Method of Back End of Line Metal Via Process
Номер патента: US20240258165A1
Опубликовано: 01-08-2024
Автор(ы): Dong Zhao, Pengfei Wang, Qiaodan LI
Принадлежит: Shanghai Huali Integrated Circuit Corp
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 01-08-2024
Автор(ы): Dong Zhao, Pengfei Wang, Qiaodan LI
Принадлежит: Shanghai Huali Integrated Circuit Corp
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Back-end-of-line (BEOL) interconnect structure
Номер патента: US09870944B2. Автор: Keng-Chu Lin,Joung-Wei Liou. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2018-01-16.