System and method for detecting debris in a photolithography system

10-09-2024 дата публикации

Номер:

US12085865B2

Автор: Chieh HSIEH, Heng-Hsin Liu, Li-Jui Chen, Shang-Chieh Chien, Shih-Yu Tu

Принадлежит: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd

Контакты:

Номер заявки:

Дата заявки:

CPC - классификация

G G0 G01 G01N G01N2 G01N21 G01N21/G01N21/9 G01N21/94 G03 G03F G03F7 G03F7/G03F7/7 G03F7/70 G03F7/700 G03F7/7003 G03F7/70033 G03F7/708 G03F7/7085 G03F7/709 G03F7/7091 G03F7/70916 G03F7/7092 G03F7/70925 H H0 H05 H05G H05G2 H05G2/H05G2/0 H05G2/00 H05G2/003 H05G2/0035 H05G2/005 H05G2/008

IPC - классификация

G G0 G01 G01N G01N2 G01N21 G01N21/G01N21/9 G01N21/94 H H0 H05 H05G H05G2 H05G2/H05G2/0 H05G2/00 H05G2/008 H05H H05H1 H05H1/H05H1/0 H05H1/06

Получить PDF