Substrate processing method, storage medium for computer and substrate processing system
Номер патента: KR101788908B1
Опубликовано: 20-10-2017
Автор(ы): 사토루 시무라, 후미코 이와오
Принадлежит: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 20-10-2017
Автор(ы): 사토루 시무라, 후미코 이와오
Принадлежит: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Substrate processing method, program, computer storage medium, and substrate processing system
Номер патента: JP5871844B2. Автор: 悟 志村,文子 岩尾,志村 悟. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-03-01.