B. Автор: 坂本力丸,西田登喜雄,後藤裕一,孫軍. Владелец: 日商日產化學工業股份有限公司. Дата публикации: 2021-11-21.

Resist underlayer film forming composition

Номер патента: TW202111436A. Автор: 服部隼人,西卷裕和,中島誠,緒方裕斗,光武祐希. Владелец: 日商日產化學股份有限公司. Дата публикации: 2021-03-16.

Resist underlayer film forming composition containing hydroxyl group-containing condensed resin

Номер патента: JP5041175B2. Автор: 力丸坂本,佳臣広井,岸岡　　高広. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2012-10-03.

Film-forming material, lithographic film-forming composition, optical component-forming material, resist composition, resist pattern formation method, resist permanent film, radiation-sensitive composition, amorphous film production method, lithographic underlayer film-forming material, lithographic underlayer film-forming composition, lithographic underlayer film production method, and circuit pattern formation method

Номер патента: EP3647869A1. Автор: Yasushi Miki,Masatoshi Echigo. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc. Дата публикации: 2020-05-06.

Resist underlayer film forming composition containing epoxy adduct having long-chain alkyl group

Номер патента: TW201719289A. Автор: 坂本力丸,柄澤涼,遠藤貴文,齊藤大悟. Владелец: 日產化學工業股份有限公司. Дата публикации: 2017-06-01.

Silicon-containing resist underlayer film-forming composition containing an organic group having an ammonium group

Номер патента: JP7197840B2. Автор: 隼人服部,誠中島,亘柴山,謙石橋. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2022-12-28.

Resist underlayer film-forming composition which contains phenylindole-containing novolac resin

Номер патента: KR102072490B1. Автор: 리키마루 사카모토,료 카라사와,야스노부 소메야,히로카즈 니시마키,케이스케 하시모토,테츠야 신조. Владелец: 닛산 가가쿠 가부시키가이샤. Дата публикации: 2020-02-03.

Silicon-containing resist underlayer film forming composition having ester group

Номер патента: JPWO2014069329A1. Автор: 誠中島,裕太菅野,中島　誠,諭武田,若山　浩之,浩之若山. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2016-09-08.

Lithographic resist underlayer film forming composition containing hydrolyzable silane having halogen-containing carboxylic acid amide group

Номер патента: JPWO2016093172A1. Автор: 力丸坂本,坂本　力丸,亘柴山,顕司高瀬. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2017-10-19.

Resist underlayer film forming composition containing silicone having cyclic amino group

Номер патента: TW201001079A. Автор: Makoto Nakajima,Wataru Shibayama,Yuta Kanno. Владелец: Nissan Chemical Ind Ltd. Дата публикации: 2010-01-01.

Resist underlayer film forming composition for lithography containing hydrolyzable silane having carboxylic amide containing halogen

Номер патента: TWI681019B. Автор: 坂本力丸,柴山亘,高瀬顕司. Владелец: 日商日產化學工業股份有限公司. Дата публикации: 2020-01-01.

A resist underlayer film forming composition containing a reaction product with a glycidyl ester compound.

Номер патента: JPWO2020004122A1. Автор: 裕一後藤,勇樹遠藤,雅久遠藤,貴文遠藤,哲上林. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2021-08-05.

Resist underlayer film forming composition containing epoxy adduct having long-chain alkyl group

Номер патента: TWI799364B. Автор: 坂本力丸,柄澤涼,遠藤貴文,齊藤大悟. Владелец: 日商日產化學工業股份有限公司. Дата публикации: 2023-04-21.

Euv resist underlayer film forming composition containing silicon

Номер патента: TWI575324B. Автор: 志垣修平,坂本力丸,谷口博昭,何邦慶. Владелец: 日產化學工業股份有限公司. Дата публикации: 2017-03-21.

Silicon-containing EUV resist underlayer film forming composition

Номер патента: JPWO2013051558A1. Автор: 力丸坂本,邦慶何,坂本　力丸,博昭谷口,修平志垣. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2015-03-30.

Resist underlayer film forming composition

Номер патента: KR20220079900A. Автор: 하야토 핫토리,마코토 나카지마,히카루 토쿠나가. Владелец: 닛산 가가쿠 가부시키가이샤. Дата публикации: 2022-06-14.

Resist underlayer film forming composition containing an alicyclic compound-terminated polymer

Номер патента: JP2023126803A. Автор: Yasunobu Someya,Hiroyuki Wakayama,浩之若山,龍太水落,Ryuta Mizuochi,安信染谷,Sho Shimizu,祥清水. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2023-09-12.

Silicon-containing resist underlayer film-forming composition which contains cyclic organic group having heteroatom

Номер патента: WO2014046055A1. Автор: 裕太菅野,中島　誠,顕司高瀬,諭武田,若山　浩之. Владелец: 日産化学工業株式会社. Дата публикации: 2014-03-27.

Silicon-containing resist underlayer film forming composition containing a protected phenol group and nitric acid

Номер патента: JPWO2019181873A1. Автор: 誠中島,中島　誠,亘柴山,諭武田,謙石橋. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2021-04-01.

Silicone-containing resist underlayer film forming composition having fluorine-based additive

Номер патента: TW201232172A. Автор: Makoto Nakajima,Masayuki Haraguchi,Motonobu Matsuyama,Tomoko Misaki,Yuta Kanno. Владелец: Nissan Chemical Ind Ltd. Дата публикации: 2012-08-01.

Resist underlayer film- forming composition using diarylmethane derivative

Номер патента: US20230203299A1. Автор: Makoto Nakajima,Hikaru TOKUNAGA. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2023-06-29.

Compounds, resins, resist compositions or radiation-sensitive compositions, resist pattern forming methods, amorphous film manufacturing methods, lithography underlayer film forming materials, lithography underlayer film forming compositions, circuit pattern forming methods, and purification. Method

Номер патента: JP6848869B2. Автор: 隆佐藤,越後　雅敏,雅敏越後,洋子清水,高史牧野嶋,佐藤　隆,匠樋田,牧野嶋　高史. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc. Дата публикации: 2021-03-24.

UNDERLAYER FILM-FORMING COMPOSITION, PATTERN-FORMING METHOD, COPOLYMER, AND MONOMER FOR UNDERLAYER FILM-FORMING COMPOSITION

Номер патента: US20200401047A1. Автор: MORITA Kazuyo,HATTORI Kimiko. Владелец: OJI HOLDINGS CORPORATION. Дата публикации: 2020-12-24.

Underlayer film forming composition, pattern forming method, copolymer and underlayer film forming composition monomer

Номер патента: KR20200118157A. Автор: 키미코 핫토리,카즈요 모리타. Владелец: 오지 홀딩스 가부시키가이샤. Дата публикации: 2020-10-14.

Underlayer film forming composition for lithography, underlayer film, and pattern forming method

Номер патента: CN116157436A. Автор: 越后雅敏,牧野岛高史,山本拓央,岩崎敦子. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc. Дата публикации: 2023-05-23.

FILM FORMING MATERIAL, COMPOSITION FOR FILM FORMATION FOR LITHOGRAPHY, MATERIAL FOR OPTICAL COMPONENT FORMATION, RESIST COMPOSITION, RESIST PATTERN FORMATION METHOD, PERMANENT FILM FOR RESIST, RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING AMORPHOUS FILM, UNDERLAYER FILM FORMING MATERIAL FOR LITHOGRAPHY, COMPOSITION FOR UNDERLAYER FILM FORMATION FOR LITHOGRAPHY, METHOD FOR PRODUCING UNDERLAYER FILM FOR LITHOGRAPHY, AND CIRCUIT PATTERN FORMATION METHOD

Номер патента: US20200157060A1. Автор: ECHIGO Masatoshi,MIKI Yasushi. Владелец: . Дата публикации: 2020-05-21.

AROMATIC HYDROCARBON RESIN, UNDERLAYER FILM FORMING COMPOSITION FOR LITHOGRAPHY, AND METHOD FOR FORMING MULTILAYER RESIST PATTERN

Номер патента: US20130280655A1. Автор: ECHIGO Masatoshi,Uchiyama Naoya,Higashihara Go. Владелец: MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC.. Дата публикации: 2013-10-24.

Underlayer film-forming composition and pattern forming process

Номер патента: US20140363957A1. Автор: Tsutomu Ogihara,Jun Hatakeyama,Daisuke Kori. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2014-12-11.

Underlayer film-forming composition and pattern forming process

Номер патента: KR101813311B1. Автор: 츠토무 오기하라,다이스케 고리,준 하타케야마. Владелец: 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2017-12-28.

Underlayer film-forming composition and pattern forming process

Номер патента: KR102042286B1. Автор: 츠토무 오기하라,준 하타케야마,다이스케 코리. Владелец: 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2019-11-07.

Photoresist underlayer film-forming composition and pattern forming process

Номер патента: EP2813891A3. Автор: Tsutomu Ogihara,Jun Hatakeyama,Daisuke Kori. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2015-01-07.

Photoresist underlayer film-forming composition and pattern forming process

Номер патента: EP2813890A3. Автор: Tsutomu Ogihara,Jun Hatakeyama,Daisuke Kori. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2014-12-31.

Underlayer film-forming composition and pattern forming process

Номер патента: TW201504290A. Автор: Tsutomu Ogihara,Jun Hatakeyama,Daisuke Kori. Владелец: Shinetsu Chemical Co. Дата публикации: 2015-02-01.

Photoresist underlayer film-forming composition and pattern forming processes

Номер патента: EP2813892B1. Автор: Tsutomu Ogihara,Jun Hatakeyama,Daisuke Kori. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2020-06-17.

COMPOUND, RESIN, RESIST COMPOSITION OR RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, RESIST PATTERN FORMATION METHOD, METHOD FOR PRODUCING AMORPHOUS FILM, UNDERLAYER FILM FORMING MATERIAL FOR LITHOGRAPHY, COMPOSITION FOR UNDERLAYER FILM FORMATION FOR LITHOGRAPHY, METHOD FOR FORMING CIRCUIT PATTERN, AND PURIFICATION METHOD

Номер патента: US20190056657A1. Автор: Sato Takashi,TOIDA Takumi,ECHIGO Masatoshi,MAKINOSHIMA Takashi,SHIMIZU Youko. Владелец: . Дата публикации: 2019-02-21.

COMPOUND, RESIN, RESIST COMPOSITION OR RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, RESIST PATTERN FORMATION METHOD, METHOD FOR PRODUCING AMORPHOUS FILM, UNDERLAYER FILM FORMING MATERIAL FOR LITHOGRAPHY, COMPOSITION FOR UNDERLAYER FILM FORMATION FOR LITHOGRAPHY, METHOD FOR FORMING CIRCUIT PATTERN, AND PURIFICATION METHOD

Номер патента: US20200409261A1. Автор: Sato Takashi,TOIDA Takumi,ECHIGO Masatoshi,MAKINOSHIMA Takashi,SHIMIZU Youko. Владелец: . Дата публикации: 2020-12-31.

Film-forming composition, film, method for forming a resist underlayer film, method and compound for manufacturing a patterned substrate

Номер патента: KR102412855B1. Автор: 나오야 노사카,츠바사 아베,고지 와카마츠,유우시 마츠무라,요시오 다키모토,마사유키 미야케. Владелец: 제이에스알 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2022-06-24.

Lithographic underlayer film forming composition containing naphthalene ring having halogen atom

Номер патента: JP4835854B2. Автор: 敏竹井,崇洋坂口,榎本　　智之. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2011-12-14.

Lithographic underlayer film forming composition comprising an epoxy compound and a carboxylic acid compound

Номер патента: JPWO2004090640A1. Автор: 高広岸岡,岸岡　　高広. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2006-07-06.

Kit, underlayer film forming composition for imprint, laminate, manufacturing method using these

Номер патента: JPWO2019156008A1. Автор: 雄一郎後藤,明規渋谷,直也下重,旺弘袴田,渋谷　明規. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2021-01-28.

Underlayer film forming composition containing an alkali developer soluble enthalpy

Номер патента: TW201906898A. Автор: 柴山亘,中島誠. Владелец: 日商日產化學股份有限公司. Дата публикации: 2019-02-16.

Lithographic underlayer film-forming composition comprising a compound having a protected carboxyl group

Номер патента: JP4753046B2. Автор: 敏竹井,徹也新城,圭祐橋本,康志境田. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2011-08-17.

COMPOUND, COMPOSITION, AND METHOD FOR PRODUCING SAME, UNDERLAYER FILM FORMING MATERIAL FOR LITHOGRAPHY, COMPOSITION FOR UNDERLAYER FILM FORMATION FOR LITHOGRAPHY, AND PURIFICATION METHOD

Номер патента: US20180246407A1. Автор: ECHIGO Masatoshi. Владелец: . Дата публикации: 2018-08-30.

Photoresist underlayer film forming material and pattern forming method

Номер патента: JP4662063B2. Автор: 畠山　　潤,武渡辺,俊彦藤井,克浩小林. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2011-03-30.

Polyvinyl butylallliquid crystal film forming composition* coating composition and products therefrom

Номер патента: JPS54148047A. Автор: Kei Suzuki Furetsudo,Daburiyu Dabison Toomasu. Владелец: LIQUID CRYSTAL PROD Inc. Дата публикации: 1979-11-19.

Film forming material, film forming composition for lithography, optical component forming material, resist composition, resist pattern forming method, permanent film for resist, radiation sensitive composition, method for producing amorphous film, lower layer film forming material for lithography , Composition for forming lower layer film for lithography, method for producing lower layer film for lithography, and method for forming circuit pattern

Номер патента: JPWO2019004142A1. Автор: 三樹　泰,泰三樹,越後　雅敏,雅敏越後. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc. Дата публикации: 2020-07-02.

Film forming composition, resist composition, radiation-sensitive composition, method for producing amorphous film, resist pattern formation method, composition for forming lower layer film for lithography, method for producing lower layer film for lithography, and circuit pattern formation method

Номер патента: WO2020145406A1. Автор: 大松　禎,越後　雅敏,牧野嶋　高史,淳矢堀内,拓央山本. Владелец: 三菱瓦斯化学株式会社. Дата публикации: 2020-07-16.

Film-forming composition, resist composition, radiation-sensitive composition, method for producing amorphous film, method for forming resist pattern, composition for forming underlayer film for lithography, method for producing underlayer film for lithography, and method for forming circuit pattern

Номер патента: CN113302223A. Автор: 越后雅敏,牧野岛高史,大松祯,山本拓央,堀内淳矢. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc. Дата публикации: 2021-08-24.

Compound, resin, resist composition or radiation sensitive composition, resist pattern forming method, amorphous film manufacturing method, lithography lower layer film forming material, lithography lower layer film forming composition, circuit pattern forming method, and purification Method

Номер патента: JPWO2017043561A1. Автор: 隆佐藤,越後　雅敏,雅敏越後,洋子清水,高史牧野嶋,佐藤　隆,匠樋田,牧野嶋　高史. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc. Дата публикации: 2018-08-09.

Protective film-forming composition

Номер патента: US20240168385A1. Автор: Tokio Nishita,Yuki Endo,Yuto HASHIMOTO. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2024-05-23.

Swellability film-forming composition and the method that nano-imprint lithography is carried out using the swellability film-forming composition

Номер патента: CN107533286A. Автор: 戴维·B·奥尔森,约翰·T·斯特兰德. Владелец: 3M Innovative Properties Co. Дата публикации: 2018-01-02.

Film forming composition and determination of composition

Номер патента: JPS6299747A. Автор: ウィリアム・アール・ブランスヴォルド,マイケル・パトリツク・スキナー,デール・エム・クロカツト. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1987-05-09.

PHOTOSENSITIVE POLYMERS, THEIR PREPARATION AND FILM-FORMING COMPOSITIONS CONTAINING THEM FOR PHOTOGRAVING

Номер патента: FR2572408A1. Автор: Gerard Chiron,Guy Levesque. Владелец: CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQUE CNRS. Дата публикации: 1986-05-02.

Polyvinyl butyral-liquid crystal film-forming composition and film

Номер патента: US4161557A. Автор: Thomas W. Davison,Fred K. Suzuki. Владелец: Liquid Crystal Products Inc. Дата публикации: 1979-07-17.

Method for manufacturing film containing copper compound, method for suppressing thickening of film-forming composition, kit for manufacturing film-forming composition, and solid-state image sensor

Номер патента: WO2015016142A1. Автор: 裕樹奈良,星戊朴. Владелец: 富士フイルム株式会社. Дата публикации: 2015-02-05.

Substrate protective film-forming composition and pattern forming process

Номер патента: US20200133123A1. Автор: Kenichi Oikawa,Tomohiro Kobayashi,Masayoshi Sagehashi,Teppei Adachi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2020-04-30.

Immersion upper layer film forming composition and method of forming photoresist pattern

Номер патента: US20120282553A1. Автор: Atsushi Nakamura,Hiroki Nakagawa,Toru Kimura,Hiroaki Nemoto,Yukio Nishimura,Takashi Chiba,Tomohiro Utaka. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2012-11-08.

RESIST-PROTECTIVE FILM-FORMING COMPOSITION AND PATTERNING PROCESS

Номер патента: US20130143162A1. Автор: KORI Daisuke,Hatakeyama Jun. Владелец: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.. Дата публикации: 2013-06-06.

FILM FORMING COMPOSITION FOR HARD DISK

Номер патента: US20130270222A1. Автор: Suzuki Masayoshi,KATO Taku,KOBAYASHI Junpei,SHUTO Keisuke. Владелец: NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.. Дата публикации: 2013-10-17.

FILM-FORMING COMPOSITION AND ION IMPLANTATION METHOD

Номер патента: US20150017791A1. Автор: Kishioka Takahiro,Ohashi Tomoya. Владелец: . Дата публикации: 2015-01-15.

ORIENTED-FILM-FORMING COMPOSITION

Номер патента: US20150044487A1. Автор: KOBAYASHI Tadahiro. Владелец: Sumitomo Chemical Company, Limited. Дата публикации: 2015-02-12.

Dielectric Film Forming Composition

Номер патента: US20190077913A1. Автор: Reinerth William A.,De Binod B.,Malik Sanjay. Владелец: . Дата публикации: 2019-03-14.

FILM FORMING COMPOSITION

Номер патента: US20220100092A1. Автор: Takeda Satoshi,Nakajima Makoto,Shibayama Wataru,SHIGAKI Shuhei,ISHIBASHI Ken,KURAMOTO Yutaro. Владелец: NISSAN CHEMICAL CORPORATION. Дата публикации: 2022-03-31.

CHEMICAL SOLUTION-RESISTANT PROTECTIVE FILM FORMING COMPOSITION CONTAINING POLYMERIZATION PRODUCT HAVING DIOL STRUCTURE AT TERMINAL THEREOF

Номер патента: US20220145119A1. Автор: Endo Takafumi,NISHITA Tokio. Владелец: NISSAN CHEMICAL CORPORATION. Дата публикации: 2022-05-12.

FILM-FORMING COMPOSITION

Номер патента: US20220177653A1. Автор: Takeda Satoshi,Nakajima Makoto,Shibayama Wataru,SHIGAKI Shuhei,KATO Kodai,ISHIBASHI Ken. Владелец: NISSAN CHEMICAL CORPORATION. Дата публикации: 2022-06-09.

FLATTENING FILM FORMING COMPOSITION FOR HARD DISK

Номер патента: US20140235743A1. Автор: Ozawa Masaaki,KATO Taku,Haraguchi Masayuki. Владелец: NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.. Дата публикации: 2014-08-21.

Photoalignment film forming composition and lcd devices derived therefrom

Номер патента: US20180223190A1. Автор: Brian F Knapp. Владелец: PROMERUS LLC. Дата публикации: 2018-08-09.

BOTTOM LAYER FILM-FORMING COMPOSITION OF SELF-ORGANIZING FILM CONTAINING STYRENE STRUCTURE

Номер патента: US20150315402A1. Автор: Someya Yasunobu,Sakamoto Rikimaru,Endo Takafumi,Wakayama Hiroyuki. Владелец: . Дата публикации: 2015-11-05.

PROTECTIVE FILM FORMING COMPOSITION HAVING A DIOL STRUCTURE

Номер патента: US20200319561A1. Автор: Kishioka Takahiro,Someya Yasunobu,Endo Takafumi. Владелец: NISSAN CHEMICAL CORPORATION. Дата публикации: 2020-10-08.

FILM-FORMING COMPOSITION CONTAINING SILICONE HAVING CROSSLINKING REACTIVITY

Номер патента: US20180335698A1. Автор: Nakajima Makoto,Takase Kenji,Wakayama Hiroyuki,ENDO Masahisa. Владелец: NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.. Дата публикации: 2018-11-22.

INORGANIC FILM-FORMING COMPOSITION FOR MULTILAYER RESIST PROCESSES, AND PATTERN-FORMING METHOD

Номер патента: US20150364332A1. Автор: Sakai Tatsuya,DEI Satoshi,TAKANASHI Kazunori,TAKIMOTO Yoshio,Motonari Masayuki,NAKAGAWA Hisashi,KURITA Shunsuke. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2015-12-17.

