枚葉式基板処理装置及び方法.

枚葉式基板処理装置及び方法

Номер патента: JP2009302503A
Опубликовано: 24-12-2009
Автор(ы): Gyo-Woog Koo, Jung-Bong Choi, Ki Hoon Choi, キフンチェ, ギョウーグクー, ジョンボンチェ
Принадлежит: Semes Co Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне

Рисунок 1. Взаимосвязь патентов (ближайшие 20).

Semiconductor wafer treating apparatus

Номер патента: US8025069B2. Автор: Ayumu Okano. Владелец: Disco Corp. Дата публикации: 2011-09-27.

Apparatus and a method for treating a substrate

Номер патента: US09721801B2. Автор: HongJin Kim,Kuntack Lee,Kyoungseob Kim,Sungho Shin,Kihong CHO. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2017-08-01.

Substrate treating apparatus and substrate treating method

Номер патента: US12080566B2. Автор: Takashi Ota,Mitsukazu Takahashi,Kazuhiro Honsho,Taiki HINODE,Yusuke Akizuki. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-03.

Substrate treating method and substrate treating apparatus

Номер патента: US11133175B2. Автор: Yuta Sasaki,Yosuke Hanawa,Dai Ueda. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2021-09-28.

Substrate treating apparatus and substrate reversing method

Номер патента: US20240266205A1. Автор: Yuichi Takayama. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-08.

Substrate treating apparatus and substrate treating method

Номер патента: US20220344176A1. Автор: Takashi Ota,Mitsukazu Takahashi,Kazuhiro Honsho,Taiki HINODE,Yusuke Akizuki. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2022-10-27.

Substrate treating method and substrate treating apparatus

Номер патента: US20190333755A1. Автор: Yuta Sasaki,Yosuke Hanawa,Dai Ueda. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2019-10-31.

Substrate treating apparatus and substrate reversing method

Номер патента: US11967518B2. Автор: Yuichi Takayama. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-23.

Substrate treating apparatus and substrate reversing method

Номер патента: US20230139557A1. Автор: Yuichi Takayama. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2023-05-04.

Apparatus and method for treating substrate

Номер патента: US12087560B2. Автор: Dukhyun Son,Byung Kyu Kim. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-10.

Apparatus and method for treating substrate

Номер патента: US20200346299A1. Автор: Soo Young Park,Jung Hwan Lee,Ohyeol Kwon,Jun Keon AHN. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2020-11-05.

Substrate cleaning method and substrate cleaning system

Номер патента: US09443712B2. Автор: Itaru Kanno,Miyako Kaneko,Takehiko Orii. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-09-13.

Substrate treating apparatus and method for substrate treating

Номер патента: US20240227075A9. Автор: Tae Hee Kim,Ki Hoon Choi,Tae Shin Kim,Jin Yeong SUNG,Sang Gun LEE,Jang Jin LEE. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-11.

Substrate treating apparatus and method for substrate treating

Номер патента: US20240131624A1. Автор: Tae Hee Kim,Ki Hoon Choi,Tae Shin Kim,Jin Yeong SUNG,Sang Gun LEE,Jang Jin LEE. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-25.

Substrate treating apparatus and substrate treating method

Номер патента: US20230411184A1. Автор: Kwang Ryul Kim,Yun Sang Kim. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-21.

Substrate treating method, substrate treating apparatus and substrate treating liquid

Номер патента: US20240120212A1. Автор: Yuta Sasaki,Yosuke Hanawa,Shogo Kunieda. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-11.

Apparatus and method for treating substrate

Номер патента: US09978584B2. Автор: Jae Myoung Lee,Young Hun Lee,Min Jun Cho,Eui Sang Lim. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2018-05-22.

Substrate treating apparatus and treatment liquid nozzle

Номер патента: US20160218022A1. Автор: Hyeon Jun Lee,Yoon Jong JU,Kihoon Choi. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2016-07-28.

