Method for patterning a graphene layer and method for manufacturing a display substrate
Номер патента: US09633899B2
Опубликовано: 25-04-2017
Автор(ы): Bing Sun, Chuanxiang XU, Fangzhen Zhang, Jingxia Gu, Shi Shu, Yue Shi, Zhijun LV
Принадлежит: BOE Technology Group Co Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 25-04-2017
Автор(ы): Bing Sun, Chuanxiang XU, Fangzhen Zhang, Jingxia Gu, Shi Shu, Yue Shi, Zhijun LV
Принадлежит: BOE Technology Group Co Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Method for forming and patterning a layer and/or substrate
Номер патента: WO2020242645A1. Автор: Tejinder Singh,Rui CHENG,Takehito KOSHIZAWA,Hidetaka Oshio. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2020-12-03.