FILM-FORMING COMPOSITION, SILICON-CONTAINING FILM, AND RESIST PATTERN-FORMING METHOD

Номер патента: US20200354575A1. Автор: Sakai Tatsuya,Tanaka Hiromitsu,SEKO Tomoaki,SATOU Nozomi,TAJI Tomoya. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2020-11-12.

PROTECTIVE FILM FORMING COMPOSITION HAVING AN ACETAL STRUCTURE

Номер патента: US20200409260A1. Автор: Kishioka Takahiro,Someya Yasunobu,Endo Takafumi. Владелец: NISSAN CHEMICAL CORPORATION. Дата публикации: 2020-12-31.

Film-forming compositions containing zwitterionic functional polymers and their use in methods of reducing adhesion of an organic substance to a substrate

Номер патента: US20180251583A1. Автор: Eric L. Hanson,Eric L. Bruner,Edward W. Hughes. Владелец: Aculon Inc. Дата публикации: 2018-09-06.

Coating film-forming composition

Номер патента: EP4014958A1. Автор: Takayuki Imoto,Mizuki SAKATA,Takeaki Shoji,Mutsuhiro KATSUYA. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2022-06-22.

Film-forming compositions

Номер патента: EP4319711A1. Автор: Anthony Wenwei TAN,Gerald SCHALAU II. Владелец: DDP Specialty Electronic Materials US 9 LLC. Дата публикации: 2024-02-14.

Film-forming compositions

Номер патента: US20240166878A1. Автор: II Gerald K. Schalau,Anthony Wenwei TAN. Владелец: DDP Specialty Electronic Materials US 9 LLC. Дата публикации: 2024-05-23.

RESIST UNDERLAYER FILM-FORMING COMPOSITION, RESIST UNDERLAYER FILM, RESIST UNDERLAYER FILM-FORMING PROCESS, AND PRODUCTION METHOD OF PATTERNED SUBSTRATE

Номер патента: US20180046081A1. Автор: TAKANASHI Kazunori,WAKAMATSU Goji,MIYAKE Masayuki,Abe Tsubasa,Sakai Kazunori. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2018-02-15.

Naphthalene derivative and method for producing the same, resist underlayer film material, resist underlayer film forming method and pattern forming method

Номер патента: JP5556773B2. Автор: 武渡辺,勤荻原,剛金生,勝也竹村,大佑郡. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2014-07-23.

Resist underlayer film material, pattern forming method, and resist underlayer film forming method

Номер патента: JP6718406B2. Автор: 武渡辺,勤荻原,渡辺　武,洋子長井,大佑郡. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2020-07-08.

Resist underlayer film-forming composition

Номер патента: US20130310514A1. Автор: Takanori Nakano,Makoto Sugiura,Satoru Murakami,Yushi Matsumura,Kyoyu Yasuda,Shin-ya MINEGISHI,Shinya NAKAFUJI,Kazuhiko KOMURA. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2013-11-21.

RESIST UNDERLAYER FILM-FORMING COMPOSITION

Номер патента: US20220283501A1. Автор: Nishimaki Hirokazu,Nakajima Makoto,OGATA Hiroto,HATTORI Hayato,MITSUTAKE Yuki. Владелец: NISSAN CHEMICAL CORPORATION. Дата публикации: 2022-09-08.

Resist underlayer film forming composition containing compound having hydantoin ring

Номер патента: US20200201183A1. Автор: Yuichi Goto,Masahisa Endo,Hiroto Ogata,Yuki Usui,Takahiro Kishioka. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2020-06-25.

RESIST UNDERLAYER FILM-FORMING COMPOSITION CONTAINING SUBSTITUTED CROSSLINKABLE COMPOUND

Номер патента: US20200379352A1. Автор: HASHIMOTO Keisuke,SHINJO Tetsuya,Nishimaki Hirokazu,Takase Kenji,Sakamoto Rikimaru,Endo Takafumi. Владелец: NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.. Дата публикации: 2020-12-03.

Resist underlayer film forming composition

Номер патента: JPWO2011074494A1. Автор: 力丸坂本,邦慶何,坂本　力丸,貴文遠藤. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2013-04-25.

Resist underlayer film forming composition

Номер патента: TW201144353A. Автор: Takafumi Endo,Rikimaru Sakamoto,Bang-Ching Ho. Владелец: Nissan Chemical Ind Ltd. Дата публикации: 2011-12-16.

Silicon-containing resist underlayer film forming composition having nitrogen-containing ring

Номер патента: JPWO2011102470A1. Автор: 誠中島,裕太菅野,中島　誠,亘柴山. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2013-06-17.

Resist underlayer film-forming composition containing substituted crosslinkable compound

Номер патента: US10809619B2. Автор: Takafumi Endo,Rikimaru Sakamoto,Keisuke Hashimoto,Tetsuya Shinjo,Kenji Takase,Hirokazu Nishimaki. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2020-10-20.

Resist underlayer film forming composition comprising substituted crosslinkable compound

Номер патента: JPWO2014208542A1. Автор: 力丸坂本,徹也新城,圭祐橋本,坂本　力丸,顕司高瀬,橋本　圭祐,貴文遠藤,裕和西巻. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2017-02-23.

Resist underlayer film forming composition comprising silicon containing dihydroxy group-having organic group

Номер патента: TW201829671A. Автор: 中島誠,柴山□,石橋謙,□本力丸. Владелец: 日商日產化學工業股份有限公司. Дата публикации: 2018-08-16.

Resist underlayer film forming composition containing a compound having a glycoluril skeleton as an additive

Номер патента: JPWO2017170696A1. Автор: 友輝臼井,高広岸岡,岸岡　　高広,康志境田,裕斗緒方. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2019-02-07.

Resist underlayer film-forming composition containing protected basic organic group

Номер патента: US20240184204A1. Автор: Mamoru Tamura,Hiroyuki Wakayama,Kosuke IGATA,Shou SHIMIZU. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2024-06-06.

Compound, resin, and method for purifying same, underlayer film formation material for lithography, underlayer film forming composition, and underlayer film, and method for forming resist pattern and method for forming circuit pattern

Номер патента: WO2016158457A1. Автор: 越後　雅敏,匠樋田,牧野嶋　高史. Владелец: 三菱瓦斯化学株式会社. Дата публикации: 2016-10-06.

Compound, resin, and method for purifying same, underlayer film formation material for lithography, underlayer film forming composition, and underlayer film, and method for forming resist pattern and method for forming circuit pattern

Номер патента: EP3279179A4. Автор: Masatoshi Echigo,Takumi TOIDA,Takashi Makinoshima. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc. Дата публикации: 2018-12-05.

Underlayer film forming material for lithography, composition for forming an underlayer film for lithography, underlayer film for lithography and its manufacturing method, pattern forming method, resin, and purification method.

Номер патента: JP6919838B2. Автор: 隆佐藤,越後　雅敏,雅敏越後,高史牧野嶋,佐藤　隆,匠樋田,牧野嶋　高史. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc. Дата публикации: 2021-08-18.

Underlayer film forming material, underlayer film forming method, and pattern forming method

Номер патента: JP7285209B2. Автор: 大佑郡,祐介美谷島,和美野田,貴佳中原. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-06-01.

Compound, resin, underlayer film forming material for lithography, underlayer film for lithography, pattern forming method and purification method of compound or resin

Номер патента: JP6781959B2. Автор: 越後　雅敏,雅敏越後,高史牧野嶋,牧野嶋　高史,淳矢堀内. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc. Дата публикации: 2020-11-11.

Resin composition, resist underlayer film, resist underlayer film-forming method and pattern-forming method

Номер патента: US20130153535A1. Автор: Masayuki Motonari,Satoru Murakami,Yuushi Matsumura,Shin-Ya Nakafuji,Kazuhiko KOUMURA,Katsuhisa MIZOGUCHI. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2013-06-20.

Resin composition, resist underlayer film, resist underlayer film-forming method and pattern-forming method

Номер патента: US20140014620A9. Автор: Masayuki Motonari,Satoru Murakami,Yuushi Matsumura,Shin-Ya Nakafuji,Kazuhiko KOUMURA,Katsuhisa MIZOGUCHI. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2014-01-16.

Resist underlayer film-forming composition

Номер патента: US20240176243A1. Автор: Mamoru Tamura,Hiroto Ogata. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2024-05-30.

Underlayer film-forming material for lithography, underlayer film for lithography, and pattern formation method

Номер патента: CN103733136A. Автор: 越后雅敏,内山直哉,东原豪. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc. Дата публикации: 2014-04-16.

Silicon-containing film-forming composition, silicon-containing film, silicon-containing film-bearing substrate, and patterning method

Номер патента: EP1845132A3. Автор: Tsutomu c/o New Functional Materials Res. Ctr. Ogihara,Takafumi c/o New Functional Materials Research Ctr. Ueda,Motoaki c/o New Functional Materials Res. Ctr. Iwabuchi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2007-12-26.

Surface-active compounds used as coating aids in film-forming compositions

Номер патента: US3788851A. Автор: J Willems,R Pollet,F Sels,Cat A De. Владелец: Agfa Gevaert NV. Дата публикации: 1974-01-29.

Curable film-forming composition exhibiting improved yellowing resistance

Номер патента: AU2003284047A8. Автор: Masayuki Nakajima,Karen A Barkac,Charles Kania,Kurt A Humbert,Stephen G Mcquown,Karen S Rechenberg,Susan A Campbell. Владелец: PPG Industries Ohio Inc. Дата публикации: 2004-05-04.

A color correction material, a film forming composition, and a filter

Номер патента: TWI492992B. Автор: Tatsuya Ishida,Yosuke Maeda,Satoshi Yanagisawa. Владелец: Adeka Corp. Дата публикации: 2015-07-21.

Silicon-containing film-forming composition, silicon-containing film, silicon-containing film-bearing substrate, and patterning method

Номер патента: TW200806746A. Автор: Tsutomu Ogihara,Motoaki Iwabuchi,Takafumi Ueda. Владелец: Shinetsu Chemical Co. Дата публикации: 2008-02-01.

Color correction material, film-forming composition, and optical filter

Номер патента: EP2298838B1. Автор: Tatsuya Ishida,Yosuke Maeda,Satoshi Yanagisawa. Владелец: Adeka Corp. Дата публикации: 2016-05-04.

Color correction material, film-forming composition, and optical filter

Номер патента: EP2298838A4. Автор: Tatsuya Ishida,Yosuke Maeda,Satoshi Yanagisawa. Владелец: Adeka Corp. Дата публикации: 2013-01-02.

SWELLABLE FILM FORMING COMPOSITIONS AND METHODS OF NANOIMPRINT LITHOGRAPHY EMPLOYING SAME

Номер патента: US20180080119A1. Автор: Olson David B.,Strand John T.. Владелец: . Дата публикации: 2018-03-22.

Hydrogen barrier agent, hydrogen barrier film forming composition, hydrogen barrier film, method for producing hydrogen barrier film, and electronic element

Номер патента: US20180086717A1. Автор: Kazuya Someya,Koichi Misumi,Dai Shiota,Jiro Hikida. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2018-03-29.

Coating film-forming composition and process for producing the same

Номер патента: US20190144707A1. Автор: Taku Kato,Masayoshi Suzuki,Yoshinari Koyama,Natsumi Murakami,Daiki IIJIMA,Tomoki Furukawa. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2019-05-16.

CURED-FILM-FORMING COMPOSITION, ORIENTATION MATERIAL, AND RETARDATION MATERIAL

Номер патента: US20200325327A1. Автор: Ito Jun,Nishimura Naoya. Владелец: NISSAN CHEMICAL CORPORATION. Дата публикации: 2020-10-15.

Resist underlayer film forming composition containing fullerene derivative

Номер патента: TW201142516A. Автор: Yasushi Sakaida,Masakazu Kato,Keisuke Hashimoto,Tetsuya Shinjo,Hiroaki Okuyama. Владелец: Nissan Chemical Ind Ltd. Дата публикации: 2011-12-01.

RESIN COMPOSITION, RESIST UNDERLAYER FILM, RESIST UNDERLAYER FILM-FORMING METHOD AND PATTERN-FORMING METHOD

Номер патента: US20130153535A1. Автор: Murakami Satoru,MATSUMURA Yuushi,NAKAFUJI Shin-ya,Motonari Masayuki,KOUMURA Kazuhiko,MIZOGUCHI Katsuhisa. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2013-06-20.

RESIN COMPOSITION, RESIST UNDERLAYER FILM, RESIST UNDERLAYER FILM-FORMING METHOD AND PATTERN-FORMING METHOD

Номер патента: US20140014620A9. Автор: Murakami Satoru,MATSUMURA Yuushi,NAKAFUJI Shin-ya,Motonari Masayuki,KOUMURA Kazuhiko,MIZOGUCHI Katsuhisa. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2014-01-16.

Resist underlayer film forming composition and method for forming resist pattern by using the composition

Номер патента: TW201341425A. Автор: Takafumi Endo,Rikimaru Sakamoto,Noriaki Fujitani,Ryuji Ohnishi. Владелец: Nissan Chemical Ind Ltd. Дата публикации: 2013-10-16.

SILICON-CONTAINING RESIST UNDERLAYER FILM-FORMING COMPOSITION WHICH CONTAINS PROTECTED PHENOLIC GROUP AND NITRIC ACID

Номер патента: US20210018840A1. Автор: Takeda Satoshi,Nakajima Makoto,Shibayama Wataru,ISHIBASHI Ken. Владелец: NISSAN CHEMICAL CORPORATION. Дата публикации: 2021-01-21.

Silicon-containing resist underlayer film forming composition having blocked isocyanate groups

Номер патента: JP5252234B2. Автор: 誠中島,裕太菅野,亘柴山. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2013-07-31.

Resist underlayer film-forming composition containing naphthalene unit

Номер патента: WO2022196673A1. Автор: 龍太水落,裕斗緒方,知忠広原,護田村. Владелец: 日産化学株式会社. Дата публикации: 2022-09-22.

Resist underlayer film forming composition containing branched polyhydroxystyrene

Номер патента: WO2009038126A1. Автор: Takahiro Hamada,Noriaki Fujitani. Владелец: NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.. Дата публикации: 2009-03-26.

Silicon-containing resist underlayer film forming composition having blocked isocyanate groups

Номер патента: JPWO2009069712A1. Автор: 誠中島,裕太菅野,中島　誠,亘柴山. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2011-04-14.

Resist underlayer film forming composition containing branched polyhydroxystyrene

Номер патента: KR20100058574A. Автор: 타카히로 하마다,노리아키 후지타니. Владелец: 닛산 가가쿠 고교 가부시키 가이샤. Дата публикации: 2010-06-03.

Non-photosensitive resist underlayer film forming composition

Номер патента: TW201248331A. Автор: Shigeo Kimura,Yuki Usui,Takahiro Kishioka,Hirokazu Nishimaki,Tomoya Ohashi. Владелец: Nissan Chemical Ind Ltd. Дата публикации: 2012-12-01.

RESIST UNDERLAYER FILM-FORMING COMPOSITION CONTAINING COPOLYMER RESIN HAVING HETEROCYCLIC RING

Номер патента: US20150011092A1. Автор: HASHIMOTO Keisuke,SHINJO Tetsuya,Nishimaki Hirokazu,Someya Yasunobu,Karasawa Ryo,Sakamoto Rikimaru. Владелец: NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.. Дата публикации: 2015-01-08.

FILM-FORMING COMPOSITION, RESIST UNDERLAYER FILM, METHOD OF FORMING FILM, METHOD OF FORMING RESIST PATTERN, METHOD OF FORMING ORGANIC-UNDERLAYER-FILM REVERSE PATTERN, METHOD OF PRODUCING FILM-FORMING COMPOSITION, AND METHOD OF FORMING METAL-CONTAINING FILM PATTERN

Номер патента: US20220075267A1. Автор: Sakai Kazunori,SERIZAWA Ryuichi,OOTSUBO Yuusuke,OZAKI Yuuki. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2022-03-10.

Porous underlayer film and underlayer film forming composition for forming porous underlayer film

Номер патента: TW200500810A. Автор: Satoshi Takei,Yasushi Sakaida. Владелец: Nissan Chemical Ind Ltd. Дата публикации: 2005-01-01.

Porous underlayer film and underlayer film forming composition used for forming the same

Номер патента: CN1774673B. Автор: 境田康志,竹井敏. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2010-09-29.

Porous underlayer film and underlayer film forming composition used for forming the same

Номер патента: CN1774673A. Автор: 境田康志,竹井敏. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2006-05-17.

Porous underlayer film and underlayer film forming composition used for forming the same

Номер патента: WO2004092840A1. Автор: Satoshi Takei,Yasushi Sakaida. Владелец: NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.. Дата публикации: 2004-10-28.

Porous underlayer film and underlayer film forming composition used for forming the same

Номер патента: EP1619555A1. Автор: S. c/o Nissan Chemical Industries Ltd. Takei,Y. c/o Nissan Chemical Industries Ltd. Sakaida. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2006-01-25.

Lithographic coated-type underlayer film forming composition containing vinylnaphthalene resin derivative

Номер патента: CN101248391B. Автор: 坂口崇洋,榎本智之. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2013-03-27.

Resist protective film forming composition and resist pattern forming method using the same

Номер патента: TW200836013A. Автор: Keita Ishiduka,Toshikazu Takayama. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2008-09-01.

MULTILAYER RESIST PROCESS PATTERN-FORMING METHOD AND MULTILAYER RESIST PROCESS INORGANIC FILM-FORMING COMPOSITION

Номер патента: US20140030660A1. Автор: Nakahara Kazuo,MORI Takashi,TAKANASHI Kazunori,TAKIMOTO Yoshio,Motonari Masayuki. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2014-01-30.

RESIST PROTECTIVE FILM-FORMING COMPOSITION AND PATTERNING PROCESS

Номер патента: US20140080064A1. Автор: Hatakeyama Jun. Владелец: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.. Дата публикации: 2014-03-20.

Protective film-forming composition for immersion exposure and pattern forming method using the same

Номер патента: TW200613923A. Автор: Hiromi Kanda,Shinichi Kanna,Haruki Inabe. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 2006-05-01.

Lubricating film-forming composition and threaded connection for steel pipes

Номер патента: RU2627704C1. Автор: Кунио Гото,Масаеси САСАКИ,Кеиси МАЦУМОТО. Владелец: Валлурек Ойл Энд Гэс Франс. Дата публикации: 2017-08-10.

Dielectric-thin-film forming composition, method of forming dielectric thin film, and dielectric thin film formed by the method

Номер патента: US09595393B2. Автор: Toshiaki Watanabe,Nobuyuki Soyama,Hideaki Sakurai,Guillaume Guegan. Владелец: Mitsubishi Materials Corp. Дата публикации: 2017-03-14.

Polyamideimide Film-Forming Composition, Polyamideimide Film, Method of Preparing Polyamideimide Film-Forming Composition, Method of Producing Polyamideimide Film, and Uses of Polyamideimide Film-Forming Composition and Polyamideimide Film

Номер патента: US20230096745A1. Автор: Hye Jin Park,So Young Lee,Joo Hyun Lee,Cheol Min Yun. Владелец: SK IE Technology Co Ltd. Дата публикации: 2023-03-30.

Film-forming material, film-forming composition, film-forming method using film-forming material and film-forming composition, and semiconductor device fabricated using film-forming method

Номер патента: US20240240318A1. Автор: Jong Moon Kim,Chang Bong Yeon,Jae Sun Jung,Kok Chew TAN. Владелец: Soulbrain Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-18.

LaNiO3 thin film-forming composition and method of forming LaNiO3 thin film using the same

Номер патента: EP2767613A3. Автор: Nobuyuki Soyama,Jun Fujii,Hideaki Sakurai. Владелец: Mitsubishi Materials Corp. Дата публикации: 2015-06-17.

Film forming composition, film, and electronic device

Номер патента: US20090048421A1. Автор: Kaoru Iwato,Haruki Inabe,Youhei Kubo. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2009-02-19.

Polymer, film-forming composition comprising the polymer, insulating film formed by using the composition and electronic device

Номер патента: US7514513B2. Автор: Yasufumi Watanabe. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2009-04-07.

Titanium-containing film forming compositions for vapor deposition of titanium-containing films

Номер патента: US09790591B2. Автор: Julien Gatineau,Clement Lansalot-Matras,Julien LIEFFRIG,Hana ISHII,Changhee Ko. Владелец: LAir Liquide SA pour lEtude et lExploitation des Procedes Georges Claude. Дата публикации: 2017-10-17.

Lubricant film-forming composition and screw joint for steel pipe

Номер патента: US09725671B2. Автор: Kunio Goto,Masayoshi Sasaki,Keishi Matsumoto. Владелец: Nippon Steel and Sumitomo Metal Corp. Дата публикации: 2017-08-08.

