Semiconductor structure and fabrication method thereof
Номер патента: US11908906B2
Опубликовано: 20-02-2024
Автор(ы): Hailong Yu, HAO Zhang, Jinhui MENG, Tiantian Zhang, Xuezhen JING
Принадлежит: Semiconductor Manufacturing International Beijing Corp, Semiconductor Manufacturing International Shanghai Corp
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 20-02-2024
Автор(ы): Hailong Yu, HAO Zhang, Jinhui MENG, Tiantian Zhang, Xuezhen JING
Принадлежит: Semiconductor Manufacturing International Beijing Corp, Semiconductor Manufacturing International Shanghai Corp
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Semiconductor structure and fabrication method thereof
Номер патента: US11749745B2. Автор: Xiang Hu. Владелец: Semiconductor Manufacturing International Shanghai Corp. Дата публикации: 2023-09-05.