Substrate treating method and substrate treating apparatus

Номер патента: US20190030576A1. Автор: Yuta Sasaki,Yosuke Hanawa. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2019-01-31.

Apparatus and method of treating substrate

Номер патента: US9266186B2. Автор: Takayuki Fukasawa,Ji Hun Kim,Klhyuk Kim. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2016-02-23.

Substrate treating device and substrate treating method

Номер патента: US20180090340A1. Автор: Shinji Sugioka. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2018-03-29.

Apparatus and method for treating substrate

Номер патента: US20180012755A1. Автор: Jae Myoung Lee,Young Hun Lee,Min Jun Cho,Eui Sang Lim. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2018-01-11.

Substrate treating method, substrate treating apparatus, and treatment liquid

Номер патента: US20240290636A1. Автор: Yuta Sasaki,Yosuke Hanawa,Shogo Kunieda. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-29.

Substrate treating apparatus and method of operating the same

Номер патента: US6321463B1. Автор: Hiroyuki Shinozaki. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2001-11-27.

Wafer treating apparatus and method

Номер патента: US20060087007A1. Автор: Koji Hasegawa,Kenichiro Arai. Владелец: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd. Дата публикации: 2006-04-27.

Reflow treating unit and substrate treating apparatus

Номер патента: US09629258B2. Автор: Jian Zhang. Владелец: Semigear Inc. Дата публикации: 2017-04-18.

Reflow treating unit and substrate treating apparatus

Номер патента: US09572266B2. Автор: Jian Zhang. Владелец: Semigear Inc. Дата публикации: 2017-02-14.

Substrate treating apparatus and substrate treating method using the same

Номер патента: US20230163009A1. Автор: Sang Oh Kim,Myung Jin Lee. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2023-05-25.

Substrate Treating Apparatus And Substrate Treating Method

Номер патента: US20130199578A1. Автор: Hiroyuki Araki,Kentaro Tokuri. Владелец: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd. Дата публикации: 2013-08-08.

Substrate treating apparatus and method

Номер патента: US7744699B2. Автор: Tsuyoshi Tomita,Yoshikazu Kado. Владелец: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd. Дата публикации: 2010-06-29.

Substrate treating method, substrate treating apparatus, treatment liquid, and treatment liquid evaluation method

Номер патента: US20240290635A1. Автор: Yuta Sasaki,Yosuke Hanawa,Shogo Kunieda,Koki UONAMI. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-29.

Substrate treating apparatus and method

Номер патента: US20100224219A1. Автор: Tsuyoshi Tomita,Yoshikazu Kado. Владелец: Individual. Дата публикации: 2010-09-09.

Substrate treating apparatus and liquid supply unit

Номер патента: US20210362177A1. Автор: Jungmin YOON,Wan Hee Han,Junhyeak Choi,Hanseon Kang. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2021-11-25.

Substrate treating apparatus and liquid supply unit

Номер патента: US12030071B2. Автор: Jungmin YOON,Wan Hee Han,Junhyeak Choi,Hanseon Kang. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-09.

Substrate treating apparatus and substrate treating system having the same

Номер патента: US12087554B2. Автор: Hyungjun Kim,Jongwoo SUN,Sungyeon KIM,Jungpyo Hong,Kwangnam KIM. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-09-10.

Substrate treating apparatus and method for inspecting treatment liquid nozzle

Номер патента: US10985007B2. Автор: Kwangsup Kim. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2021-04-20.

Substrate treating apparatus and method for inspecting treatment liquid nozzle

Номер патента: US20190111450A1. Автор: Kwangsup Kim. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2019-04-18.

Substrate treating apparatus and method of treating substrate

Номер патента: US09460944B2. Автор: Tatsumi Shimomura,Naozumi Fujiwara,Toru EDO,Jun SAWASHIMA. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2016-10-04.

Substrate supporting member, substrate treating apparatus including the same and substrate treating method thereof

Номер патента: US12040216B2. Автор: Kang Suk Lee,Hyeon Jun Lee,Yong Hoon HONG,So Young Jang. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-16.