Cobalt-containing film forming compositions, their synthesis, and use in film deposition

Номер патента: US09719167B2. Автор: Christian Dussarrat,Jean-Marc Girard,Nicolas Blasco,Satoko GATINEAU,Mikiko Kimura. Владелец: LAir Liquide SA pour lEtude et lExploitation des Procedes Georges Claude. Дата публикации: 2017-08-01.

Aqueous dispersion of polymer particles, film-forming composition containing same and uses thereof

Номер патента: US09642790B2. Автор: Ludwik Leibler,Jean-Marc Pernot,Stéphane Auguste,Francois Tournilhac,Aggeliki Triftaridou,Eva-Maria Leuschner. Владелец: Vivatech Co. Дата публикации: 2017-05-09.

Film-forming composite used to make starch softgel capsules and the method to prepare it

Номер патента: CA2872353C. Автор: Jiawei Zhang,Fangwen Shuai,Xiangfeng Wang. Владелец: Hunan Er Kang Pharmaceutical Co Ltd. Дата публикации: 2017-09-26.

Copper film-forming composition and method for manufacturing copper film in which said composition is used

Номер патента: PH12017500592A1. Автор: Kazuya Saito,Tetsuji Abe,Yasuhisa Furihata. Владелец: Adeka Corp. Дата публикации: 2017-08-30.

Film-forming composition for hard capsules comprising fish gelatin and its preparation method

Номер патента: US20090068469A1. Автор: Hyun-Jin Park,Ho-Jae Bae,Joon-Bum Yi,Young-Teck Kim,Dong-Su Cha. Владелец: BIOCOATS Co Ltd. Дата публикации: 2009-03-12.

Ferrite thin film-forming composition and method of forming ferrite thin film

Номер патента: US20140284515A1. Автор: Toshihiro Doi,Nobuyuki Soyama,Hideaki Sakurai,Kenzo Nakamura,Kazunori Igarashi. Владелец: Mitsubishi Materials Corp. Дата публикации: 2014-09-25.

Releasable film forming compositions

Номер патента: US4535123A. Автор: Shosaku Sasaki,Nobuo Kaiya. Владелец: Toray Silicone Co Ltd. Дата публикации: 1985-08-13.

Film-forming compositions and fog resistant film produced therefrom

Номер патента: US4835194A. Автор: Paul F. Bright,Harbert F. Leder. Владелец: Dow Chemical Co. Дата публикации: 1989-05-30.

Film forming compositions for a vapor barrier

Номер патента: CA1156786A. Автор: William F. Christie. Владелец: Stauffer Chemical Co. Дата публикации: 1983-11-08.

Thermoplastic, film-forming composition comprising a blend of a propylene-ethylene copolymer and a polymer of an alpha-olefin containing 4 to 10 carbon atoms

Номер патента: CA1086887A. Автор: Robert C. Lansbury,Thomas G. Heggs. Владелец: Imperial Chemical Industries Ltd. Дата публикации: 1980-09-30.

Film forming composition of pelletized ldpe

Номер патента: CA1188447A. Автор: Martin A. Phillips, Jr.. Владелец: Goodyear Tire and Rubber Co. Дата публикации: 1985-06-04.

Organosilicon compounds and their use in film-forming compositions

Номер патента: US5246996A. Автор: James Mcvie,Martin Rowlands. Владелец: Dow Corning Ltd. Дата публикации: 1993-09-21.

Zirconium-containing film forming compositions for vapor deposition of zirconium-containing films

Номер патента: WO2016106090A1. Автор: Christian Dussarrat,Clement Lansalot-Matras,Julien LIEFFRIG,Hana ISHII. Владелец: L'air Liquide, Societe Anonyme Pour L'etude Et L'exploitation Des Procedes Georges Claude. Дата публикации: 2016-06-30.

Organosilicon compounds and their use in film-forming compositions

Номер патента: US5397824A. Автор: James Mcvie,Martin Rowlands. Владелец: Dow Corning Ltd. Дата публикации: 1995-03-14.

Film forming composition comprising internally plasticized vinyl chloride copolymer

Номер патента: CA1175973A. Автор: Jagadish C. Goswami. Владелец: Stauffer Chemical Co. Дата публикации: 1984-10-09.

Niobium, vanadium, tantalum film forming compositions and deposition of group v (five) containing films using the same

Номер патента: US20230323530A1. Автор: Wontae NOH,DaeHyeon Kim,Jooho Lee,Venkateswara R. Pallem. Владелец: American Air Liquide Inc. Дата публикации: 2023-10-12.

Niobium vanadium, tantalum film forming compositions and deposition of group v (five) containing films using the same

Номер патента: WO2023200429A1. Автор: Wontae NOH,DaeHyeon Kim,Jooho Lee,Venkateswara R. Pallem. Владелец: L'air Liquide, Societe Anonyme Pour L'etude Et L'exploitation Des Procedes Georges Claude. Дата публикации: 2023-10-19.

Polyamideimide Film-Forming Composition, Method of Preparing the Same, and Use Thereof

Номер патента: US20230340202A9. Автор: Hye Jin Park,Cheol Min Yun. Владелец: SK IE Technology Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-26.

Film-forming composition

Номер патента: US3562787A. Автор: Arthur B Naselow. Владелец: EI Du Pont de Nemours and Co. Дата публикации: 1971-02-09.

Manganese-containing film forming compositions, their synthesis, and use in film deposition

Номер патента: EP3397789A1. Автор: Christian Dussarrat,Jean-Marc Girard,Nicolas Blasco,Satoko GATINEAU,Stefan Wiese. Владелец: LAir Liquide SA pour lEtude et lExploitation des Procedes Georges Claude. Дата публикации: 2018-11-07.

Manganese-containing film forming compositions, their synthesis, and use in film deposition

Номер патента: WO2017116665A1. Автор: Christian Dussarrat,Jean-Marc Girard,Nicolas Blasco,Satoko GATINEAU,Stefan Wiese. Владелец: L'air Liquide, Societe Anonyme Pour L'etude Et L'exploitation Des Procedes Georges Claude. Дата публикации: 2017-07-06.

Film-forming compositions based on starchy material and articles obtained thereof

Номер патента: US20180221486A1. Автор: Bernard Pora,Yong Miao,Jovin Hasjim. Владелец: Roquette Freres SA. Дата публикации: 2018-08-09.

Copolymers of alpha-olefin type monomers and curable film-forming compositions containing them

Номер патента: WO2010075173A1. Автор: Gregory J. McCollum,Simion Coca,Edward R. Coleridge,James B. O'Dwyer. Владелец: PPG Industries Ohio, Inc.. Дата публикации: 2010-07-01.

Polyimide film forming composition and polyimide film produced by using same

Номер патента: US20190276618A1. Автор: Kyungjun Kim,Hye Won Jeong,Cheolmin Yun,Bo Ra Shin. Владелец: LG Chem Ltd. Дата публикации: 2019-09-12.

Resist underlayer film formation composition

Номер патента: US20240103369A1. Автор: Masahisa Endo,Hayato Hattori,Hirokazu Nishimaki,Yuki MITSUTAKE. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2024-03-28.

RESIST UNDERLAYER FILM-FORMING COMPOSITION, PATTERN-FORMING METHOD AND RESIST UNDERLAYER FILM

Номер патента: US20130341304A1. Автор: Minegishi Shin-ya,Komura Kazuhiko,Nakano Takanori,NAKAFUJI Shin-ya. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2013-12-26.

COMPOSITION FOR FORMING RESIST UNDERLAYER FILM, RESIST UNDERLAYER FILM AND RESIST UNDERLAYER FILM-FORMING METHOD, AND PATTERN-FORMING METHOD

Номер патента: US20140272722A1. Автор: Komura Kazuhiko,Murakami Satoru,TAKIMOTO Yoshio,NAKAFUJI Shin-ya,Motonari Masayuki,MIZOGUCHI Katsuhisa. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2014-09-18.

COMPOSITION FOR FORMING RESIST UNDERLAYER FILM, RESIST UNDERLAYER FILM AND RESIST UNDERLAYER FILM-FORMING METHOD, AND PATTERN-FORMING METHOD

Номер патента: US20150198882A9. Автор: Komura Kazuhiko,Murakami Satoru,TAKIMOTO Yoshio,NAKAFUJI Shin-ya,Motonari Masayuki,MIZOGUCHI Katsuhisa. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2015-07-16.

Silicon-containing resist underlayer film forming composition for forming a photocrosslinking cured resist underlayer film

Номер патента: JP5110283B2. Автор: 敏竹井,誠中島,圭祐橋本,有亮堀口. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2012-12-26.

RESIST UNDERLAYER FILM FORMING COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN USING THE SAME

Номер патента: US20140004465A1. Автор: Sakamoto Rikimaru,Ohnishi Ryuji,Endo Takafumi. Владелец: NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.. Дата публикации: 2014-01-02.

Silicon-containing resist underlayer film forming composition and pattern forming method

Номер патента: JP5453361B2. Автор: 勤荻原,貴史上田,俊治矢野,義則種田. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2014-03-26.

Photosensitive resist underlayer film forming composition and method for forming resist pattern

Номер патента: TW201135369A. Автор: Yusuke Horiguchi,Yuki Usui,Takahiro Kishioka,Makiko Umezaki,Hirokazu Nishimaki,Tomoya Ohasi. Владелец: Nissan Chemical Ind Ltd. Дата публикации: 2011-10-16.

RESIST UNDERLAYER FILM FORMING COMPOSITION FOR LITHOGRAPHY CONTAINING POLYETHER STRUCTURE-CONTAINING RESIN

Номер патента: US20130189533A1. Автор: HASHIMOTO Keisuke,SHINJO Tetsuya,Kato Masakazu,Okuyama Hiroaki,Someya Yasunobu. Владелец: NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.. Дата публикации: 2013-07-25.

SILICON-CONTAINING RESIST UNDERLAYER FILM FORMING COMPOSITION HAVING FLUORINE-BASED ADDITIVE

Номер патента: US20130224957A1. Автор: Nakajima Makoto,Kanno Yuta,Haraguchi Masayuki,Matsuyama Motonobu,Misaki Tomoko. Владелец: NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.. Дата публикации: 2013-08-29.

THERMAL CROSSLINKING ACCELERATOR, POLYSILOXANE-CONTAINING RESIST UNDERLAYER FILM FORMING COMPOSITION CONTAINING SAME, AND PATTERNING PROCESS USING SAME

Номер патента: US20140205951A1. Автор: OGIHARA Tsutomu,BIYAJIMA Yusuke,Urano Hiroyuki. Владелец: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.. Дата публикации: 2014-07-24.

RESIST UNDERLAYER FILM FORMING COMPOSITION CONTAINING SILICON HAVING SULFONE STRUCTURE AND AMINE STRUCTURE

Номер патента: US20150159045A1. Автор: Takeda Satoshi,Nakajima Makoto,Kanno Yuta,Takase Kenji,Wakayama Hiroyuki. Владелец: . Дата публикации: 2015-06-11.

RESIST UNDERLAYER FILM FORMING COMPOSITION THAT CONTAINS NOVOLAC RESIN HAVING POLYNUCLEAR PHENOL

Номер патента: US20150184018A1. Автор: HASHIMOTO Keisuke,SHINJO Tetsuya,Nishimaki Hirokazu,Someya Yasunobu,Karasawa Ryo,Sakamoto Rikimaru,Endo Takafumi. Владелец: . Дата публикации: 2015-07-02.

RESIST UNDERLAYER FILM FORMING COMPOSITION CONTAINING SILICON CONTAINING CYCLIC ORGANIC GROUP HAVING HETERO ATOM

Номер патента: US20150249012A1. Автор: Takeda Satoshi,Nakajima Makoto,Kanno Yuta,Takase Kenji,Wakayama Hiroyuki. Владелец: . Дата публикации: 2015-09-03.

RESIST UNDERLAYER FILM FORMING COMPOSITION CONTAINING SILICON HAVING ESTER GROUP

Номер патента: US20150316849A1. Автор: Takeda Satoshi,Nakajima Makoto,Kanno Yuta,Wakayama Hiroyuki. Владелец: . Дата публикации: 2015-11-05.

RESIST UNDERLAYER FILM-FORMING COMPOSITION CONTAINING NAPHTHOL ARALKYL RESIN

Номер патента: US20190302616A1. Автор: HASHIMOTO Keisuke,Karasawa Ryo. Владелец: NISSAN CHEMICAL CORPORATION. Дата публикации: 2019-10-03.

RESIST UNDERLAYER FILM-FORMING COMPOSITION CONTAINING ARYL SULFONATE SALT HAVING HYDROXYL GROUP

Номер патента: US20150378260A1. Автор: HASHIMOTO Keisuke,Nishimaki Hirokazu,Sakamoto Rikimaru,Endo Takafumi. Владелец: . Дата публикации: 2015-12-31.

Resist underlayer film forming composition containing low molecular weight dissolution accelerator

Номер патента: US9645494B2. Автор: Masakazu Kato,Takahiro Hamada,Tomoyuki Enomoto. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2017-05-09.

Resist underlayer film forming composition containing low molecular weight dissolution accelerator

Номер патента: US20100075253A1. Автор: Masakazu Kato,Takahiro Hamada,Tomoyuki Enomoto. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2010-03-25.

Resist underlayer film-forming composition for lithography containing resin having aliphatic ring and aromatic ring

Номер патента: EP2469338A1. Автор: Yasushi Sakaida,Keisuke Hashimoto,Tetsuya Shinjo,Hirokazu Nishimaki. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2012-06-27.

Resist underlayer film forming composition

Номер патента: JP5083573B2. Автор: 徹也新城,崇洋坂口. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2012-11-28.

Resist underlayer film-forming composition containing aryl sulfonate salt having hydroxyl group

Номер патента: WO2014129582A1. Автор: 坂本　力丸,橋本　圭祐,貴文遠藤,裕和西巻. Владелец: 日産化学工業株式会社. Дата публикации: 2014-08-28.

Resist underlayer film forming composition containing a low molecular dissolution accelerator

Номер патента: JP4858725B2. Автор: 雅一加藤,榎本　　智之,貴広浜田. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2012-01-18.

Resist underlayer film-forming composition comprising fluoroalkyl group-containing organic acid or salt thereof

Номер патента: TW202222788A. Автор: 西卷裕和,木村哲也. Владелец: 日商日產化學股份有限公司. Дата публикации: 2022-06-16.

Photosensitive resist underlayer film forming composition

Номер патента: US8685615B2. Автор: Shigeo Kimura,Yuki Usui,Takahiro Kishioka,Hirokazu Nishimaki,Tomoya Ohashi. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2014-04-01.

Resist underlayer coating film forming composition and patterning method by using the same

Номер патента: TW201019049A. Автор: Rikimaru Sakamoto,Tomohisa Ishida,Yoshiomi Hiroi. Владелец: Nissan Chemical Ind Ltd. Дата публикации: 2010-05-16.

UNDERLAYER FILM-FORMING COMPOSITION FOR SELF-ASSEMBLED FILMS

Номер патента: US20150118396A1. Автор: Nakajima Makoto,Sakamoto Rikimaru,Wakayama Hiroyuki. Владелец: . Дата публикации: 2015-04-30.

UNDERLAYER FILM-FORMING COMPOSITION FOR USE IN FORMING A MICROPHASE-SEPARATED PATTERN

Номер патента: US20190359749A1. Автор: Someya Yasunobu,Sakamoto Rikimaru,Wakayama Hiroyuki,MIZUOCHI Ryuta. Владелец: NISSAN CHEMICAL CORPORATION. Дата публикации: 2019-11-28.

Method for manufacturing semiconductor device using organic underlayer film-forming composition for solvent development lithography processes

Номер патента: KR102139579B1. Автор: 리키마루 사카모토,야스노부 소메야,사토시 타케다,케이스케 하시모토,테츠야 신조. Владелец: 닛산 가가쿠 가부시키가이샤. Дата публикации: 2020-07-30.

Method for manufacturing semiconductor device using organic underlayer film-forming composition for solvent development lithography processes

Номер патента: WO2014007079A1. Автор: 徹也新城,坂本　力丸,諭武田,安信染谷,橋本　圭祐. Владелец: 日産化学工業株式会社. Дата публикации: 2014-01-09.

Lithographic underlayer film-forming composition comprising a compound having a protected carboxyl group

Номер патента: JPWO2005013601A1. Автор: 敏竹井,徹也新城,高広岸岡,岸岡　　高広,康志境田. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2007-10-11.

Polyisocyanate composition, film-forming composition, film, film laminate, adhesive resin composition and adhesive resin-cured product, coating composition and coating material-cured product

Номер патента: US20240309146A1. Автор: Akira Takei,Masakazu Yamauchi,Takahiro Funatsu. Владелец: Asahi Kasei Corp. Дата публикации: 2024-09-19.

Pattern Forming Method and Underlayer Film Forming Material

Номер патента: KR100929968B1. Автор: 준 하따께야마. Владелец: 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2009-12-04.

A film forming composition, a diffusing agent composition, a method for producing a film forming composition, and a method for producing a diffuser composition

Номер патента: TWI583740B. Автор: Toshiro Morita,Takashi KAMIZONO. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2017-05-21.

Peelable foam coating composition comprising an aqueous film forming composition, release agent, propellant, thickening agent surfactant antioxidant and a profoamer

Номер патента: NZ522488A. Автор: Wen-Chen Su,Zhiqiang Zhang,Richard J Baumgart,Michael A Dituro,Frances E Lockwood,Daniel J Dotson. Владелец: Ashland Inc. Дата публикации: 2005-09-30.

Protective film forming composition, protective film forming sheet, and chip provided with protective film

Номер патента: US09890293B2. Автор: Hiroyuki Yoneyama,Daisuke Yamamoto. Владелец: Lintec Corp. Дата публикации: 2018-02-13.

SYNTHESIS OF BLOCK COPOLIMERS WITH AMPHILIC PROPERTIES AS ADHESIVE PROMOTORS OF WATER FILM-FORMING COMPOSITIONS ON A LOW-ENERGY SURFACE AND A WATER FILM-FORMING COMPOSITION

Номер патента: RU2003128869A. Автор: Матиас ДЕСТАРАК,Сесиль БОННЕ-ГОННЕ,Лионель КЕВАЛЬ,Матиас ДЕСТАРАК (FR),Сесиль БОННЕ-ГОННЕ (FR),Лионель КЕВАЛЬ (FR). Владелец: Родиа Шими (Fr). Дата публикации: 2005-04-10.

Resist protective film-forming composition and patterning process

Номер патента: US20140080064A1. Автор: Jun Hatakeyama. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2014-03-20.

Method for manufacturing micro-structure and optically patternable sacrificial film-forming composition

Номер патента: US09606435B2. Автор: Hideyoshi Yanagisawa,Yoshinori Hirano. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2017-03-28.

Improved film-forming compositions for protecting animal skin

Номер патента: CA2239725C. Автор: Mark A. Henderson,Thomas C. Hemling,Chris B. Stapley. Владелец: West Agro Inc. Дата публикации: 2006-10-17.

Adhesion promoting composition and method for producing laminate, and film forming composition and method for producing film

Номер патента: US20220403216A1. Автор: Yoshio Nojima,Atsuko Noya. Владелец: Merck Patent GmBH. Дата публикации: 2022-12-22.

FILM-FORMING COMPOSITION, DIFFUSING AGENT COMPOSITION, METHOD FOR MANUFACTURING FILM-FORMING COMPOSITION, AND METHOD FOR MANUFACTURING DIFFUSING AGENT COMPOSITION

Номер патента: US20130281592A1. Автор: Morita Toshiro,Kamizono Takashi. Владелец: TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.. Дата публикации: 2013-10-24.

Film forming compositions containing molybdate derived coatings

Номер патента: GB2608669A. Автор: Boomer Kent,Merritt Ryan. Владелец: Patent Well LLC. Дата публикации: 2023-01-11.

Cellulosic film-forming composition

Номер патента: GB1157319A. Автор: Joseph Park,Malcolm Gordon Stewart. Владелец: Imperial Chemical Industries Ltd. Дата публикации: 1969-07-09.

Curable film-forming compositions comprising catalyst associated with a carrier and methods for coating a substrate

Номер патента: US11981832B2. Автор: Scott J. Moravek,Davina J. Schwartzmiller. Владелец: PPG Industries Ohio Inc. Дата публикации: 2024-05-14.

FILM FORMING COMPOSITIONS OBTAINED FROM ACYCLIC CARBONATES OR POLYAMINES, METHOD FOR PRODUCING THEM, AND COATED PRODUCT

Номер патента: RU2007141382A. Автор: Грегори Дж. МакКОЛЛАМ,Алан Дж. КАЙЛО,Томас С. МОРИЭРИТИ,Эсваракришнан ВЕНКАТАЧАЛАМ,Мэтью СКОТТ,Джудит А. ОРЦЕШОВСКИ,Кевин Дж. ДАФФОРД,Дейвид Роберт ФЕНН,Джеффри Р. Младший ВЕБСТЕР,Грегори Дж. МакКОЛЛАМ (US),Эсваракришнан ВЕНКАТАЧАЛАМ (US),Мэтью СКОТТ (US),Джеффри Р. Младший ВЕБСТЕР (US),Джудит А. ОРЦЕШОВСКИ (US),Кевин Дж. ДАФФОРД (US),Дейвид Роберт ФЕНН (US),Алан Дж. КАЙЛО (US),Томас С. МОРИЭРИТИ (US). Владелец: Ппг Индастриз Огайо, Инк. (Us). Дата публикации: 2009-05-20.

