Apparatus for cvd and ald with an elongate nozzle and methods of use
Номер патента: WO2013181216A1
Опубликовано: 05-12-2013
Автор(ы): Igor Peidous
Принадлежит: Applied Materials, Inc.
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 05-12-2013
Автор(ы): Igor Peidous
Принадлежит: Applied Materials, Inc.
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Apparatus for processing substrate and apparatus for processing electron source substrate
Номер патента: US20070034155A1. Автор: Kazumasa Takatsu. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2007-02-15.