Substrate processing method, program, computer storage medium, and coating processing system
Номер патента: JP4934060B2
Опубликовано: 16-05-2012
Автор(ы): 健太郎 吉原, 孝介 吉原, 康治 ▲タカヤナギ▼, 智弘 井関
Принадлежит: Tokyo Electron Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 16-05-2012
Автор(ы): 健太郎 吉原, 孝介 吉原, 康治 ▲タカヤナギ▼, 智弘 井関
Принадлежит: Tokyo Electron Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Coating treatment method, program, non-transitory computer storage medium and coating treatment apparatus
Номер патента: EP2410560A3. Автор: Kousuke Yoshihara,Shinichi Hatekeyama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2015-10-21.