HARDENING FILM-FORMING COMPOSITIONS CONTAINING LITHIUM SILICATES AS CORROSION INHIBITORS AND COATED MULTILAYER METAL SUBSTRATES

Номер патента: RU2020123986A. Автор: Эрик Л. МОРРИС,Майкл А. МЭЙО,Элизабет А. ФУРАР,Томми Дж. БАНТЕН. Владелец: Прк-Десото Интернэшнл, Инк.. Дата публикации: 2022-01-20.

CURABLE FILM FORMING COMPOSITIONS DEMONSTRATING SELF-SEALING PROPERTIES

Номер патента: RU2010111764A. Автор: Ричард Дж. Седвари,Деннис А. СИМПСОН,Курт Г. ОЛСОН,Лайл Л. ФОРИНГЕР,Константин А. КОНДОС,Деннис А. СИМПСОН (US),Лайл Л. ФОРИНГЕР (US),Константин А. КОНДОС (US),Ричард Дж. СЕДВАРИ (US),Курт Г. ОЛСОН (US). Владелец: Ппг Индастриз Огайо, Инк. (Us). Дата публикации: 2011-10-10.

Base coat and primer film-forming compositions containing polyacrylate fibers, acrylic polymer precursors, styrene and polyester resin particularly adapted for automobile finishing applications

Номер патента: US4992490A. Автор: John Power,David L. Childress,Mark A. Garner, Sr.,William L. Childress. Владелец: Miracle Shield Partnership. Дата публикации: 1991-02-12.

Silica coated film forming composition for inkjet, forming method of silica coated film, semiconductor device and solar battery system

Номер патента: TW201250841A. Автор: Shigeru Nobe,Yuuhei Okada,Takahiro Yoshikawa. Владелец: Hitachi Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2012-12-16.

Transparent coating film forming composition

Номер патента: EP3674351B1. Автор: Tatsuro Kaneko. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-02-22.

Dulled film-forming composition

Номер патента: US2627478A. Автор: Kenneth R Brown,Howard L Bewick. Владелец: Sherwin Williams Co. Дата публикации: 1953-02-03.

Film-forming composition and film-forming method using same

Номер патента: EP3048146B1. Автор: Masakazu Kobayashi,Shunji Kawato,Yuki Ozaki,Noboru SATAKE. Владелец: Merck Patent GmBH. Дата публикации: 2024-03-27.

Silica coated film forming composition for inkjet, forming method of silica coated film, semicomductor device and solar battery system

Номер патента: TW201247794A. Автор: Shigeru Nobe,Yuuhei Okada,Takahiro Yoshikawa. Владелец: Hitachi Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2012-12-01.

Pigments and film-forming compositions containing the same

Номер патента: US2037323A. Автор: Henry A Gardner. Владелец: Individual. Дата публикации: 1936-04-14.

An organic silicon compound, a film-forming composition and an organic thin film using the same

Номер патента: TWI477506B. Автор: Toshiaki Takahashi,Tomoya Hidaka,Daisuke Asanuma. Владелец: Nippon Soda Co. Дата публикации: 2015-03-21.

Aluminium based film forming composition

Номер патента: AU2008376A. Автор: P Nield. Владелец: Manchem Ltd. Дата публикации: 1978-06-08.

Dielectric film-forming composition

Номер патента: EP4176001A4. Автор: Raj Sakamuri,Sanjay Malik,Stephanie Dilocker,Binod B De,William A Reinerth. Владелец: Fujifilm Electronic Materials USA Inc. Дата публикации: 2024-07-31.

Protective film-forming composition for immersion exposure and pattern-forming method using the same

Номер патента: TWI372945B. Автор: Hiromi Kanda. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2012-09-21.

Strippable and anti-corrosive film-forming compositions

Номер патента: MY7300313A. Автор: . Владелец: Kurita Water Ind Ltd. Дата публикации: 1973-12-31.

Film forming composition for coating the pins of a module

Номер патента: DE2862413D1. Автор: Peter Bakos,Richard Martin Poliak,Roger Eugene Haggett. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1984-07-05.

Organosilicon compound, thin film forming composition using same, and organic thin film

Номер патента: US09481801B2. Автор: Toshiaki Takahashi,Tomoya Hidaka,Daisuke Asanuma. Владелец: Nippon Soda Co Ltd. Дата публикации: 2016-11-01.

SILICA-BASED FILM-FORMING COMPOSITION, METHOD OF PRODUCING SUBSTRATE INCLUDING SILICA-BASED FILM, AND ADDITIVE ADDED TO SILICA-BASED FILM-FORMING COMPOSITION

Номер патента: US20200024463A1. Автор: Fujii Yasushi. Владелец: TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.. Дата публикации: 2020-01-23.

CURABLE FILM-FORMING COMPOSITIONS CONTAINING ACID FUNCTIONAL CURING AGENTS AND MULTILAYER COMPOSITE COATINGS

Номер патента: US20180105717A1. Автор: Simpson Dennis A.,Swarup Shanti,Luchansky Matthew S.,Radich Stella Ann. Владелец: . Дата публикации: 2018-04-19.

CURABLE FILM-FORMING COMPOSITIONS CONTAINING HYDROXYL FUNCTIONAL, BRANCHED ACRYLIC POLYMERS AND MULTILAYER COMPOSITE COATINGS

Номер патента: US20180105718A1. Автор: Swarup Shanti,Lewis Jason Ryan. Владелец: . Дата публикации: 2018-04-19.

Film-forming composition, method for producing surface-treated metal member, and method for producing metal-resin composite

Номер патента: US20190127606A1. Автор: Daisaku Akiyama,Masao Okada,Masaru Takahashi,Yoichi Sengoku,Keisuke JOKO,Yasutaka Amitani,Itsuro Tomatsu,Tokuya SATOMI,Ryoko MITANI. Владелец: MEC Co Ltd. Дата публикации: 2019-05-02.

LAMINATED BODY, METHOD OF MANUFACTURING LAMINATED BODY, ANTIFOGGING FILM FORMING COMPOSITION, ANTIFOGGING FILM, AND SET OF ANTIFOGGING FILM FORMING COMPOSITIONS

Номер патента: US20220276410A1. Автор: Watanabe Makoto. Владелец: Mitsui Chemicals, Inc.. Дата публикации: 2022-09-01.

CURABLE FILM-FORMING COMPOSITIONS CONTAINING REACTIVE FUNCTIONAL POLYMERS AND POLYSILOXANE RESINS, MULTILAYER COMPOSITE COATINGS, AND METHODS FOR THEIR USE

Номер патента: US20200140680A1. Автор: Cao Bin,Swarup Shanti,Zhou Hongying,Donaldson Susan Fundy,Luchansky Matthew S.,Jones Justin,Burgman John W.,Lewis Jason Ryan,Kirby Danielle. Владелец: PPG Industries Ohio, Inc.. Дата публикации: 2020-05-07.

Film-forming composition, method for producing surface-treated metal member, and method for producing metal-resin composite

LANIO3 THIN-FILM-FORMING COMPOSITION, AND METHOD FOR FORMING LANIO3 THIN-FILM IN WHICH SAID COMPOSITION IS USED

Номер патента: US20160254268A1. Автор: Sakurai Hideaki,Soyama Nobuyuki,Fujii Jun. Владелец: . Дата публикации: 2016-09-01.

CURABLE FILM-FORMING COMPOSITIONS CONTAINING HYDROXYL FUNCTIONAL ACRYLIC POLYMERS AND BISUREA COMPOUNDS AND MULTILAYER COMPOSITE COATINGS

Номер патента: US20180334584A1. Автор: Swarup Shanti,Zhou Hongying,Luchansky Matthew S.,Jones Justin,Burgman John W.,Lewis Jason Ryan,Kirby Danielle. Владелец: . Дата публикации: 2018-11-22.

SOLVENT COMPOSITION, CLEANING METHOD, COATING FILM-FORMING COMPOSITION, AND METHOD OF FORMING A COATING FILM

Номер патента: US20180370882A1. Автор: Ikeda Daisuke,MITSUOKA Hiroaki,MIKI Toshio,HANADA Tsuyoshi. Владелец: AGC Inc.. Дата публикации: 2018-12-27.

Flexible aminoplast-curable film-forming compositions and composite coating

Номер патента: AU1831897A. Автор: Steven V Barancyk,William A Humphrey,Gina M. Terrago,Christopher A Verardi. Владелец: PPG Industries Inc. Дата публикации: 1997-08-11.

Polymeric imine functional compositions and their use in film-forming compositions

Номер патента: US6228971B1. Автор: Robert E. Jennings,Jonathan T. Martz,Joseph M. Carney. Владелец: PPG Industries Ohio Inc. Дата публикации: 2001-05-08.

Film-forming compositions substantially free of organic solvent, multi-layer composite coatings and related methods

Номер патента: CN1950416A. Автор: A·威廉姆斯,L·G·安德森,C·M·卡尼亚,R·L·马丁,C·A·K·诺瓦克,T·R·霍克斯温德,M·A·塔克,M·B·格罗尔蒙德,D·D·拉根,G·M·特拉格. Владелец: PPG Industries Inc. Дата публикации: 2007-04-18.

Film-forming compositions substantially free of organic solvent, multi-layer composite coatings and related methods

Номер патента: CN1950416B. Автор: A·威廉姆斯,L·G·安德森,C·M·卡尼亚,R·L·马丁,C·A·K·诺瓦克,T·R·霍克斯温德,M·A·塔克,M·B·格罗尔蒙德,D·D·拉根,G·M·特拉格. Владелец: PPG Industries Inc. Дата публикации: 2010-06-02.

Curable film-forming compositions containing hydroxyl-functional acrylic polymers and bisurea compounds and multilayer composite coatings

Номер патента: ES2898220T3. Автор: Shanti Swarup,Hongying Zhou,Justin Jones,Jason Ryan Lewis,Matthew S Luchansky,John W Burgman,Danielle Kirby. Владелец: PPG Industries Ohio Inc. Дата публикации: 2022-03-04.

Film-forming compositions substantially free of organic solvent, multi-layer composite coatings and related methods

Номер патента: KR100854181B1. Автор: 로렌스 지 앤더슨,마크 에이 터커,토마스 알 혹스웬더,찰스 엠 카니아,록살라나 엘 마틴,캐롤라인 에이케이 노박,매리 베스 그롤레문드,데이어드레 디 래건,앨리시아 윌리엄스,기나 엠 테라고. Владелец: 피피지 인더스트리즈 오하이오 인코포레이티드. Дата публикации: 2008-08-26.

Lanio3 thin-film-forming composition, and method for forming lanio3 thin-film in which said composition is used

Номер патента: CN105531798A. Автор: 藤井顺,樱井英章,曽山信幸. Владелец: Mitsubishi Materials Corp. Дата публикации: 2016-04-27.

Curable film-forming compositions containing reactive functional polymers and polysiloxane resins, multilayer composite coatings, and methods for their use

Номер патента: WO2019014414A1. Автор: Susan Fundy Donaldson,Shanti Swarup,John W. Burgman,Hongying Zhou,Bin Cao,Justin Jones,Matthew S. Luchansky,Jason Ryan Lewis,Danielle Kirby. Владелец: PPG Industries Ohio, Inc.. Дата публикации: 2019-01-17.

Curable film-forming compositions containing hydroxyl functional acrylic polymers and bisurea compounds and multilayer composite coatings

Номер патента: EP3625302A1. Автор: Shanti Swarup,John W. Burgman,Hongying Zhou,Justin Jones,Matthew S. Luchansky,Jason Ryan Lewis,Danielle Kirby. Владелец: PPG Industries Ohio Inc. Дата публикации: 2020-03-25.

Film forming composition comprising modified nanoparticles and method for using modified nanoparticles in film forming compositions

Номер патента: JP2015163706A. Автор: Hendrikus Gerrit Brinkhuis Richard,アンドレヨゼフシュッタイサーヤン,Andre Jozef Schutyser Jan,アンドレヨゼフシュッタイサーヤン,アンドリアヌスマリアヴィヴェルベルグコルネリス,Adrianus Maria Vijverberg Cornelis,アンドリアヌスマリアヴィヴェルベルグコルネリス,ヘンドリクスゲリットブリンクフイスリカルド,ヘンドリクスゲリットブリンクフイスリカルド. Владелец: Nuplex Resins BV. Дата публикации: 2015-09-10.

Curable film-forming compositions comprising reactive functional polymers and polysiloxane resins, multilayer composite coatings and methods of using the same

Номер патента: KR102458569B1. Автор: 저스틴 존스,홍잉 저우,산티 스와럽,제이슨 라이언 루이스,수잔 펀디 도날드슨,매튜 에스 루찬스키,존 더블유 버그맨,빈 카오,다니엘 커비. Владелец: 피피지 인더스트리즈 오하이오 인코포레이티드. Дата публикации: 2022-10-24.

Curable film-forming composition comprising reactive functional polymer and polysiloxane resin, multilayer composite coating and method of using same

Номер патента: CN110959029A. Автор: 曹斌,周宏英,J·琼斯,S·斯瓦鲁普,S·F·唐纳森,J·R·勒维斯,M·S·卢查恩斯基,J·W·巴尔格曼,D·柯比. Владелец: PPG Industries Ohio Inc. Дата публикации: 2020-04-03.

Etherified carbamate crosslinking agents and their use in curable compositions, particularly film-forming compositions

Номер патента: US20030216517A1. Автор: Steven Barancyk,Michael Mayo,William Humphrey,Jane Valenta,Sherry Gaggini. Владелец: PPG Industries Ohio Inc. Дата публикации: 2003-11-20.

CURING FILM-FORMING COMPOSITIONS CONTAINING REACTIVE FUNCTIONAL POLYMERS AND POLYSILOXANE RESINS, MULTI-LAYER COMPOSITE COATINGS AND METHODS FOR THEIR USE

Номер патента: RU2020106819A. Автор: Хунин ЧЖОУ,Мэтью С. ЛУЧАНСКИ,Шанти СВАРУП,Джон У. БЁРГМАН,Джастин ДЖОНС,Даниэль КИРБИ,Сьюзан Фанди ДОНАЛДСОН,Бинь ЦАО,Джейсон Райан ЛЕВИ. Владелец: Ппг Индастриз Огайо, Инк.. Дата публикации: 2021-08-16.

Curable film-forming composition containing hydroxyl-functional acrylic polymer and diurea compound and multilayer composite coating

Номер патента: CN110637072A. Автор: 周宏英,J·琼斯,S·斯瓦鲁普,J·R·勒维斯,M·S·卢查恩斯基,J·W·巴尔格曼,D·柯比. Владелец: PPG Industries Ohio Inc. Дата публикации: 2019-12-31.

A disinfectant film-forming composition and a dry disinfectant film formed on a surface from the film forming composition

Номер патента: WO2023075664A1. Автор: Abhilash SUGUNAN,Petru NIGA,Rubén ÁLVAREZ-ASENCIO. Владелец: Rise Research Institutes of Sweden AB. Дата публикации: 2023-05-04.

Solvent composition, cleaning method, coating film-forming composition, and method of forming a coating film

Номер патента: EP3409758B1. Автор: Daisuke Ikeda,Toshio Miki,Hiroaki Mitsuoka,Tsuyoshi Hanada. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2021-03-03.

Polymeric compositions, stable aqueous polymeric dispersion, method of preparation thereof, dried powder, film-forming composition for treatment of paper, method of application of film coating onto paper, and paper material

Номер патента: RU2094443C1. Автор: С. Нгуен Чарльз,Дж. Мартин Верне,П. Поли Эдвард,Л. Баксигросс Генри,Рудольф Стефен. Владелец: Пенфорд Продактс Компани. Дата публикации: 1997-10-27.

Transparent film-forming composition

Номер патента: US7547357B2. Автор: Jun Tanaka,Masayuki Sanbayashi. Владелец: Showa Denko KK. Дата публикации: 2009-06-16.

Film-forming compositions substantially free of organic solvent, multi-layer composite coatings and related methods

Номер патента: WO2005113630A1. Автор: Thomas R. Hockswender,Charles M. Kania,Lawrence G. Anderson,Gina M. Terrago,Mark A. Tucker,Deirdre D. Ragan,Carolyn A.K. Novak,Alicia Williams,Roxalana L. Martin,Mary Beth Grolemund. Владелец: PPG Industries Ohio, Inc.. Дата публикации: 2005-12-01.

Curable film-forming compositions comprising reactive functional polymers and polysiloxane resins, multilayer composite coatings and methods of using them

Номер патента: KR20200031650A. Автор: 저스틴 존스,홍잉 저우,산티 스와럽,제이슨 라이언 루이스,수잔 펀디 도날드슨,매튜 에스 루찬스키,존 더블유 버그맨,빈 카오,다니엘 커비. Владелец: 피피지 인더스트리즈 오하이오 인코포레이티드. Дата публикации: 2020-03-24.

Reactive organic diluent in polyol resin film-forming compositions

Номер патента: CA1177194A. Автор: Ronald J. Lewarchik,Carl C. Anderson,Joseph A. Klanica,William J. Birkmeyer. Владелец: PPG Industries Inc. Дата публикации: 1984-10-30.

Film-forming compositions substantially free of organic solvent, multi-layer composite coatings and related methods

Номер патента: KR20060134201A. Автор: 로렌스 지 앤더슨,마크 에이 터커,토마스 알 혹스웬더,찰스 엠 카니아,록살라나 엘 마틴,캐롤라인 에이케이 노박,매리 베스 그롤레문드,데이어드레 디 래건,앨리시아 윌리엄스,기나 엠 테라고. Владелец: 피피지 인더스트리즈 오하이오 인코포레이티드. Дата публикации: 2006-12-27.

Film forming composition, process for producing film forming composition, process for forming film, and silica-based film

Номер патента: TWI266382B. Автор: Koichi Hasegawa,Masahiro Akiyama,Seitaro Hattori,Masaki Obi. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2006-11-11.

Metal oxide film-forming composition and method of producing metal oxide film using the composition

Номер патента: KR20230004306A. Автор: 다이 시오타,구니히로 노다,아츠시 야마노우치,겐이치 야마우치,미치히토 다카하시. Владелец: 도쿄 오카 고교 가부시키가이샤. Дата публикации: 2023-01-06.

Hydrophilic film-forming composition, spray composition, and hydrophilic member using the same

Номер патента: WO2009025247A1. Автор: SATOSHI Tanaka,Yoshiaki Kondo,Yuichiro Murayama,Sumiaki Yamazaki. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2009-02-26.

Porous-film-forming composition, preparation method of the composition, porous film and semiconductor device

Номер патента: EP1559761B1. Автор: Tsutomu Ogihara,Masaru Sasago,Fujio Yagihashi,Takeshi Asano,Yoshitaka Hamada,Hideo Nakagawa,Motoaki Iwabuchi. Владелец: Panasonic Corp. Дата публикации: 2011-03-09.

Combined organic/inorganic polyols in waterborne film-forming compositions

Номер патента: CA2431815C. Автор: Brian K. Rearick,Joseph A. Klanica. Владелец: PPG Industries Ohio Inc. Дата публикации: 2008-03-18.

Film forming composition, laminate, film, sheet substrate, packaging material, film forming composition manufacturing method, cellulose dispersion manufacturing method

Номер патента: JPWO2013042654A1. Автор: 光晴木村,友美子大森,奈緒西嶋,宏祐清水. Владелец: Toppan Inc. Дата публикации: 2015-03-26.

Curable film-forming compositions containing reactive functional polymers and polysiloxane resins, multilayer composite coatings, and methods for their use

Номер патента: EP3652259B1. Автор: Susan Fundy Donaldson,Shanti Swarup,John W. Burgman,Hongying Zhou,Bin Cao,Justin Jones,Matthew S. Luchansky,Jason Ryan Lewis,Danielle Kirby. Владелец: PPG Industries Ohio Inc. Дата публикации: 2024-03-20.

Film-forming composition, method for producing surface-treated metal member, and method for producing metal-resin composite

Номер патента: EP3636802B1. Автор: Yuko Shibanuma,Yasutaka Amitani,Itsuro Tomatsu,Kosuke KUMAZAKI,Ikuyo KATAYAMA. Владелец: MEC Co Ltd. Дата публикации: 2021-05-19.

