Verfahren zum Verbessern der Ätzgleichmäßigkeit bei der Tiefenätzung von Silizium
Номер патента: DE10352070A1
Опубликовано: 27-05-2004
Автор(ы): David Dobuzinsky, Richard Wise, Rolf Weis, Siddhartha Panda
Принадлежит: INFINEON TECHNOLOGIES AG, International Business Machines Corp
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 27-05-2004
Автор(ы): David Dobuzinsky, Richard Wise, Rolf Weis, Siddhartha Panda
Принадлежит: INFINEON TECHNOLOGIES AG, International Business Machines Corp
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Verfahren zum beschleunigten ätzen von silizium
Номер патента: WO2007036449A1. Автор: Hubert Benzel,Stefan Pinter,Christoph Schelling,Tjalf Pirk,Christina Leinenbach,Julian Gonska,Frank Klopf. Владелец: ROBERT BOSCH GMBH. Дата публикации: 2007-04-05.