Устройства и способ для производства сингаза и продуктов из него
Номер патента: RU2013140178A
Опубликовано: 10-03-2015
Автор(ы): Кейт КИНГ, Шаши СИНГХ
Принадлежит: КЕЛЛОГГ БРАУН ЭНД РУТ ЭлЭлСи
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 10-03-2015
Автор(ы): Кейт КИНГ, Шаши СИНГХ
Принадлежит: КЕЛЛОГГ БРАУН ЭНД РУТ ЭлЭлСи
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Silicon nitride film of semiconductor element, and method and apparatus for producing silicon nitride film
Номер патента: EP2579300A4. Автор: Seiji Nishikawa. Владелец: Mitsubishi Heavy Industries Ltd. Дата публикации: 2013-12-18.