방향족 축합환을 함유하는 수지를 포함하는 리소그래피용 레지스트 하층막 형성 조성물
Номер патента: KR20090087097A
Опубликовано: 14-08-2009
Автор(ы): 타카히로 사카구치, 테츠야 신조, 토모유키 이노모토
Принадлежит: 닛산 가가쿠 고교 가부시키 가이샤
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Resist underlayer film forming composition for lithography, containing aromatic fused ring-containing resin
Номер патента: US20110207331A1. Автор: Takahiro Sakaguchi,Tomoyuki Enomoto,Tetsuya Shinjo. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2011-08-25.