Verfahren zum Herstellen eines Siliziumwafers
Номер патента: DE112012000788B4
Опубликовано: 23-05-2024
Автор(ы): Ayumu Sato, Hiromasa Hashimoto, Kazuya Sato, Takuya Sasaki
Принадлежит: Shin Etsu Handotai Co Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 23-05-2024
Автор(ы): Ayumu Sato, Hiromasa Hashimoto, Kazuya Sato, Takuya Sasaki
Принадлежит: Shin Etsu Handotai Co Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Verfahren zum Herstellen eines spiegelpolierten Wafers
Номер патента: DE112014003787B4. Автор: Hiromasa Hashimoto,Yoshihiro Usami,Kazuaki Aoki,Shigeru Oba. Владелец: Shin Etsu Handotai Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-12.