PLASMA PROCESSING APPARATUS AND METHOD, AND METHOD OF MANUFACTURING ELECTRONIC DEVICE
Номер патента: US20160358793A1
Опубликовано: 08-12-2016
Автор(ы): OKUMURA TOMOHIRO, SUEMASU SATOSHI
Принадлежит:
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 08-12-2016
Автор(ы): OKUMURA TOMOHIRO, SUEMASU SATOSHI
Принадлежит:
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Substrate processing apparatus, substrate retainer and method of manufacturing semiconductor device
Номер патента: US11961715B2. Автор: Tsuyoshi Takeda,Kenji Ono,Kazuhiko Yamazaki,Daisuke Hara,Takashi Yahata. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-04-16.