Photosensitive compositions, preparation methods thereof, quantum dot polymer composite prepared therefrom
Номер патента: US11835856B2
Опубликовано: 05-12-2023
Автор(ы): Eun Joo Jang, Hojeong PAEK, Hyeyeon Yang, JongGi Kim, Shang Hyeun Park, Shin Ae Jun, Yong Seok Han
Принадлежит: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD, Samsung SDI Co Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 05-12-2023
Автор(ы): Eun Joo Jang, Hojeong PAEK, Hyeyeon Yang, JongGi Kim, Shang Hyeun Park, Shin Ae Jun, Yong Seok Han
Принадлежит: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD, Samsung SDI Co Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Photosensitive compositions, preparation methods thereof, and quantum dot polymer composite pattern produced therefrom
Номер патента: US12055852B2. Автор: Shin Ae Jun,nayoun WON,Shang Hyeun Park,JongGi Kim,Hojeong PAEK. Владелец: Samsung SDI Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-06.