Method for manufacturing a low self-inductance capacitor
Номер патента: US20020004974A1
Опубликовано: 17-01-2002
Автор(ы): Harald Vetter, Ludwig Berg
Принадлежит: Siemens Matsushita Components GmbH and Co KG
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 17-01-2002
Автор(ы): Harald Vetter, Ludwig Berg
Принадлежит: Siemens Matsushita Components GmbH and Co KG
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Method for manufacturing ferrite magnet device, method for manufacturing non-reciprocal circuit device, and method for manufacturing composite electronic component
Номер патента: US20090255103A1. Автор: Takashi Hasegawa. Владелец: Murata Manufacturing Co Ltd. Дата публикации: 2009-10-15.