Thermosetting film-forming compositions that produce atrane-containing cured coatings

Номер патента: US20120101189A1. Автор: Gregory J. McCollum,Kurt G. Olson,Randy E. Daughenbaugh,Nathan J. Silvernail,Michael Zalich,Susan Donaldson. Владелец: PPG Industries Ohio Inc. Дата публикации: 2012-04-26.

Method for manufacturing micro-structure and optically patternable sacrificial film-forming composition

Номер патента: US20120292286A1. Автор: Hideyoshi Yanagisawa,Yoshinori Hirano. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2012-11-22.

FILM-FORMING COMPOSITION

Номер патента: US20130154043A1. Автор: Nishimura Naoya,Ozawa Masaaki,KATO Taku,Koyama Yoshinari,Murakami Natsumi. Владелец: NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.. Дата публикации: 2013-06-20.

DIELECTRIC THIN FILM-FORMING COMPOSITION, METHOD OF FORMING DIELECTRIC THIN FILM AND DIELECTRIC THIN FILM FORMED BY THE METHOD

Номер патента: US20130155571A1. Автор: Sakurai Hideaki,Guegan Guillaume,Watanabe Toshiaki,Soyama Nobuyuki. Владелец: . Дата публикации: 2013-06-20.

Oxide Coated Metal Pigments and Film-Forming Compositions

Номер патента: US20130168612A1. Автор: Craig Matzdorf,William Nickerson. Владелец: US Department of Navy. Дата публикации: 2013-07-04.

SILICON-CONTAINING SURFACE MODIFIER, RESIST LOWER LAYER FILM-FORMING COMPOSITION CONTAINING THE SAME, AND PATTERNING PROCESS

Номер патента: US20130210229A1. Автор: OGIHARA Tsutomu,UEDA Takafumi,TANEDA Yoshinori. Владелец: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.. Дата публикации: 2013-08-15.

FERRITE THIN FILM-FORMING COMPOSITION MATERIAL, METHOD OF FORMING FERRITE THIN FILM, AND FERRITE THIN FILM FORMED USING THE SAME

Номер патента: US20130256582A1. Автор: Sakurai Hideaki,Soyama Nobuyuki,Doi Toshihiro,Igarashi Kazunori,Nakamura Kenzo. Владелец: MITSUBISHI MATERIALS CORPORATION. Дата публикации: 2013-10-03.

FILM-FORMING COMPOSITION

Номер патента: US20130281620A1. Автор: Nishimura Naoya,Ozawa Masaaki,Koide Yasuyuki,KATO Taku,Musashi Hideki,YASUI Kei. Владелец: NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.. Дата публикации: 2013-10-24.

TRIAZINE RING-CONTAINING POLYMER AND FILM-FORMING COMPOSITION CONTAINING SAME

Номер патента: US20130289203A1. Автор: Nishimura Naoya,Ozawa Masaaki,Koide Yasuyuki. Владелец: NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.. Дата публикации: 2013-10-31.

Zinc oxide film-forming composition, zinc oxide film production method, and zinc compound

Номер патента: US20130323413A1. Автор: Atsuya Yoshinaka,Tetsuji Abe. Владелец: Adeka Corp. Дата публикации: 2013-12-05.

LOW REFRACTIVE INDEX FILM-FORMING COMPOSITION AND METHOD OF FORMING LOW REFRACTIVE INDEX FILM USING THE SAME

Номер патента: US20130327252A1. Автор: Yamasaki Kazuhiko,Higano Satoko. Владелец: . Дата публикации: 2013-12-12.

UPPER SURFACE ANTIREFLECTIVE FILM FORMING COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING SAME

Номер патента: US20140030661A1. Автор: KATAYAMA Tomohide,Sao Takayuki. Владелец: AZ ELECTRONIC MATERIALS USA CORP.. Дата публикации: 2014-01-30.

CURABLE FILM-FORMING COMPOSITIONS AND METHOD OF MITIGATING DIRT BUILD-UP ON A SUBSTRATE

Номер патента: US20160009940A1. Автор: Swarup Shanti,Polk W David. Владелец: . Дата публикации: 2016-01-14.

UNDER LAYER FILM-FORMING COMPOSITION FOR IMPRINTS AND METHOD FOR FORMING PATTERN

Номер патента: US20160009946A1. Автор: Enomoto Yuichiro,KITAGAWA Hirotaka. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2016-01-14.

CURABLE FILM-FORMING COMPOSITIONS COMPRISING CATALYST ASSOCIATED WITH A CARRIER AND METHODS FOR COATING A SUBSTRATE

Номер патента: US20210009821A1. Автор: Schwartzmiller Davina J.,MORAVEK SCOTT J.. Владелец: PPG Industries Ohio, Inc.. Дата публикации: 2021-01-14.

RESIN THIN-FILM-FORMING COMPOSITION FOR EASILY-PEELABLE PROTECTION

Номер патента: US20180016446A1. Автор: Sato Tetsuo. Владелец: NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.. Дата публикации: 2018-01-18.

CONDUCTIVE FILM FORMING COMPOSITION, CONDUCTIVE FILM, AND WIRING BOARD

Номер патента: US20160021741A1. Автор: MATSUMURA Tokihiko,MATSUSHITA Yasuaki. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2016-01-21.

CONDUCTIVE FILM-FORMING COMPOSITION AND CONDUCTIVE FILM PRODUCING METHOD

Номер патента: US20160024316A1. Автор: SASADA Misato,HAYATA Yuuichi,KARIYA Toshihiro,HONGO Yushi. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2016-01-28.

FILM-FORMING COMPOSITION INCLUDING AN AGENT CAPABLE OF TRAPPING FORMALDEHYDE

Номер патента: US20160024319A1. Автор: Blanchard Benjamin,Chuda Katarzyna. Владелец: Saint-Gobain Adfors. Дата публикации: 2016-01-28.

SILICOUS FILM FORMING COMPOSITION COMPRISING BLOCK COPOLYMER AND METHOD FOR PRODUCING SILICEOUS FILM USING SAME

Номер патента: US20220041814A1. Автор: Fujiwara Takashi,SATO Atsuhiko. Владелец: . Дата публикации: 2022-02-10.

FILM FORMING COMPOSITIONS AND USES THEREOF

Номер патента: US20200022898A1. Автор: Zhu Yong. Владелец: Coty Inc.. Дата публикации: 2020-01-23.

CURABLE FILM-FORMING COMPOSITIONS PREPARED FROM MULTIPLE HYDROPHOBIC POLYMERS AND METHOD OF MITIGATING DIRT BUILD-UP ON A SUBSTRATE

Номер патента: US20200024472A1. Автор: Swarup Shanti,Xu Xiangling,Luchansky Matthew S.,Moyano Daniel F.,Ehmann Caitlin. Владелец: PPG Industries Ohio, Inc.. Дата публикации: 2020-01-23.

ACRYLIC POLYMERS, AQUEOUS POLYMERIC DISPERSIONS PREPARED THEREFROM, AND CURABLE FILM-FORMING COMPOSITIONS PREPARED THEREFROM

Номер патента: US20210024661A1. Автор: Walters David,Swarup Shanti,McHenry Deena M.. Владелец: PPG Industries Ohio, Inc.. Дата публикации: 2021-01-28.

FILM-FORMING COMPOSITIONS FOR THE FILM-COATING OF SOLID FORMS

Номер патента: US20190038563A1. Автор: Le Bihan Gregory,PARISSAUX Xavier,CROQUET Sebastien. Владелец: . Дата публикации: 2019-02-07.

SI-CONTAINING FILM FORMING COMPOSITIONS AND METHODS OF MAKING AND USING THE SAME

Номер патента: US20190040279A1. Автор: Zhang Peng,Wang Yang,Girard Jean-Marc,Sanchez Antonio,KHANDELWAL Manish,Kerrigan Sean. Владелец: . Дата публикации: 2019-02-07.

Hafnium-containing film forming compositions for vapor deposition of hafnium-containing films

Номер патента: US20170044199A1. Автор: Christian Dussarrat,Jean-Marc Girard,Clement Lansalot-Matras,Julien LIEFFRIG,Hana ISHII. Владелец: LAir Liquide SA pour lEtude et lExploitation des Procedes Georges Claude. Дата публикации: 2017-02-16.

CURABLE FILM-FORMING COMPOSITIONS DEMONSTRATING INCREASED WET-EDGE TIME

Номер патента: US20180057707A1. Автор: Tang Guangliang,Khudiakov Mikhail. Владелец: . Дата публикации: 2018-03-01.

Film Forming Composition

Номер патента: US20170065512A1. Автор: Zhu Yong,Guay Gordon Gerald. Владелец: . Дата публикации: 2017-03-09.

Dielectric Film Forming Composition

Номер патента: US20190081001A1. Автор: Reinerth William A.,Malik Sanjay,Sakamuri Raj,Dimov Ognian. Владелец: . Дата публикации: 2019-03-14.

COATING FILM FORMING COMPOSITION

Номер патента: US20210087430A1. Автор: Kirino Manabu,KISHI Katsuhiko. Владелец: . Дата публикации: 2021-03-25.

CURED FILM-FORMING COMPOSITION

Номер патента: US20190085130A1. Автор: HOSHINO Yuki,YUKAWA Shojiro,TAKEDA Kayo. Владелец: NISSAN CHEMICAL CORPORATION. Дата публикации: 2019-03-21.

FILM-FORMING COMPOSITION AND EMBEDDING MATERIAL

Номер патента: US20150094420A1. Автор: Nishimura Naoya,Ozawa Masaaki,KASEYAMA Takahiro. Владелец: NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.. Дата публикации: 2015-04-02.

METHODS OF IMPROVING BURNISH RESISTANCE USING CURABLE FILM-FORMING COMPOSITIONS DEMONSTRATING BURNISH RESISTANCE AND LOW GLOSS

Номер патента: US20150099129A1. Автор: Thomas Stephen John,MORAVEK SCOTT J.,Mohnot Shantilal. Владелец: . Дата публикации: 2015-04-09.

Curable Film-Forming Compositions Demonstrating Decreased Cure Time with Stable Pot Life

Номер патента: US20200095365A1. Автор: Zawacky Steven R.,Bezer Silvia,Schillinger Diane. Владелец: PPG Industries Ohio, Inc.. Дата публикации: 2020-03-26.

FILM-FORMING COMPOSITION AND MANUFACTURING METHOD OF LAMINATE

Номер патента: US20190100674A1. Автор: HATANAKA Yusuke,Hama Takeshi,KOITO Naoki,NAKAMICHI Aki. Владелец: . Дата публикации: 2019-04-04.

Oxide coated metal pigments and film-forming compositions

Номер патента: US20160108252A1. Автор: Craig Matzdorf,William Nickerson. Владелец: US Department of Navy. Дата публикации: 2016-04-21.

Insulating film forming composition, insulating film, and semiconductor device provided with insulating film

Номер патента: US20210139652A1. Автор: Hiroto Miyake,Akira Yamakawa,Naoko Tsuji. Владелец: Daicel Corp. Дата публикации: 2021-05-13.

GATE INSULATING FILM FORMING COMPOSITION

Номер патента: US20220267639A1. Автор: Yoshida Naofumi,Nonaka Toshiaki,URAOKA Yukiharu,BERMUNDO Juan Paolo Soria,YANO Megumi,NOYA Atsuko. Владелец: . Дата публикации: 2022-08-25.

CURABLE FILM-FORMING COMPOSITIONS COMPRISING CATALYST ASSOCIATED WITH A CARRIER AND METHODS FOR COATING A SUBSTRATE

Номер патента: US20150132592A1. Автор: Valenta Jane N.,Schwartzmiller Davina J.,MORAVEK SCOTT J.. Владелец: PPG Industries Ohio, Inc.. Дата публикации: 2015-05-14.

OVERLAY FILM FORMING COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMATION METHOD USING SAME

Номер патента: US20150140490A1. Автор: Suzuki Masato,Wang XiaoWei,Pawlowski Georg. Владелец: . Дата публикации: 2015-05-21.

ELECTROCONDUCTIVE-FILM-FORMING COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING ELECTROCONDUCTIVE FILM

Номер патента: US20160137855A1. Автор: HAYATA Yuuichi,WATANABE Toru,TSUYAMA Hiroaki. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2016-05-19.

Multi-level substrate coating film-forming composition containing plasma-curable compound based on unsaturated bonds between carbon atoms

Номер патента: US20200124966A1. Автор: Takafumi Endo,Rikimaru Sakamoto,Keisuke Hashimoto,Hikaru TOKUNAGA. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2020-04-23.

FILM-FORMING COMPOSITION FOR INK-JET COATING

Номер патента: US20180134916A1. Автор: Nishimura Naoya. Владелец: NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.. Дата публикации: 2018-05-17.

METAL OXIDE FILM-FORMING COMPOSITION, AND METHOD FOR PRODUCING METAL OXIDE FILM USING THE SAME

Номер патента: US20220282100A1. Автор: Shiota Dai,Noda Kunihiro,IKUMA Naohiko,YAMAUCHI KENICHI. Владелец: . Дата публикации: 2022-09-08.

Organosilicon compound, thin film forming composition using same, and organic thin film

Номер патента: US20150148483A1. Автор: Toshiaki Takahashi,Tomoya Hidaka,Daisuke Asanuma. Владелец: Nippon Soda Co Ltd. Дата публикации: 2015-05-28.

SUBSTRATE PROTECTIVE FILM-FORMING COMPOSITION AND PATTERN FORMING PROCESS

Номер патента: US20200133123A1. Автор: KOBAYASHI Tomohiro,Sagehashi Masayoshi,Adachi Teppei,Oikawa Kenichi. Владелец: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.. Дата публикации: 2020-04-30.

ORGANIC FILM FORMING COMPOSITION AND ELECTRONIC APPARATUS COMPRISING A CURED PRODUCT THEREOF

Номер патента: US20170145249A1. Автор: Cho Yoonhyeung,Park Eungseok,Yun Wonmin,Lee Byoungduk,Chung Yunah,Ju Yongchan. Владелец: . Дата публикации: 2017-05-25.

ELASTOMERIC FILM-FORMING COMPOSITIONS AND ARTICLES MADE FROM THE ELASTOMERIC FILM

Номер патента: US20160159992A1. Автор: Foo Khon Pu,Prabhakaran Kumaresan. Владелец: SKINPROTECT CORPORATION SDN BHD. Дата публикации: 2016-06-09.

CELLULOSE ACETATE FILM FORMING COMPOSITIONS

Номер патента: US20170158901A1. Автор: Zhang Xiaowei,Combs Michael,BISSET Wendy. Владелец: . Дата публикации: 2017-06-08.

GROUP V ELEMENT-CONTAINING FILM FORMING COMPOSITIONS AND VAPOR DEPOSITION OF GROUP V ELEMENT-CONTAINING FILM

Номер патента: US20210189145A1. Автор: LEE Jooho,NOH Wontae. Владелец: . Дата публикации: 2021-06-24.

TITANIUM-CONTAINING FILM FORMING COMPOSITIONS FOR VAPOR DEPOSITION OF TITANIUM-CONTAINING FILMS

Номер патента: US20190161358A1. Автор: Girard Jean-Marc,Sanchez Antonio,Blasco Nicolas,NIKIFOROV Grigory. Владелец: . Дата публикации: 2019-05-30.

ELECTRODEPOSITABLE FILM-FORMING COMPOSITIONS CAPABLE OF FORMING STRATIFIED FILMS, AND THEIR USE IN COMPACT PROCESSES

Номер патента: US20140255702A1. Автор: Karabin Richard F.,Wilson Craig A.,VAN BUSKIRK ELLOR JAMES. Владелец: PPG Industries Ohio, Inc.. Дата публикации: 2014-09-11.

RESIST OVERLAYER FILM FORMING COMPOSITION FOR LITHOGRAPHY

Номер патента: US20140255847A1. Автор: Sakamoto Rikimaru,Ohnishi Ryuji,Endo Takafumi. Владелец: . Дата публикации: 2014-09-11.

CONDUCTIVE FILM FORMING COMPOSITION, CONDUCTIVE FILM, ORGANIC THIN FILM TRANSISTOR, ELECTRONIC PAPER, DISPLAY DEVICE, AND WIRING BOARD

Номер патента: US20170174914A1. Автор: MATSUMURA Tokihiko,MATSUSHITA Yasuaki. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2017-06-22.

Film-Forming Composition, Film Formed Thereby, and Method for Manufacturing Organic Semiconductor Element Using Same

Номер патента: US20160181531A1. Автор: TERUI Yoshiharu,Komoriya Haruhiko,KOBAYASHI Fumito,HARA Yukari,HARA Ikunari. Владелец: CENTRAL GLASS COMPANY, LIMITED. Дата публикации: 2016-06-23.

BASE FILM-FORMING COMPOSITION, AND DIRECTED SELF-ASSEMBLY LITHOGRAPHY METHOD

Номер патента: US20150187581A1. Автор: Nagai Tomoki,Naruoka Takehiko,KOMATSU Hiroyuki,MINEGISHI Shinya,SAKAI Kaori. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2015-07-02.

CURABLE FILM-FORMING COMPOSITIONS PREPARED FROM POLYMERS DERIVED FROM BENZOIC ACID

Номер патента: US20150203706A1. Автор: Schwendeman John E.,Swarup Shanti,Chasser Anthony M.,Furar John. Владелец: PPG Industries Ohio, Inc.. Дата публикации: 2015-07-23.

CURABLE FILM-FORMING COMPOSITIONS DEMONSTRATING BURNISH RESISTANCE AND LOW GLOSS, AND METHODS OF IMPROVING BURNISH RESISTANCE OF A SUBSTRATE

Номер патента: US20150203716A1. Автор: Anderson Lawrence G.,MORAVEK SCOTT J.. Владелец: PPG Industries Ohio, Inc.. Дата публикации: 2015-07-23.

LaNiO3 THIN FILM-FORMING COMPOSITION AND METHOD OF FORMING LaNiO3 THIN FILM USING THE SAME

Номер патента: US20140287136A1. Автор: Sakurai Hideaki,Soyama Nobuyuki,Fujii Jun. Владелец: MITSUBISHI MATERIALS CORPORATION. Дата публикации: 2014-09-25.

COATING PROCESSES USING WATERBORNE CURABLE FILM-FORMING COMPOSITIONS CONTAINING POLYMERS DERIVED FROM NATURAL GAS RAW MATERIALS

Номер патента: US20150210883A1. Автор: Schwendeman John E.,Swarup Shanti,Olson Kurt G.,Humbert Leigh Ann,LUTZ KELLY E.,Boggs Carol Lynn. Владелец: PPG Industries Ohio, Inc.. Дата публикации: 2015-07-30.

TRANSPARENT COATING FILM FORMING COMPOSITION

Номер патента: US20200199406A1. Автор: KANEKO Tatsuro. Владелец: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.. Дата публикации: 2020-06-25.

CONDUCTIVE FILM FORMING COMPOSITION, CONDUCTIVE FILM, ORGANIC THIN FILM TRANSISTOR, ELECTRONIC PAPER, DISPLAY DEVICE, AND WIRING BOARD

Номер патента: US20160230033A1. Автор: MATSUMURA Tokihiko,MATSUSHITA Yasuaki. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2016-08-11.

INFRARED RAY CUT-OFF MATERIAL, DISPERSION OF INFRARED RAY CUT-OFF MATERIAL, INFRARED RAY CUT-OFF FILM-FORMING COMPOSITION, AND INFRARED RAY CUT-OFF FILM

Номер патента: US20140320954A1. Автор: NAKABAYASHI Akira,Yoshizumi Motohiko. Владелец: . Дата публикации: 2014-10-30.

ORGANOSILICON COMPOUND, THIN FILM FORMING COMPOSITION USING SAME, AND ORGANIC THIN FILM

Номер патента: US20160237286A1. Автор: Takahashi Toshiaki,HIDAKA Tomoya,Asanuma Daisuke. Владелец: NIPPON SODA CO., LTD.. Дата публикации: 2016-08-18.

FILM FORMING COMPOSITIONS HAVING A TACK-FREE SURFACE

Номер патента: US20200222302A1. Автор: Li Zhi,Fryfogle Patrick J.,Wieber Gary M.,Bekemeier Thomas D.,Nguyen Kimmai T.,Cook Julie,Vogel Jason. Владелец: . Дата публикации: 2020-07-16.

COATING FILM-FORMING COMPOSITION

Номер патента: US20210259941A1. Автор: IMOTO Takayuki,KATSUYA Mutsuhiro,SHOJI Takeaki,SAKATA Mizuki. Владелец: NISSAN CHEMICAL CORPORATION. Дата публикации: 2021-08-26.

FILM-FORMING COMPOSITION AND FILM-FORMING METHOD USING SAME

Номер патента: US20160244638A1. Автор: Ozaki Yuki,KOBAYASHI Masakazu,SATAKE Noboru,KAWATO Shunji. Владелец: AZ ELECTRONIC MATERIALS (LUXEMBOURG) S.A.R.L.. Дата публикации: 2016-08-25.

