Faceplate with localized flow control
Номер патента: US12020907B2
Опубликовано: 25-06-2024
Автор(ы): Arun THOTTAPPAYIL, Hang Yu, Jun Tae Choi, Junghoon SUN, Mayur Govind KULKARNI
Принадлежит: Applied Materials Inc
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 25-06-2024
Автор(ы): Arun THOTTAPPAYIL, Hang Yu, Jun Tae Choi, Junghoon SUN, Mayur Govind KULKARNI
Принадлежит: Applied Materials Inc
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Diaphragm and chemical flow control device
Номер патента: US20240287977A1. Автор: Masaki Yoshida,Takayuki Kumagai,Shigenobu Nishida,Yoshifumi NISHIO. Владелец: CKD Corp. Дата публикации: 2024-08-29.