Structure of heterojunction field effect transistor and a fabrication method thereof
Номер патента: US20120091507A1
Опубликовано: 19-04-2012
Автор(ы): Cheng-Guan Yuan, Shih-Ming Liu
Принадлежит: WIN Semiconductors Corp
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 19-04-2012
Автор(ы): Cheng-Guan Yuan, Shih-Ming Liu
Принадлежит: WIN Semiconductors Corp
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Field effect transistor and method for fabricating the same
Номер патента: US20110215383A1. Автор: Tadashi Watanabe,Hajime Matsuda. Владелец: Sumitomo Electric Device Innovations Inc. Дата публикации: 2011-09-08.