Wafer cleaning device and method thereof
Номер патента: US09539621B2
Опубликовано: 10-01-2017
Автор(ы): Cheng-Hung Yu, Chin-Chin Wang, Chin-Kuang Liu, Hsin-Ting Tsai, Kuei-Chang Tung, Ming-Hsin Lee, Wei-Hong Chuang, Yan-Yi Lu
Принадлежит: United Microelectronics Corp
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 10-01-2017
Автор(ы): Cheng-Hung Yu, Chin-Chin Wang, Chin-Kuang Liu, Hsin-Ting Tsai, Kuei-Chang Tung, Ming-Hsin Lee, Wei-Hong Chuang, Yan-Yi Lu
Принадлежит: United Microelectronics Corp
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Wafer cleaning and drying device and method applying Marangoni effect
Номер патента: CN115565916A. Автор: 路新春,赵德文,李长坤,申兵兵. Владелец: Huahaiqingke Co Ltd. Дата публикации: 2023-01-03.