Compound For Forming Metal-Containing Film, Composition For Forming Metal-Containing Film, Patterning Process, And Semiconductor Photoresist Material
Номер патента: US20240116958A1
Опубликовано: 11-04-2024
Автор(ы): Daisuke Kori, Naoki Kobayashi, Ryunosuke HANDA, Seiichiro Tachibana, Shohei Iwamori, Shun Kikuchi
Принадлежит: Shin Etsu Chemical Co Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 11-04-2024
Автор(ы): Daisuke Kori, Naoki Kobayashi, Ryunosuke HANDA, Seiichiro Tachibana, Shohei Iwamori, Shun Kikuchi
Принадлежит: Shin Etsu Chemical Co Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Compound for forming metal-containing film, composition for forming metal-containing film, patterning process, and semiconductor photoresist material
Номер патента: EP4339702A1. Автор: Naoki Kobayashi,Daisuke Kori,Shun Kikuchi,Shohei Iwamori. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-20.