Composition for forming adhesive film, patterning process, and method for forming adhesive film
Номер патента: EP4325293A2
Опубликовано: 21-02-2024
Автор(ы): Daisuke Kori, Seiichiro Tachibana, Takashi Sawamura, Takeru Watanabe
Принадлежит: Shin Etsu Chemical Co Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 21-02-2024
Автор(ы): Daisuke Kori, Seiichiro Tachibana, Takashi Sawamura, Takeru Watanabe
Принадлежит: Shin Etsu Chemical Co Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Composition for forming silicon-containing resist underlayer film and patterning process
Номер патента: US11934100B2. Автор: Kazunori Maeda,Daisuke Kori,Yusuke Kai. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-19.