Curable Film-Forming Compositions Demonstrating Increased Wet-Edge Time

Номер патента: US20210292597A1. Автор: Tang Guangliang,Khudiakov Mikhail. Владелец: PRC-DeSoto International, Inc.. Дата публикации: 2021-09-23.

FILM-FORMING COMPOSITION INCLUDING THERMOSETTING RESIN

Номер патента: US20170253764A1. Автор: Nakajima Makoto,Tamura Mamoru,Enomoto Tomoyuki. Владелец: NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.. Дата публикации: 2017-09-07.

METHOD FOR MANUFACTURING MICRO-STRUCTURE AND OPTICALLY PATTERNABLE SACRIFICIAL FILM-FORMING COMPOSITION

Номер патента: US20140356790A1. Автор: HIRANO Yoshinori,YANAGISAWA Hideyoshi. Владелец: . Дата публикации: 2014-12-04.

PROTECTIVE FILM FORMING COMPOSITION, PROTECTIVE FILM FORMING SHEET, AND CHIP PROVIDED WITH PROTECTIVE FILM

Номер патента: US20160272839A1. Автор: Yamamoto Daisuke,YONEYAMA Hiroyuki. Владелец: LINTEC Corporation. Дата публикации: 2016-09-22.

FILM-FORMING COMPOSITION

Номер патента: US20150299512A1. Автор: Nishimura Naoya,Ozawa Masaaki,KATO Taku,Koyama Yoshinari,Murakami Natsumi. Владелец: NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.. Дата публикации: 2015-10-22.

FILM FORMING COMPOSITION, HARDCOAT FILM, POLARIZING PLATE, AND METHOD FOR MANUFACTURING HYDROPHILIZED HARDCOAT FILM

Номер патента: US20180292589A1. Автор: TAMURA Akio,FUKAGAWA Reiko,OTANI Taketo. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2018-10-11.

NIOBIUM-CONTAINING FILM FORMING COMPOSITIONS AND VAPOR DEPOSITION OF NIOBIUM-CONTAINING FILMS

Номер патента: US20170298511A1. Автор: Lansalot-Matras Clement,LEE Jooho,NOH Wontae. Владелец: . Дата публикации: 2017-10-19.

Niobium-containing film forming compositions and vapor deposition of niobium-containing films

Номер патента: US20160307904A1. Автор: Wontae NOH,Clement Lansalot-Matras. Владелец: LAir Liquide SA pour lEtude et lExploitation des Procedes Georges Claude. Дата публикации: 2016-10-20.

FILM-FORMING COMPOSITION CONTAINING TANNIC ACID DERIVATIVES

Номер патента: US20170321061A1. Автор: Naito Masanobu,PAYRA Debabrata. Владелец: . Дата публикации: 2017-11-09.

CURABLE FILM-FORMING COMPOSITIONS CONTAINING PHOTOTHERMALLY ACTIVE MATERIALS, COATED METAL SUBSTRATES, AND METHODS OF COATING SUBSTRATES

Номер патента: US20160333220A1. Автор: Walters David,Thomas Stephen John,Rardon Daniel,MAKOWSKI MICHAEL PAUL,ZALICH MICHAEL ANDREW,HAAS KAITLIN,LEAR BENJAMIN. Владелец: . Дата публикации: 2016-11-17.

WATER REPELLENT FILM-FORMING COMPOSITION AND WATER REPELLENT FILM

Номер патента: US20190315972A1. Автор: KIYOMORI Ayumu,Kubota Tohru,KAWAKAMI Masato,Aoki Shotaro. Владелец: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.. Дата публикации: 2019-10-17.

RESIST OVERLAYER FILM FORMING COMPOSITION FOR LITHOGRAPHY AND METHOD FOR PRODUCING SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE SAME

Номер патента: US20150362835A1. Автор: Sakamoto Rikimaru,FUJITANI Noriaki,Ohnishi Ryuji. Владелец: . Дата публикации: 2015-12-17.

SILICON-CONTAINING POLYMER, FILM-FORMING COMPOSITION, METHOD FOR FORMING SILICON-CONTAINING POLYMER COATING, METHOD FOR FORMING SILICA-BASED COATING, AND PRODUCTION METHOD FOR SILICON-CONTAINING POLYMER

Номер патента: US20200362115A1. Автор: Seshimo Takehiro,KUBO Keisuke,Noda Kunihiro,KINOSHITA Yohei. Владелец: . Дата публикации: 2020-11-19.

FILM FORMING COMPOSITION

Номер патента: US20200377761A1. Автор: Nojima Yoshio,Ozaki Yuki,Kubo Masahiko,NOYA Go,SATAKE Noboru,OKAMURA Toshiya. Владелец: . Дата публикации: 2020-12-03.

SILICON CARBONACEOUS FILM FORMING COMPOSITION COMPRISING POLYCARBOSILANE AND METHOD FOR MANUFACTURING SILICON CARBONACEOUS FILM USING THE SAME

Номер патента: US20200385581A1. Автор: OKAMURA Toshiya. Владелец: . Дата публикации: 2020-12-10.

Thermally Curable Film-Forming Compositions Providing Benefits in Appearance and Sag Control Performance

Номер патента: US20200392365A1. Автор: Luchansky Matthew S.,Moyano Daniel F.,Stibbard Mitchell R.. Владелец: PPG Industries Ohio, Inc.. Дата публикации: 2020-12-17.

Elastomeric film-forming compositions and articles made from the elastomeric film

Номер патента: WO2015006807A1. Автор: Khon Pu Foo,Kumaresan PRABHAKARAN. Владелец: SATCHELL, Jacqueline. Дата публикации: 2015-01-22.

Elastomeric film-forming compositions and articles made from the elastomeric film

Номер патента: WO2015006808A1. Автор: Khon Pu Foo,Kumaresan PRABHAKARAN. Владелец: SATCHELL, Jacqueline. Дата публикации: 2015-01-22.

Lithographic underlayer film forming composition containing cyclodextrin compound

Номер патента: JP4697467B2. Автор: 敏竹井,徹也新城,圭祐橋本. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2011-06-08.

Use of hyperbranched polymers and dendrimers comprising a particular group as film-forming agent, film-forming compositions comprising same and use particularly in cosmetics and pharmaceutics

Номер патента: CA2311294A1. Автор: Jean Maignan,Sylvie Genard. Владелец: Individual. Дата публикации: 1999-07-01.

Curable film forming compositions

Номер патента: CA1333829C. Автор: Yukihiko Sasaki. Владелец: Avery International Corp. Дата публикации: 1995-01-03.

COATING FILM FORMING COMPOSITION, COATING FILM, AND ADHESIVE SHEET

Номер патента: US20200032109A1. Автор: NAITO Tomonari,Suzuki Satoru,NAGAO Kohei,HOSHIKO Akie,KURATA Naoki,TAKENOUCHI Yuta,MURAKOSHI Sakura. Владелец: . Дата публикации: 2020-01-30.

FILM-FORMING COMPOSITIONS CONTAINING ZWITTERIONIC FUNCTIONAL POLYMERS AND THEIR USE IN METHODS OF REDUCING ADHESION OF AN ORGANIC SUBSTANCE TO A SUBSTRATE

Номер патента: US20180251583A1. Автор: Hanson Eric L.,Bruner Eric L.,HUGHES EDWARD W.. Владелец: . Дата публикации: 2018-09-06.

Film-forming composition and use thereof for treating herpes

Номер патента: RU2578959C2. Автор: Натали ДЕРЕН. Владелец: Лаборатуар Урго. Дата публикации: 2016-03-27.

Film-forming composition for food purpose

Номер патента: RU2694956C1. Автор: Зурет Нурбиевна Хатко,Анжелика Александровна Ашинова. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Майкопский государственный технологический университет". Дата публикации: 2019-07-18.

Film-forming composition

Номер патента: US20240189215A1. Автор: Hideo Kobayashi,Tatsuya Fujimoto,Shingo Hirono,Kaori ISHIDA. Владелец: Kao Corp. Дата публикации: 2024-06-13.

An aqueous antimicrobial film-forming composition for teat treatment by spray application

Номер патента: EP3313183A1. Автор: Michael Schneider,Jonathan Scott KILLEEN,Tillmann KLEINE,Helen BREIDERHOFF. Владелец: ECOLAB USA INC. Дата публикации: 2018-05-02.

Wet powder film-forming compositions

Номер патента: AU9150391A. Автор: Charles A. Signorino. Владелец: Warner-Jenkinson Co Inc. Дата публикации: 1992-07-22.

Peelable film-forming compositions

Номер патента: WO2014052195A3. Автор: Jeffrey M. Wu,Prashant BAHADUR,Kamesh R. YERRAMILLI. Владелец: JOHNSON & JOHNSON CONSUMER COMPANIES, INC.. Дата публикации: 2014-07-03.

Method of using peelable film-forming composition

Номер патента: US20150352057A1. Автор: Jeffrey M. Wu,Prashant BAHADUR,Kamesh R. YERRAMILLI. Владелец: Johnson and Johnson Consumer Inc. Дата публикации: 2015-12-10.

Method of using peelable film-forming composition

Номер патента: US20140255516A1. Автор: Jeffrey M. Wu,Prashant BAHADUR,Kamesh R. YERRAMILLI. Владелец: Johnson and Johnson Consumer Companies LLC. Дата публикации: 2014-09-11.

Peelable film-forming compositions

Номер патента: EP2900208A2. Автор: Jeffrey M. Wu,Prashant BAHADUR,Kamesh R. YERRAMILLI. Владелец: Johnson and Johnson Consumer Companies LLC. Дата публикации: 2015-08-05.

Film-forming compositions for hard capsule shells and hard capsule shells obtained thereof

Номер патента: US20190351062A1. Автор: Bernard Pora,Yong Miao,Armand Chen. Владелец: Roquette Freres SA. Дата публикации: 2019-11-21.

Film-forming compositions for hard capsule shells and hard capsule shells obtained thereof

Номер патента: EP3579822A1. Автор: Bernard Pora,Yong Miao,Armand Chen. Владелец: Roquette Freres SA. Дата публикации: 2019-12-18.

Film-forming compositions for hard capsule shells and hard capsule shells obtained thereof

Номер патента: US11040105B2. Автор: Bernard Pora,Yong Miao,Armand Chen. Владелец: Roquette Freres SA. Дата публикации: 2021-06-22.

Film-forming compositions for hard capsule shells and hard capsule shells obtained thereof

Номер патента: WO2018146165A1. Автор: Bernard Pora,Yong Miao,Armand Chen. Владелец: ROQUETTE FRERES. Дата публикации: 2018-08-16.

A film-forming composition comprising pectin

Номер патента: EP4401709A1. Автор: Michael Baumann,Rebecca Putans,Benjamin ROSCOE. Владелец: International N&h Usa Inc. Дата публикации: 2024-07-24.

Method for forming three-dimensional interconnection, circuit arrangement comprising three-dimensional interconnection, and metal film-forming composition for three-dimensional interconnection

Номер патента: US09543201B2. Автор: Taichi Matsumoto,Kazuto Watanabe,Atsushi Kobayashi,Sugirou SHIMODA,Kenzou Ookita,Keisuke Kuriyama,Isao Aritome. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2017-01-10.

Film-forming composition containing surfactant or surfactant and salt as whitening agent

Номер патента: US20240299259A1. Автор: Kaori Sato,Takahisa Takubo,Hitomi Doi. Владелец: Capsugel Belgium NV. Дата публикации: 2024-09-12.

Coating high solids film-forming compositions

Номер патента: CA1223155A. Автор: Walter H. Cobbs, Jr.,William R. Rehman. Владелец: Nordson Corp. Дата публикации: 1987-06-23.

Sprayable film forming compositions for improving the performance of topical preparations

Номер патента: US11129788B1. Автор: Wilson A. Lee. Владелец: ELC Management LLC. Дата публикации: 2021-09-28.

Cosmetic film forming compositions

Номер патента: US5266322A. Автор: Garry L. Myers,Waylon L. Jenkins,John J. Hiller,Robin L. Minga,W. D. Nottingham,Suzanne W. Dobbs,Stacey J. Marsh,Keith M. Moody. Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 1993-11-30.

Durable dental film-forming composition and uses thereof

Номер патента: CA3002221C. Автор: Guofeng Xu,Rong Dong,Shaotang YUAN. Владелец: Colgate Palmolive Co. Дата публикации: 2023-10-03.

Water dispersable film-forming composition

Номер патента: US20230346679A1. Автор: Sang Hun Kim,Seunghan Park,Eunmi Kim,Byungguen CHAE,Jeongyu LEE. Владелец: Amorepacific Corp. Дата публикации: 2023-11-02.

Film-forming composition

Номер патента: US20220287948A1. Автор: Nobuyuki Asami. Владелец: Kao Corp. Дата публикации: 2022-09-15.

Film-forming composition containing an antimicrobial agent and methods of use

Номер патента: US4584192A. Автор: Milton H. Andrus, Jr.,John D. Dell. Владелец: Minnesota Mining and Manufacturing Co. Дата публикации: 1986-04-22.

An aqueous antimicrobial film-forming composition for teat treatment by spray application

Номер патента: CA2987307C. Автор: Michael Schneider,Jonathan Scott KILLEEN,Tillmann KLEINE,Helen BREIDERHOFF. Владелец: ECOLAB USA INC. Дата публикации: 2022-01-25.

Film-forming composition containing an antimicrobial agent and methods

Номер патента: CA1254141A. Автор: Milton H. Andrus, Jr.,John D. Dell. Владелец: Minnesota Mining and Manufacturing Co. Дата публикации: 1989-05-16.

Film forming composition

Номер патента: CA2608328C. Автор: Craig Julian Hardy,Andrew Darby. Владелец: Medtrade Products Ltd. Дата публикации: 2015-03-31.

Starch film-forming composition and method for preparing capsule shell

Номер патента: AU2021411017B2. Автор: Qiong Chen,Xufa LI,Xuteng YANG,Jiewei Chen. Владелец: Sirio Pharma Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-30.

Film forming composition

Номер патента: AU2006245493A1. Автор: Craig Julian Hardy,Andrew Darby. Владелец: Medtrade Products Ltd. Дата публикации: 2006-11-16.

Film-forming composition for skin

Номер патента: EP4252859A1. Автор: Motoaki Ito,Kaori ISHIDA. Владелец: Kao Corp. Дата публикации: 2023-10-04.

Starch film-forming compositions and methods of their use for preparing capsule shells

Номер патента: CA3164901A1. Автор: Qiong Chen,Xufa LI,Xuteng YANG,Jiewei Chen. Владелец: Sirio Pharma Co Ltd. Дата публикации: 2022-07-07.

Starch film-forming compositions and methods of their use for preparing capsule shells

Номер патента: CA3164901C. Автор: Qiong Chen,Xufa LI,Xuteng YANG,Jiewei Chen. Владелец: Sirio Pharma Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-09.

Starch film-forming compositions and methods of their use for preparing capsule shells

Номер патента: US20230051942A1. Автор: Qiong Chen,Xufa LI,Xuteng YANG,Jiewei Chen. Владелец: Sirio Pharma Co Ltd. Дата публикации: 2023-02-16.

Film-forming composition

Номер патента: EP4252862A1. Автор: Hideo Kobayashi,Tatsuya Fujimoto,Shingo Hirono,Kaori ISHIDA. Владелец: Kao Corp. Дата публикации: 2023-10-04.

Film-forming composition for skin

Номер патента: EP4252858A1. Автор: Kaori ISHIDA,Sanae Shirotsuki. Владелец: Kao Corp. Дата публикации: 2023-10-04.

Film-forming composition containing gellan gum and starch, and application in soft capsule

Номер патента: AU2020419402A1. Автор: Qiong Chen,Xufa LI,Suqiong FANG,Xuteng YANG. Владелец: Sirio Pharma Co Ltd. Дата публикации: 2022-06-02.

Film-forming compositions of antihyperalgesic opiates and method of treating hyperalgesic conditions therewith

Номер патента: CA2223514C. Автор: Virendra Kumar,John J. Farrar,Alan L. Maycock,Imre Balogh. Владелец: Adolor Corp. Дата публикации: 2004-10-26.

Film-forming composition for soft capsules

Номер патента: CA2807314C. Автор: Takuma Fujii,Masanori Nagura,Tohru Amemiya. Владелец: RP Scherer Technologies LLC. Дата публикации: 2017-06-20.

Film-forming composition containing gellan gum and starch, and application in soft capsule

Номер патента: AU2020419402B2. Автор: Qiong Chen,Xufa LI,Suqiong FANG,Xuteng YANG. Владелец: Sirio Pharma Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-23.

Self-film-forming composition for oral care

Номер патента: CA2992354C. Автор: Jordi CUÑÉ CASTELLANA,Jonatan SANTAS GUTIÉRREZ,José Luis CALVO GUIRADO,Elisabet LÁZARO MALLÉN,Javier Mareque Mareque Bueno. Владелец: Ab Biotics Sa. Дата публикации: 2023-09-19.

Film-forming composition for skin

Номер патента: US20240065948A1. Автор: Kaori ISHIDA,Sanae Shirotsuki. Владелец: Kao Corp. Дата публикации: 2024-02-29.

Film-forming composition for skin

Номер патента: US20240009088A1. Автор: Motoaki Ito,Kaori ISHIDA. Владелец: Kao Corp. Дата публикации: 2024-01-11.

Film-forming composition containing surfactant or surfactant and salt as whitening agent

Номер патента: US11801205B2. Автор: Kaori Sato,Takahisa Takubo,Hitomi Doi. Владелец: Capsugel Belgium NV. Дата публикации: 2023-10-31.

Film-forming composition containing surfactant or surfactant and salt as whitening agent

Номер патента: US20240058225A1. Автор: Kaori Sato,Takahisa Takubo,Hitomi Doi. Владелец: Capsugel Belgium NV. Дата публикации: 2024-02-22.

SILICON-CONTAINING EUV RESIST UNDERLAYER FILM-FORMING COMPOSITION CONTAINING ONIUM SULFONATE

Номер патента: US20150210829A1. Автор: Shibayama Wataru,Sakamoto Rikimaru,SHIGAKI Shuhei. Владелец: . Дата публикации: 2015-07-30.

RESIST UNDERLAYER FILM-FORMING COMPOSITION

Номер патента: US20150087155A1. Автор: Sakamoto Rikimaru,FUJITANI Noriaki,Endo Takafumi. Владелец: NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.. Дата публикации: 2015-03-26.

UNDERLAYER FILM-FORMING COMPOSITION AND PATTERN FORMING PROCESS

Номер патента: US20140363955A1. Автор: OGIHARA Tsutomu,KORI Daisuke,Hatakeyama Jun. Владелец: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.. Дата публикации: 2014-12-11.

UNDERLAYER FILM-FORMING COMPOSITION AND PATTERN FORMING PROCESS

Номер патента: US20140363956A1. Автор: OGIHARA Tsutomu,KORI Daisuke,Hatakeyama Jun. Владелец: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.. Дата публикации: 2014-12-11.

UNDERLAYER FILM-FORMING COMPOSITION AND PATTERN FORMING PROCESS

Номер патента: US20140363958A1. Автор: OGIHARA Tsutomu,KORI Daisuke,Hatakeyama Jun. Владелец: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.. Дата публикации: 2014-12-11.

Underlayer film forming composition for imprint, curable composition for imprint, kit

Номер патента: JP7017623B2. Автор: 雄一郎後藤,直也下重,旺弘袴田. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2022-02-08.

Underlayer film forming composition for imprint, curable composition for imprint, kit

Номер патента: JPWO2019172156A1. Автор: 雄一郎後藤,直也下重,旺弘袴田. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2021-03-04.

Underlayer film forming composition for imprinting, curable composition for imprinting, and kit

Номер патента: TW201938716A. Автор: 下重直也,後藤雄一郎,袴田旺弘. Владелец: 日商富士軟片股份有限公司. Дата публикации: 2019-10-01.

Non-film forming compositions and methods of protecting cured concrete and cementitious materials

Номер патента: US09670104B2. Автор: Sergio Vitomir. Владелец: Protocol Environmental Solutions Inc. Дата публикации: 2017-06-06.

In-situ film-forming composition

Номер патента: US20240226369A1. Автор: Joaquín NEBOT TROYANO,Ramon M. Roca i Juanes. Владелец: Laboratorios Inibsa SA. Дата публикации: 2024-07-11.

Film-forming composition

Номер патента: WO2015150705A1. Автор: Nathalie Derain,Claire Bouvier,Anne-Laure Ravenet. Владелец: Hcp Healthcare Asia Pte, Ltd. Дата публикации: 2015-10-08.

Film-form compositions for delivery of soaps and detergents

Номер патента: WO2004087857A1. Автор: Reg Macquarrie. Владелец: Reg Macquarrie. Дата публикации: 2004-10-14.

Silicone rubber film - forming composition and silicone rubber film

Номер патента: US5240765A. Автор: Masaharu Takahashi,Kazuma Momii. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 1993-08-31.

