Reflective mask blank, reflective mask, method of manufacturing reflective mask blank, and method of manufacturing reflective mask
Номер патента: US20240176224A1
Опубликовано: 30-05-2024
Автор(ы): Daijiro AKAGI, Ichiro Ishikawa, Kenichi Sasaki, Shunya TAKI, Takuma Kato
Принадлежит: Asahi Glass Co Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 30-05-2024
Автор(ы): Daijiro AKAGI, Ichiro Ishikawa, Kenichi Sasaki, Shunya TAKI, Takuma Kato
Принадлежит: Asahi Glass Co Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Mask blank, transfer mask, and method for manufacturing semiconductor device
Номер патента: US20230097280A1. Автор: Osamu Nozawa,Keishi AKIYAMA,Hok Tak Lim,Tham Hui Jun. Владелец: Hoya Electronics Singapore Pte Ltd. Дата публикации: 2023-03-30.