Apparatus for backside and edge etch process and substrate lifting device therefor
Номер патента: KR100777467B1
Опубликовано: 21-11-2007
Автор(ы): 이정호, 최대규
Принадлежит: 주식회사 뉴파워 프라즈마
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 21-11-2007
Автор(ы): 이정호, 최대규
Принадлежит: 주식회사 뉴파워 프라즈마
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Substrate processing apparatus and substrate processing method
Номер патента: EP4428908A1. Автор: Kwang Sung Yoo,Tae Hwan YOUN,Geon Jong KIM. Владелец: PSK Inc. Дата публикации: 2024-09-11.