FILM-FORMING COMPOSITION COMPRISING AN AQUEOUSLY DISPERSION POLYURETHANE AND A PLASTICIZING AGENT

Номер патента: FR2775593A1. Автор: La Poterie Valerie De. Владелец: LOreal SA. Дата публикации: 1999-09-10.

Titanium-containing film forming compositions for vapor deposition of titanium-containing films

Номер патента: SG11202004730PA. Автор: Jean-Marc Girard,Nicolas Blasco,Antonio Sanchez,Grigory Nikiforov. Владелец: Air Liquide. Дата публикации: 2020-06-29.

Flexible polymer film forming compositions

Номер патента: US3388088A. Автор: Paul R Graham,August F Ottinger. Владелец: Monsanto Co. Дата публикации: 1968-06-11.

Insulating film formed by using a film-forming composition comprising a polymer and electronic device

Номер патента: EP1752476B1. Автор: Yasufumi Watanabe. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2012-12-12.

Film-forming composition and film

Номер патента: EP3878437B1. Автор: Takuya Yokosawa,Shintaro MATSUSUE. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-23.

SOLVENT COMPOSITION, CLEANING METHOD, COATING FILM-FORMING COMPOSITION, AND METHOD OF FORMING A COATING FILM

Номер патента: US20180346841A1. Автор: Ikeda Daisuke,MITSUOKA Hiroaki,MIKI Toshio,HANADA Tsuyoshi. Владелец: AGC Inc.. Дата публикации: 2018-12-06.

Copper film-forming composition, and method for producing copper film by using the composition

Номер патента: KR101605650B1. Автор: 데쓰지 아베. Владелец: 가부시키가이샤 아데카. Дата публикации: 2016-03-22.

Film-forming composition, insulating material-forming composition, insulating film and electronic device

Номер патента: KR101157471B1. Автор: 카츠유키 와타나베,모리오 야기하라,켄수케 모리타,유타카 아데가와,아키라 아사노. Владелец: 후지필름 가부시키가이샤. Дата публикации: 2012-06-20.

An electroconductive and astringent film and film-forming composition for application to skin

Номер патента: CA2042477C. Автор: Milton Harold Scheps,Robert Saute. Владелец: Smith and Nephew Inc. Дата публикации: 2001-08-28.

Film forming compositions for the coating of solid forms of pharmaceutical or food products and coated products of these compositions so obtained

Номер патента: DE3470460D1. Автор: Bernard Brancq,Michel Malandain. Владелец: Societe dExploitation de Produits pour les Industries Chimiques SEPPIC SA. Дата публикации: 1988-05-26.

Polymeric film-forming compositions and films of said compositions

Номер патента: AU440566A. Автор: Homer Gardner Jack. Владелец: Union Carbide Corp. Дата публикации: 1967-10-19.

Film-forming composition, insulating material-forming composition, insulating film and electronic device

Номер патента: US7501185B2. Автор: Morio Yagihara,Katsuyuki Watanabe,Akira Asano,Kensuke Morita,Yutaka Adegawa. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2009-03-10.

Cold water soluble films and film forming compositions

Номер патента: CA2115244A1. Автор: Nagui Iskandar Ibrahim,Richard Michael Herbert. Владелец: Individual. Дата публикации: 1993-03-04.

Film forming composition, insulating film formed by use of the composition, and electronic device

Номер патента: US20070255003A1. Автор: Katsuyuki Watanabe,Yasufumi Watanabe. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2007-11-01.

Organic solvent-free film-forming compositions, multi-layer composite coatings, and related methods

Номер патента: US20070218274A1. Автор: Thomas Hockswender,Mark Tucker,Carolyn Novak,Roxalana MARTIN,Charles Kania,Alicia Williams,Mary Grolemund,Deirdre Ragan. Владелец: PPG Industries Ohio Inc. Дата публикации: 2007-09-20.

Film-forming composition, insulating material-forming composition, insulating film and electronic device

Номер патента: US20050276964A1. Автор: Morio Yagihara,Katsuyuki Watanabe,Akira Asano,Kensuke Morita,Yutaka Adegawa. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 2005-12-15.

Solvent composition, cleaning method, coating film-forming composition, and method of forming a coating film

Номер патента: US10669502B2. Автор: Daisuke Ikeda,Toshio Miki,Hiroaki Mitsuoka,Tsuyoshi Hanada. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2020-06-02.

FILM-FORMING COMPOSITIONS FOR COATING SOLID FORMS OF PHARMACEUTICAL OR FOOD PRODUCTS AND PRODUCTS OBTAINED COATED WITH SUCH COMPOSITIONS

Номер патента: FR2548675B1. Автор: Bernard Brancq,Michel Malandain. Владелец: Societe dExploitation de Produits pour les Industries Chimiques SEPPIC SA. Дата публикации: 1987-01-09.

Film forming composition, film and insulating film formed from the composition, and electronic device having the insulating film

Номер патента: US20080076889A1. Автор: Akira Asano. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2008-03-27.

Planarizing film-forming composition for hard disk and hard disk production method using same

Номер патента: US20130026132A1. Автор: Taku Kato,Masayoshi Suzuki,Junpei Kobayashi,Keisuke Shuto. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2013-01-31.

FILM-FORMING COMPOSITION FOR OPTICAL IMPRINT AND METHOD FOR PRODUCING OPTICAL MEMBER

Номер патента: US20130241092A1. Автор: Takeuchi Hiroaki,Sakamoto Yoshinori. Владелец: TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.. Дата публикации: 2013-09-19.

Non-Film Forming Compositions and Methods of Protecting Cured Concrete and Cementitious Materials

Номер патента: US20130324630A1. Автор: Vitomir Sergio,Wandler Floyd. Владелец: PROTOCOL ENVIRONMENTAL SOLUTIONS INC.. Дата публикации: 2013-12-05.

PHOTOCURABLE FILM-FORMING COMPOSITION AND MANUFACTURING METHOD FOR CURED FILM

Номер патента: US20130324634A1. Автор: Nishimura Naoya,Ozawa Masaaki. Владелец: NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.. Дата публикации: 2013-12-05.

FILM-FORMING COMPOSITION

Номер патента: US20160017145A1. Автор: Maeda Daisuke,Nishimura Naoya. Владелец: NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.. Дата публикации: 2016-01-21.

Ejection Head for Ejecting Alignment Film Forming Composition

Номер патента: US20150034735A1. Автор: Liu Ming,Ma Tao,Zhao Guodong,Song Tao. Владелец: . Дата публикации: 2015-02-05.

ORGANIC THIN FILM TRANSISTOR ELEMENT, ORGANIC SEMICONDUCTOR FILM-FORMING COMPOSITION, METHOD OF FORMING ORGANIC SEMICONDUCTOR FILM, AND ORGANIC SEMICONDUCTOR FILM

Номер патента: US20190036029A1. Автор: TAMAKUNI Fumiko. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2019-01-31.

Non-Film Forming Compositions and Methods of Protecting Cured Concrete and Cementitious Materials

Номер патента: US20150045465A1. Автор: Vitomir Sergio,Wandler Floyd. Владелец: . Дата публикации: 2015-02-12.

HAFNIUM-CONTAINING FILM FORMING COMPOSITIONS FOR VAPOR DEPOSITION OF HAFNIUM-CONTAINING FILMS

Номер патента: US20170044664A1. Автор: Dussarrat Christian,Lansalot-Matras Clement,LIEFFRIG Julien,Girard Jean-Marc,ISHII Hana. Владелец: . Дата публикации: 2017-02-16.

ORIENTATION FILM FORMING COMPOSITION

Номер патента: US20160054495A1. Автор: KOBAYASHI Tadahiro. Владелец: . Дата публикации: 2016-02-25.

UNDER LAYER FILM-FORMING COMPOSITION FOR IMPRINTS AND METHOD OF FORMING PATTERN

Номер патента: US20150079804A1. Автор: Enomoto Yuichiro,Hattori Akiko,KITAGAWA Hirotaka. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2015-03-19.

TANTALUM- OR VANADIUM-CONTAINING FILM FORMING COMPOSITIONS AND VAPOR DEPOSITION OF TANTALUM- OR VANADIUM-CONTAINING FILMS

Номер патента: US20160083405A1. Автор: Lansalot-Matras Clement,LIEFFRIG Julien,LEE Jooho,NOH Wontae. Владелец: . Дата публикации: 2016-03-24.

FILM-FORMING COMPOSITION

Номер патента: US20150115247A1. Автор: Abe Masashi,Nishimura Naoya,Ozawa Masaaki,SHIKAUCHI Yasufumi,KASEYAMA Takahiro,Murakami Natsumi,Mitsui Shigeru. Владелец: NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.. Дата публикации: 2015-04-30.

GROUP 8-CONTAINING FILM FORMING COMPOSITIONS, THEIR SYNTHESIS, AND USE IN FILM DEPOSITION

Номер патента: US20160115586A1. Автор: Gatineau Satoko,NIKIFOROV Grigory. Владелец: . Дата публикации: 2016-04-28.

COBALT-CONTAINING FILM FORMING COMPOSITIONS, THEIR SYNTHESIS, AND USE IN FILM DEPOSITION

Номер патента: US20160115588A1. Автор: Dussarrat Christian,Gatineau Satoko,Girard Jean-Marc,Blasco Nicolas,KIMURA Mikiko. Владелец: . Дата публикации: 2016-04-28.

CURABLE FILM-FORMING COMPOSITION COMPRISING CATALYST ASSOCIATED WITH A CARRIER

Номер патента: US20150132497A1. Автор: Moravek Scott,Schwartzmiller Davina,Valenta Jane. Владелец: PPG Industries Ohio, Inc.. Дата публикации: 2015-05-14.

METAL OXIDE FILM-FORMING COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING METAL OXIDE FILM USING THE SAME, TERTIARY ALKYLOXYCARBONYL GROUP-MODIFIED BISNAPHTHOL FLUORENE COMPOUND, AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME

Номер патента: US20220274912A1. Автор: Kato Hiroki,Shiota Dai,Noda Kunihiro,KOBAYASHI Takanori. Владелец: . Дата публикации: 2022-09-01.

SELF-ORGANIZED FILM-FORMING COMPOSITION FOR USE IN FORMING A MICRO-PHASE-SEPARATED PATTERN

Номер патента: US20200123298A1. Автор: Someya Yasunobu,Sakamoto Rikimaru,Wakayama Hiroyuki,MIZUOCHI Ryuta. Владелец: NISSAN CHEMICAL CORPORATION. Дата публикации: 2020-04-23.

TITANIUM-CONTAINING FILM FORMING COMPOSITIONS FOR VAPOR DEPOSITION OF TITANIUM-CONTAINING FILMS

Номер патента: US20160137675A1. Автор: Gatineau Julien,Ko Changhee,Lansalot-Matras Clement,LIEFFRIG Julien,ISHII Hana. Владелец: . Дата публикации: 2016-05-19.

NIOBIUM-NITRIDE FILM FORMING COMPOSITIONS AND VAPOR DEPOSITION OF NIOBIUM-NITRIDE FILMS

Номер патента: US20170152144A1. Автор: Lansalot-Matras Clement,LIEFFRIG Julien,LEE Jooho,NOH Wontae. Владелец: . Дата публикации: 2017-06-01.

Curable Film-Forming Compositions Containing Lithium Silicates as Corrosion Inhibitors and Multilayer Coated Metal Substrates

Номер патента: US20180162099A1. Автор: Mayo Michael A.,Furar Elizabeth A.,MORRIS Eric L.,Bunten Tommy G.. Владелец: . Дата публикации: 2018-06-14.

AQUEOUS DISPERSION OF POLYMER PARTICLES, FILM-FORMING COMPOSITION CONTAINING SAME AND USES THEREOF

Номер патента: US20150174042A1. Автор: Leibler Ludwik,Tournilhac Francois,Auguste Stéphane,Pernot Jean-Marc,Triftaridou Aggeliki,Leuschner Eva-Maria. Владелец: . Дата публикации: 2015-06-25.

TITANIUM-CONTAINING FILM FORMING COMPOSITIONS FOR VAPOR DEPOSITION OF TITANIUM-CONTAINING FILMS

Номер патента: US20190161507A1. Автор: Girard Jean-Marc,Sanchez Antonio,Blasco Nicolas,NIKIFOROV Grigory. Владелец: . Дата публикации: 2019-05-30.

ELASTOMERIC FILM-FORMING COMPOSITIONS AND ARTICLES MADE FROM THE ELASTOMERIC FILM

Номер патента: US20160194494A1. Автор: Foo Khon Pu,Prabhakaran Kumaresan. Владелец: SKINPROTECT CORPORATION SDN BHD. Дата публикации: 2016-07-07.

MANGANESE-CONTAINING FILM FORMING COMPOSITIONS, THEIR SYNTHESIS, AND USE IN FILM DEPOSITION

Номер патента: US20160194755A1. Автор: Dussarrat Christian,Gatineau Satoko,Girard Jean-Marc,Blasco Nicolas,WIESE Stefan. Владелец: . Дата публикации: 2016-07-07.

METHODS FOR VAPOR DEPOSITION OF GROUP 4 TRANSITION METAL-CONTAINING FILMS USING GROUP 4 TRANSITION METAL-CONTAINING FILMS FORMING COMPOSITIONS

Номер патента: US20210221830A1. Автор: Girard Jean-Marc,Wan Zhiwen,WANGQ Ziyun. Владелец: . Дата публикации: 2021-07-22.

PZT-BASED FERROELECTRIC THIN FILM-FORMING COMPOSITION, METHOD OF PREPARING THE SAME, AND METHOD OF FORMING PZT-BASED FERROELECTRIC THIN FILM USING THE SAME

Номер патента: US20140287251A1. Автор: Sakurai Hideaki,Soyama Nobuyuki,Doi Toshihiro. Владелец: MITSUBISHI MATERIALS CORPORATION. Дата публикации: 2014-09-25.

TRIAZINE RING-CONTAINING POLYMER AND FILM-FORMING COMPOSITION CONTAINING SAME

Номер патента: US20150210808A1. Автор: Nishimura Naoya,Ozawa Masaaki,Koide Yasuyuki. Владелец: NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.. Дата публикации: 2015-07-30.

LUBRICANT FILM-FORMING COMPOSITION AND SCREW JOINT FOR STEEL PIPE

Номер патента: US20160208194A1. Автор: Sasaki Masayoshi,Goto Kunio,Matsumoto Keishi. Владелец: . Дата публикации: 2016-07-21.

ELASTOMERIC FILM-FORMING COMPOSITIONS AND ASSOCIATED ARTICLES AND METHODS

Номер патента: US20200190296A1. Автор: Foo Khon Pu,Prabhakaran Kumaresan. Владелец: SKINPROTECT CORPORATION SDN BHD. Дата публикации: 2020-06-18.

FILM-FORMING COMPOSITIONS BASED ON STARCHY MATERIAL AND ARTICLES OBTAINED THEREOF

Номер патента: US20180221486A1. Автор: Miao Yong,Pora Bernard,Hasjim Jovin. Владелец: ROQUETTE FRERES. Дата публикации: 2018-08-09.

Group 4 transition metal-containing film forming compositions for vapor deposition of group 4 transition metal-containing films

Номер патента: US20190218233A1. Автор: Jean-Marc Girard,Ziyun Wang,Zhiwen WAN. Владелец: Individual. Дата публикации: 2019-07-18.

FILM-FORMING COMPOSITION AND COSMETIC

Номер патента: US20170240677A1. Автор: Akabane Emi. Владелец: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.. Дата публикации: 2017-08-24.

AROMATIC POLYAMIDE AND FILM-FORMING COMPOSITION CONTAINING SAME

Номер патента: US20150252147A1. Автор: Maeda Daisuke,Ozawa Masaaki,YASUI Kei. Владелец: NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.. Дата публикации: 2015-09-10.

UPPER-LAYER FILM FORMING COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING A PHASE-SEPARATED PATTERN

Номер патента: US20190233559A1. Автор: Someya Yasunobu,Sakamoto Rikimaru,Wakayama Hiroyuki,MIZUOCHI Ryuta. Владелец: NISSAN CHEMICAL CORPORATION. Дата публикации: 2019-08-01.

FILM-FORMING COMPOSITION AND METHOD FOR FABRICATING FILM BY USING THE SAME

Номер патента: US20160273103A1. Автор: MOON Ji-won,KIM Dae-hyun,Lee Sang-Kyung,Hong Chang-Sung,KIM Hyun-Joon,Lee Jeong-Yeop,Shin Jin-Ho,JANG Jun-Soo,Son Young-Jin,JUNG Jae-Sun. Владелец: . Дата публикации: 2016-09-22.

OILFIELD WATER STORAGE SYSTEMS, METHODS OF MANAGING THE SAME, AND FILM-FORMING COMPOSITIONS

Номер патента: US20160289105A1. Автор: Lopez de Cardenas Jorge E.,ANDRZEJAK TIMOTHY AL. Владелец: . Дата публикации: 2016-10-06.

POLYIMIDE FILM FORMING COMPOSITION AND POLYIMIDE FILM PRODUCED BY USING SAME

Номер патента: US20190276618A1. Автор: YUN Cheolmin,KIM Kyungjun,JEONG Hye Won,SHIN Bo Ra. Владелец: LG CHEM, LTD.. Дата публикации: 2019-09-12.

Film-Forming Composite Used To Make Starch Softgel Capsules And The Method To Prepare It

Номер патента: US20150299433A1. Автор: Zhang Jiawei,Shuai Fangwen,Wang Xiangfeng. Владелец: . Дата публикации: 2015-10-22.

TITANIUM-CONTAINING FILM FORMING COMPOSITIONS FOR VAPOR DEPOSITION OF TITANIUM-CONTAINING FILMS

Номер патента: US20200277315A1. Автор: Girard Jean-Marc,Sanchez Antonio,Blasco Nicolas,NIKIFOROV Grigory. Владелец: . Дата публикации: 2020-09-03.

VANADIUM-CONTAINING FILM FORMING COMPOSITIONS AND VAPOR DEPOSITION OF VANADIUM-CONTAINING FILMS

Номер патента: US20160304542A1. Автор: Lansalot-Matras Clement,NOH Wontae. Владелец: . Дата публикации: 2016-10-20.

TANTALUM-CONTAINING FILM FORMING COMPOSITIONS AND VAPOR DEPOSITION OF TANTALUM-CONTAINING FILMS

Номер патента: US20160307708A1. Автор: Lansalot-Matras Clement,NOH Wontae. Владелец: . Дата публикации: 2016-10-20.

TANTALUM-CONTAINING FILM FORMING COMPOSITIONS AND VAPOR DEPOSITION OF TANTALUM-CONTAINING FILMS

Номер патента: US20160307903A1. Автор: Lansalot-Matras Clement,NOH Wontae. Владелец: . Дата публикации: 2016-10-20.

VANADIUM-CONTAINING FILM FORMING COMPOSITIONS AND VAPOR DEPOSITION OF VANADIUM-CONTAINING FILMS

Номер патента: US20160307905A1. Автор: Lansalot-Matras Clement,NOH Wontae. Владелец: . Дата публикации: 2016-10-20.

HYDROGEN BARRIER AGENT, HYDROGEN BARRIER FILM FORMING COMPOSITION, HYDROGEN BARRIER FILM, METHOD FOR PRODUCING HYDROGEN BARRIER FILM, AND ELECTRONIC ELEMENT

Номер патента: US20190300674A1. Автор: Misumi Koichi,Shiota Dai,SOMEYA Kazuya,HIKIDA Jiro. Владелец: . Дата публикации: 2019-10-03.

CURABLE FILM-FORMING COMPOSITIONS CONTAINING RHEOLOGY MODIFIERS COMPRISING NON-AQUEOUS DISPERSIONS

Номер патента: US20200325289A1. Автор: Cao Bin,Wang Wei,Luchansky Matthew S.,Simpson Dennis Allan,FENN DAVID ROBERT,HUI CHIN MING,GONZALEZ INANLLELY YUDERKA. Владелец: PPG Industries Ohio, Inc.. Дата публикации: 2020-10-15.

ADDITIVE FOR RESIST UNDERLAYER FILM-FORMING COMPOSITION AND RESIST UNDERLAYER FILM-FORMING COMPOSITION CONTAINING THE SAME

Номер патента: US20140287589A1. Автор: Sakamoto Rikimaru,FUJITANI Noriaki,Endo Takafumi. Владелец: . Дата публикации: 2014-09-25.

PATTERN-FORMING METHOD AND RESIST UNDERLAYER FILM-FORMING COMPOSITION

Номер патента: US20140220783A1. Автор: Kimura Toru,Nakafuji Shinya,Yasuda Kyoyu,MORI Takashi,TAKIMOTO Yoshio,MINEGISHI Shinya,KOUMURA Kazuhiko. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2014-08-07.

RESIST UNDERLAYER FILM FORMING COMPOSITION CONTAINING SILICON HAVING ANION GROUP

Номер патента: US20130078814A1. Автор: Nakajima Makoto,Kanno Yuta,Shibayama Wataru. Владелец: NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.. Дата публикации: 2013-03-28.

