Lithographic system and method
Номер патента: EP4390543A1
Опубликовано: 26-06-2024
Автор(ы): Edwin Te Sligte, Hubertus Johannes Van De Wiel, Jasper Pierre BECKERS, Kramer Daniel HARRISON, William Peter VAN DRENT
Принадлежит: ASML Netherlands BV
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 26-06-2024
Автор(ы): Edwin Te Sligte, Hubertus Johannes Van De Wiel, Jasper Pierre BECKERS, Kramer Daniel HARRISON, William Peter VAN DRENT
Принадлежит: ASML Netherlands BV
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Method for controlling a lithographic system
Номер патента: US12099306B2. Автор: Jan Bernard Plechelmus Van Schoot,Antonius Theodorus Wilhelmus Kempen,Marinus Aart Van Den Brink,Oscar Franciscus Jozephus NOORDMAN. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-09-24.