Quality Detection Method and Apparatus
Номер патента: US20220415720A1
Опубликовано: 29-12-2022
Автор(ы): Chan-Hong Chern, Cheng-Hsiang Hsieh, Chih-Hua Wang, Yi-An Lai
Принадлежит: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 29-12-2022
Автор(ы): Chan-Hong Chern, Cheng-Hsiang Hsieh, Chih-Hua Wang, Yi-An Lai
Принадлежит: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
In-situ light detection methods and apparatus for ultraviolet semiconductor substrate processing
Номер патента: US20210223707A1. Автор: LIN Zhang,Shuran Sheng,Joseph C. Werner,Ralph Peter ANTONIO. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2021-07-22.