SILICON-CONTAINING EUV RESIST UNDERLAYER FILM-FORMING COMPOSITION INCLUDING ADDITIVE

Номер патента: US20150079792A1. Автор: Shibayama Wataru,Sakamoto Rikimaru,Ho Bangching,Yaguchi Hiroaki,SHIGAKI Shuhei. Владелец: . Дата публикации: 2015-03-19.

SILICON-CONTAINING RESIST UNDERLAYER FILM-FORMING COMPOSITION HAVING SULFONE STRUCTURE

Номер патента: US20140170855A1. Автор: Kishioka Takahiro,Nakajima Makoto,Kanno Yuta,Sakuma Daisuke. Владелец: NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.. Дата публикации: 2014-06-19.

SILICON-CONTAINING EUV RESIST UNDERLAYER FILM FORMING COMPOSITION

Номер патента: US20140232018A1. Автор: Sakamoto Rikimaru,Yaguchi Hiroaki,SHIGAKI Shuhei,Ho Bang-ching. Владелец: . Дата публикации: 2014-08-21.

RESIST UNDERLAYER FILM-FORMING COMPOSITION WHICH CONTAINS ALICYCLIC SKELETON-CONTAINING CARBAZOLE RESIN

Номер патента: US20140235060A1. Автор: HASHIMOTO Keisuke,SHINJO Tetsuya,Someya Yasunobu,Karasawa Ryo. Владелец: NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.. Дата публикации: 2014-08-21.

METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE USING SILICON-CONTAINING RESIST UNDERLAYER FILM FORMING COMPOSITION FOR SOLVENT DEVELOPMENT

Номер патента: US20140377957A1. Автор: Takeda Satoshi,Nakajima Makoto,Kanno Yuta,Wakayama Hiroyuki. Владелец: . Дата публикации: 2014-12-25.

METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE USING ORGANIC UNDERLAYER FILM FORMING COMPOSITION FOR SOLVENT DEVELOPMENT LITHOGRAPHY PROCESS

Номер патента: US20150194312A1. Автор: HASHIMOTO Keisuke,SHINJO Tetsuya,Takeda Satoshi,Someya Yasunobu,Sakamoto Rikimaru. Владелец: . Дата публикации: 2015-07-09.

Film-forming compositions comprising salicylic acid and methods of use

Номер патента: US20240307416A1. Автор: Katie F. Wlaschin,Minghua Dai. Владелец: Solventum Intellectual Properties Co. Дата публикации: 2024-09-19.

Film-forming compositions for protecting animal skin

Номер патента: US20050063926A1. Автор: Harinath Bathina,Pablo Janowicz,Thomas Hemling. Владелец: Individual. Дата публикации: 2005-03-24.

Mucoadhesive film-forming composition and use thereof for the treatment of pain linked to teething

Номер патента: WO2020030569A1. Автор: Claire Bouvier,Elodie Mathey. Владелец: URGO RECHERCHE INNOVATION ET DEVELOPPEMENT. Дата публикации: 2020-02-13.

Film forming composition and ultra-fine short fibers

Номер патента: EP3978079A1. Автор: Hideo Kobayashi,Tatsuya Fujimoto,Shingo Hirono,Kaori ISHIDA,Junji Hosokawa. Владелец: Kao Corp. Дата публикации: 2022-04-06.

Film-forming compositions for protecting skin from body fluids and articles made therefrom

Номер патента: US7005557B2. Автор: George Endel Deckner,Thomas James Klofta,James Anthony Staudigel. Владелец: Procter and Gamble Co. Дата публикации: 2006-02-28.

Self-healing or self-repairing film forming composition

Номер патента: US11826455B2. Автор: Toru Koike,Toshifumi Shiroya,Takehiko Kasai,Hidehiko ASANUMA,Tomomi HAMAZAKI. Владелец: LOreal SA. Дата публикации: 2023-11-28.

FILM-FORMING COMPOSITION BASED ON PULLULAN, AND ITS USES IN COSMETIC COMPOSITIONS FOR MAKE-UP AND / OR CARE OF KERATINIC MATERIALS, SKIN AND LIPS

Номер патента: FR3058888B1. Автор: Valérie Alard,Anne-Sophie Rattina,Laurent Neau. Владелец: LVMH Recherche GIE. Дата публикации: 2021-12-10.

Film-forming composition, and use thereof for treating herpes

Номер патента: CA2839473C. Автор: Nathalie Derain. Владелец: Laboratoires Urgo SAS. Дата публикации: 2019-09-24.

FILM FORMING COMPOSITION AND ITS APPLICATION FOR TREATING HERPES

Номер патента: RU2014101705A. Автор: Натали ДЕРЕН. Владелец: Лаборатуар Урго. Дата публикации: 2015-07-27.

Film forming compositions comprising modified starches and iota-carrageenan and methods for manufacturing soft capsules using same

Номер патента: CA2375652C. Автор: John J. Getz,Elizabeth Youngblood,Keith Edward Tanner,Stephen Burnett,Peter Robert Draper. Владелец: RP Scherer Technologies LLC. Дата публикации: 2006-09-12.

Film forming composition and ultra-fine short fibers

Номер патента: EP3978079A4. Автор: Hideo Kobayashi,Tatsuya Fujimoto,Shingo Hirono,Kaori ISHIDA,Junji Hosokawa. Владелец: Kao Corp. Дата публикации: 2023-06-28.

Film-forming compositions for hard capsule shells and hard capsule shells obtained thereof

Номер патента: EP3579822B1. Автор: Bernard Pora,Yong Miao,Armand Chen. Владелец: Roquette Freres SA. Дата публикации: 2020-12-16.

Self-film-forming composition for oral care

Номер патента: EP3324928B1. Автор: Jordi CUÑÉ CASTELLANA,Jonatan SANTAS GUTIÉRREZ,José Luis CALVO GUIRADO,Elisabet LÁZARO MALLÉN,Javier MAREQUE BUENO. Владелец: Ab Biotics Sa. Дата публикации: 2024-09-04.

Film-forming composition

Номер патента: EP4252862A4. Автор: Hideo Kobayashi,Tatsuya Fujimoto,Shingo Hirono,Kaori ISHIDA. Владелец: Kao Corp. Дата публикации: 2024-11-13.

COPPER FILM-FORMING COMPOSITION, AND METHOD FOR PRODUCING COPPER FILM BY USING THE COMPOSITION

Номер патента: US20140349017A1. Автор: ABE Tetsuji. Владелец: . Дата публикации: 2014-11-27.

Cosmetic film forming composition (COSMETIC FILM FORMING COMPOSITIONS)

Номер патента: KR950701513A. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 1995-04-28.

Conductive film forming composition, solar cell composite film and forming method thereof

Номер патента: CN102201274A. Автор: 山崎和彦,林年治,白石真也,米泽岳洋. Владелец: Mitsubishi Materials Corp. Дата публикации: 2011-09-28.

Film forming composition, soft and hard capsules prepared based on film forming composition and preparation method of soft and hard capsules

Номер патента: CN106109437B. Автор: 王丽,朱旭东,刘培勇,雷朋,窦晓,张轶弛. Владелец: Jiangsu Lefan Capsule Co ltd. Дата публикации: 2020-02-18.

In-situ film-forming composition

Номер патента: EP4333804A1. Автор: Joaquín NEBOT TROYANO,Ramon M. Roca i Juanes. Владелец: Laboratorios Inibsa SA. Дата публикации: 2024-03-13.

FILM-FORMING COMPOSITION FOR SOFT CAPSULES

Номер патента: US20130189522A1. Автор: Fujii Takuma,Nagura Masanori,Amemiya Tohru. Владелец: R.P. SCHERER TECHNOLOGIES, LLC. Дата публикации: 2013-07-25.

TRIAZINE RING-CONTAINING POLYMER AND FILM-FORMING COMPOSITION COMPRISING SAME

Номер патента: US20140008751A1. Автор: Nishimura Naoya,Ozawa Masaaki,Koide Yasuyuki,KATO Taku,HIDA Masahiro. Владелец: NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.. Дата публикации: 2014-01-09.

SELF-FILM-FORMING COMPOSITION FOR ORAL CARE

Номер патента: US20190000757A1. Автор: Cuñé Castellana Jordi,LAZARO MALLEN Elisabet,SANTAS GUTIÉRREZ Jonatan,MAREQUE BUENO Javier,Mareque,CALVO GUIRADO Jose,Luis. Владелец: . Дата публикации: 2019-01-03.

NOVEL RAPID-DEPOSITION THIN-FILM FORMING COMPOSITIONS AS EFFECTIVE WOUND CARE TREATMENT

Номер патента: US20180000858A1. Автор: Liang Bo,JIN XIANG. Владелец: . Дата публикации: 2018-01-04.

THIN FILM FORMING COMPOSITION FOR LITHOGRAPHY CONTAINING TITANIUM AND SILICON

Номер патента: US20140120730A1. Автор: Takeda Satoshi,Nakajima Makoto,Kanno Yuta,Sakaida Yasushi,SHIGAKI Shuhei. Владелец: NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.. Дата публикации: 2014-05-01.

TOPICAL FILM-FORMING COMPOSITION, AND USE THEREOF FOR TREATING MYCOSES

Номер патента: US20140128468A1. Автор: Bouvier Claire,Derain Nathalie. Владелец: LABORATOIRES URGO. Дата публикации: 2014-05-08.

Film-forming composition, and use thereof for treating herpes

Номер патента: US20140130711A1. Автор: Nathalie Derain. Владелец: Laboratoires Urgo SAS. Дата публикации: 2014-05-15.

METHOD FOR FORMING THREE-DIMENSIONAL INTERCONNECTION, CIRCUIT ARRANGEMENT COMPRISING THREE-DIMENSIONAL INTERCONNECTION, AND METAL FILM-FORMING COMPOSITION FOR THREE-DIMENSIONAL INTERCONNECTION

Номер патента: US20160064280A1. Автор: KOBAYASHI Atsushi,SHIMODA Sugirou,OOKITA Kenzou,WATANABE Kazuto,KURIYAMA Keisuke,Aritome Isao,Matsumoto Taichi. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2016-03-03.

FILM-FORMING COMPOSITION FOR A PH-DEPENDANT SUSTAINED RELEASE OF THE ACTIVE AGENT

Номер патента: US20190099523A1. Автор: Friedman Michael,Lavy Eran,STEINBERG Doron. Владелец: . Дата публикации: 2019-04-04.

CHALCOGENIDE-CONTAINING FILM FORMING COMPOSITIONS AND VAPOR DEPOSITION OF CHALCOGENIDE-CONTAINING FILMS

Номер патента: US20150111392A1. Автор: Gatineau Julien,ISHII Hana,SCHNEIDER Nathanaelle. Владелец: . Дата публикации: 2015-04-23.

Durable Dental Film-Forming Composition and Uses Thereof

Номер патента: US20170128346A1. Автор: Xu Guofeng,YUAN Shaotang,Dong Rong. Владелец: Colgate-Palmolive Company. Дата публикации: 2017-05-11.

DIELECTRIC THIN FILM-FORMING COMPOSITION AND METHOD OF FORMING DIELECTRIC THIN FILM USING THE SAME

Номер патента: US20140212576A1. Автор: Sakurai Hideaki,Watanabe Toshiaki,Soyama Nobuyuki,Fujii Jun. Владелец: MITSUBISHI MATERIALS CORPORATION. Дата публикации: 2014-07-31.

LaNiO3 THIN FILM-FORMING COMPOSITION AND METHOD OF FORMING LaNiO3 THIN FILM USING THE SAME

Номер патента: US20140227433A1. Автор: Sakurai Hideaki,Soyama Nobuyuki,Fujii Jun. Владелец: MITSUBISHI MATERIALS CORPORATION. Дата публикации: 2014-08-14.

SELF-HEALING OR SELF-REPAIRING FILM FORMING COMPOSITION

Номер патента: US20210177725A1. Автор: Koike Toru,Kasai Takehiko,Shiroya Toshifumi,Asanuma Hidehiko,HAMAZAKI Tomomi. Владелец: L'OREAL. Дата публикации: 2021-06-17.

METHOD OF USING PEELABLE FILM-FORMING COMPOSITION

Номер патента: US20140255516A1. Автор: Wu Jeffrey M.,Bahadur Prashant,Yerramilli Kamesh R.. Владелец: JOHNSON & JOHNSON CONSUMER COMPANIES, INC.. Дата публикации: 2014-09-11.

AN AQUEOUS ANTIMICROBIAL FILM-FORMING COMPOSITION FOR TEAT TREATMENT BY SPRAY APPLICATION

Номер патента: US20180177189A1. Автор: Schneider Michael,Kleine Tillmann,Killeen Jonathan Scott,Breiderhoff Helen. Владелец: . Дата публикации: 2018-06-28.

FERRITE THIN FILM-FORMING COMPOSITION AND METHOD OF FORMING FERRITE THIN FILM

Номер патента: US20140284515A1. Автор: Sakurai Hideaki,Soyama Nobuyuki,Doi Toshihiro,Igarashi Kazunori,Nakamura Kenzo. Владелец: MITSUBISHI MATERIALS CORPORATION. Дата публикации: 2014-09-25.

METHOD OF PRODUCING FERROELECTRIC THIN FILM-FORMING COMPOSITION AND APPLICATION OF THE SAME

Номер патента: US20140288233A1. Автор: Sakurai Hideaki,Soyama Nobuyuki,Doi Toshihiro. Владелец: MITSUBISHI MATERIALS CORPORATION. Дата публикации: 2014-09-25.

PZT-BASED FERROELECTRIC THIN FILM-FORMING COMPOSITION, METHOD OF PREPARING THE SAME, AND METHOD OF FORMING PZT-BASED FERROELECTRIC THIN FILM USING THE SAME

Номер патента: US20140295197A1. Автор: Sakurai Hideaki,Soyama Nobuyuki,Doi Toshihiro. Владелец: MITSUBISHI MATERIALS CORPORATION. Дата публикации: 2014-10-02.

FILM-FORMING COMPOSITION FOR A PH-DEPENDANT SUSTAINED RELEASE OF THE ACTIVE AGENT

Номер патента: US20140328895A1. Автор: Friedman Michael,Lavy Eran,STEINBERG Doron. Владелец: YISSUM RESEARCH DEVELOPMENT COMPANY OF THE HEBREW UNIVERSITY OF JERUSALEM, LTD.. Дата публикации: 2014-11-06.

FILM-FORMING COMPOSITION CONTAINING SURFACTANT OR SURFACTANT AND SALT AS WHITENING AGENT

Номер патента: US20210275404A1. Автор: Takubo Takahisa,SATO Kaori,DOI HITOMI. Владелец: Capsugel Belgium NV. Дата публикации: 2021-09-09.

FILM-FORMING COMPOSITION FOR SKIN OR HAIR COATING

Номер патента: US20190254947A1. Автор: HWANG Yoon Kyun,BIN Sung Ah,AHN Da Woon,CHOI Jang Won,KIM Jong Hyub,PARK Sung II. Владелец: AMOREPACIFIC CORPORATION. Дата публикации: 2019-08-22.

FILM-FORMING COMPOSITION BASED ON LEGUMINOUS STARCH FOR COSMETIC USE

Номер патента: US20210330570A1. Автор: Le Bihan Gregory,Mentink Leon,BIRRAUX Jérémie. Владелец: . Дата публикации: 2021-10-28.

FILM FORMING COMPOSITION COMPRISING GRAPHENE MATERIAL AND CONDUCTING POLYMER

Номер патента: US20150279504A1. Автор: Grivei Eusebiu,Viville Pascal,Soloukhin Victor,Khousakoun Eric,Deligne Nicolas,Coppee Severine,Lazzaroni Roberto. Владелец: . Дата публикации: 2015-10-01.

FILM-FORMING COMPOSITIONS OF SELF-CROSSLINKABLE NANOGEL STAR POLYMERS

Номер патента: US20140370064A1. Автор: Miller Robert D.,Lee Victor Y.,Sly Joseph. Владелец: . Дата публикации: 2014-12-18.

METHOD OF USING PEELABLE FILM-FORMING COMPOSITION

Номер патента: US20150352057A1. Автор: Wu Jeffrey M.,Bahadur Prashant,Yerramilli Kamesh R.. Владелец: Johnson & Johnson Consumer Inc.. Дата публикации: 2015-12-10.

FILM-FORMING COMPOSITIONS FOR HARD CAPSULE SHELLS AND HARD CAPSULE SHELLS OBTAINED THEREOF

Номер патента: US20190351062A1. Автор: Miao Yong,Pora Bernard,CHEN Armand. Владелец: . Дата публикации: 2019-11-21.

Film-forming composition

Номер патента: RU2326916C1. Автор: Владимир Григорьевич Бондалетов,Людмила Ивановна Бондалетова,Ольга Владимировна Вахрамеева. Владелец: Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Томский политехнический университет". Дата публикации: 2008-06-20.

Film-forming composition

Номер патента: RU2265635C1. Автор: В.Г. Бондалетов,С.И. Приходько,И.Г. Антонов,Л.И. Бондалетова,О.В. Вахрамеева. Владелец: Томский политехнический университет. Дата публикации: 2005-12-10.

Film forming composition and uses thereof

Номер патента: CA1162481A. Автор: Ian A. Easton,James M. Glen,Ann G. Kieran. Владелец: Devro Inc. Дата публикации: 1984-02-21.

องค์ประกอบสร้างอีลาสโตเมอริกฟิล์ม และ วัตถุที่ทำจากอีลาสโตเมอริกฟิล์ม (Elastomer Film-Forming Compositions and Articles Made from the Elastomeric Film)

Номер патента: TH162421B. Автор: . Владелец: สกินโพรเทคท์ คอร์ปอเรชั่น เอสดีเอ็น บีเอชดี. Дата публикации: 2017-05-11.

Underlayer film forming material for silicon-containing two-layer resist process and wiring forming method using the same

Номер патента: JP3914492B2. Автор: 和正脇屋,悦子中村. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2007-05-16.

Photoresist underlayer film forming material and pattern forming method

Номер патента: JP4355943B2. Автор: 畠山　　潤,聡渡邉. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2009-11-04.

องค์ประกอบสร้างอีลาสโตเมอริกฟิล์ม และ วัตถุที่ทำจากอีลาสโตเมอริกฟิล์ม (Elastomeric Film-Forming Compositions and Articles Made from the Elastomeric Film)

Номер патента: TH163970A. Автор: คูมาเรซาน,พราบาคาราน,ฟู,พู โคน. Владелец: นางสาวสุคนธ์ทิพย์ จิตรมงคล. Дата публикации: 2017-06-29.

องค์ประกอบสร้างอีลาสโตเมอริกฟิล์ม และ วัตถุที่ทำจากอีลาสโตเมอริกฟิล์ม (Elastomeric Film-Forming Compositions and Articles Made from the Elastomeric Film)

Номер патента: TH1601000224A. Автор: โคน พูพราบาคาราน คูมาเรซาน ฟู. Владелец: สกินโพรเทคท์ คอร์ปอเรชั่น เอสดีเอ็น บีเอชดี. Дата публикации: 2017-06-29.

องค์ประกอบสร้างอีลาสโตเมอริกฟิล์ม และ วัตถุที่ทำจากอีลาสโตเมอริกฟิล์ม (Elastomeric Film-Forming Compositions and Articles Made from the Elastomeric Film)

Номер патента: TH163970B. Автор: . Владелец: สกินโพรเทคท์ คอร์ปอเรชั่น เอสดีเอ็น บีเอชดี. Дата публикации: 2017-06-29.

A semiconductor film forming composition, a method for producing a semiconductor film forming composition, a method for producing a semiconductor member, and a method for producing a semiconductor process material.

Номер патента: JP6884026B2. Автор: 博文田中,田中　博文,靖剛茅場. Владелец: Mitsui Chemicals Inc. Дата публикации: 2021-06-09.

DIELECTRIC-THIN-FILM FORMING COMPOSITION, METHOD OF FORMING DIELECTRIC THIN FILM, AND DIELECTRIC THIN FILM FORMED BY THE METHOD

Номер патента: US20120055372A1. Автор: Sakurai Hideaki,Guegan Guillaume,Watanabe Toshiaki,Soyama Nobuyuki. Владелец: MITSUBISHI MATERIALS CORPORATION. Дата публикации: 2012-03-08.

RESIST LOWER LAYER FILM-FORMING COMPOSITION, POLYMER, RESIST LOWER LAYER FILM, PATTERN-FORMING METHOD, AND METHOD OF PRODUCING SEMICONDUCTOR DEVICE

Номер патента: US20120077124A1. Автор: Nakahara Kazuo,Nagai Tomoki. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2012-03-29.

CATIONICALLY POLYMERIZABLE RESIST UNDERLAYER FILM-FORMING COMPOSITION

Вам могут быть интересны следующие патенты

Главная

Проекты и услуги

Контакты