PROCESS FOR THE GENERATION OF THIN SILICON-CONTAINING FILMS
Номер патента: US20190309417A1
Опубликовано: 10-10-2019
Автор(ы): Ahlf Maraike, LESZCZYNSKA Kinga Izabela, Mayr Lukas, SCHESCHKEWITZ David, Schweinfurth David Dominique
Принадлежит: BASF SE
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 10-10-2019
Автор(ы): Ahlf Maraike, LESZCZYNSKA Kinga Izabela, Mayr Lukas, SCHESCHKEWITZ David, Schweinfurth David Dominique
Принадлежит: BASF SE
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Process for the generation of thin silicon-containing films
Номер патента: US20190309417A1. Автор: David Dominique Schweinfurth,Lukas Mayr,Maraike Ahlf,Kinga Izabela LESZCZYNSKA,David Scheschkewitz. Владелец: BASF SE. Дата публикации: 2019-10-10.