Methods for forming charge layers using gas and liquid phase coatings
Номер патента: WO2023183157A1
Опубликовано: 28-09-2023
Автор(ы): Taichou Papo CHEN
Принадлежит: Applied Materials, Inc.
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 28-09-2023
Автор(ы): Taichou Papo CHEN
Принадлежит: Applied Materials, Inc.
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Methods for forming charge layers using gas and liquid phase coatings
Номер патента: US20230307235A1. Автор: Taichou Papo CHEN. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-09-28.