Substrate liquid processing apparatus, substrate liquid processing method and storage medium
Номер патента: US20200266079A1
Опубликовано: 20-08-2020
Автор(ы): Hideaki Sato
Принадлежит: Tokyo Electron Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 20-08-2020
Автор(ы): Hideaki Sato
Принадлежит: Tokyo Electron Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Substrate processing apparatus, substrate processing system, and substrate processing method
Номер патента: US20240162061A1. Автор: Yoshihiro Kawaguchi,Yohei Yamashita. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-05-16.