Electrochemical method for ecmp polishing pad conditioning

01-06-2007 дата публикации

Номер:

TW200720493A

Автор: Alpay Yilmaz, Jie Diao, Laksh Karuppiah, Ren-He Jia, Stan D Tsai, You Wang

Принадлежит: Applied Materials Inc

Контакты:

Номер заявки:

Дата заявки:

CPC - классификация

B B2 B23 B23H B23H5 B23H5/B23H5/0 B23H5/08 B24 B24B B24B3 B24B37 B24B37/B24B37/0 B24B37/04 B24B37/042 B24B37/046 B24B5 B24B53 B24B53/B24B53/0 B24B53/01 B24B53/017 C C2 C25 C25F C25F1 C25F1/C25F1/0 C25F1/00 H H0 H01 H01L H01L2 H01L21 H01L21/H01L21/3 H01L21/32 H01L21/321 H01L21/3212 H01L21/32125

IPC - классификация

B B2 B23 B23H B23H5 B23H5/B23H5/1 B23H5/10 B24 B24B B24B5 B24B53 B24B53/B24B53/0 B24B53/01 B24B53/017 H H0 H01 H01L H01L2 H01L21 H01L21/H01L21/3 H01L21/32