Substrate treating apparatus

Номер патента: US20220277966A1. Автор: Takahiro Yamaguchi,Toshimitsu Namba,Sei Negoro,Jun SAWASHIMA. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2022-09-01.

Support unit and substrate treating apparatus

Номер патента: US20230307260A1. Автор: Do Yeon Kim,Hyun Yoon,Ho Jong Hwang. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-28.

Substrate treating apparatus and substrate treating method

Номер патента: US20230032943A1. Автор: Ji Hyeon KIM,Soo Hong Lee,Dong Hwa Lee,Dai Geon Yoon. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2023-02-02.

Substrate treating apparatus and substrate treating method using the same

Номер патента: US20230133599A1. Автор: Dong Yun Lee. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2023-05-04.

Substrate treating apparatus and substrate treating method using the same

Номер патента: US11964471B2. Автор: Dong Yun Lee. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-23.

Substrate treating apparatus and substrate treating method

Номер патента: US20230369021A1. Автор: Jong Won Park,Yoon Seok Choi,Jae Won Shin,Yun Sang Kim,Youn Gun BONG. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-16.

Substrate treating apparatus and substrate transporting method

Номер патента: US20200206788A1. Автор: Koji Kaneyama,Joji KUWAHARA. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2020-07-02.

Apparatus and method for treating substrate

Номер патента: US20230096569A1. Автор: Young Jin Jang,Jun Young Choi,Gui Su PARK,Jun Hyun LIM. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2023-03-30.

Substrate treating apparatus

Номер патента: US11948823B2. Автор: Takuya Sato,Yuichi Takayama,Hiromichi KABA,Kazuhiko Nakazawa,Toshihito MORIOKA. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-02.

Substrate treating apparatus

Номер патента: EP4333037A1. Автор: Tadashi Maegawa. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-06.

Substrate treating apparatus and inkjet apparatus

Номер патента: US11707944B2. Автор: Sung Ho Kim,Hyun Min Lee,Jun Seok Lee,Kwang Jun Choi,Yoon-Ok Jang. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2023-07-25.

Substrate treating apparatus and substrate treating method

Номер патента: US20160271655A1. Автор: Koji Nishiyama,Masahito KASHIYAMA,Kota KABUNE. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2016-09-22.

Substrate treating apparatus and substrate treating method

Номер патента: US20230390809A1. Автор: Shigeru Yamamoto,Takashi Akiyama,Kenji Edamitsu,Daiki Fujii. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-07.

Substrate treating method and substrate treating apparatus

Номер патента: US20230148026A1. Автор: Dong-Hun Kim,Seong Gil Lee,Dong Sub Oh,Wan Jae Park,Young Je UM,Myoung Sub Noh,Jun Taek Koo. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2023-05-11.

Substrate treating apparatus

Номер патента: US20220134390A1. Автор: Takahiro Yamaguchi,Jun SAWASHIMA. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2022-05-05.

Substrate treating apparatus and substrate transporting method

Номер патента: US11260429B2. Автор: Koji Kaneyama,Joji KUWAHARA. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2022-03-01.

Substrate treating apparatus and substrate transporting method

Номер патента: US20230166301A1. Автор: Koji Kaneyama,Joji KUWAHARA. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2023-06-01.

Substrate treating apparatus

Номер патента: US20180207652A1. Автор: Yukihiko Inagaki. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2018-07-26.

Substrate treating apparatus

Номер патента: US20170053817A1. Автор: Yukihiko Inagaki. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-02-23.

Substrate treating apparatus

Номер патента: US9956565B2. Автор: Yukihiko Inagaki. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2018-05-01.

Substrate treating apparatus

Номер патента: US11823929B2. Автор: Hiroyuki Kawahara,Noriyuki Kikumoto,Yuzo Uchida. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-21.

Focus ring and substrate treating apparatus comprising the same

Номер патента: US20210027995A1. Автор: Sang-Kee Lee,Dongmok LEE. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2021-01-28.

Substrate treating apparatus, drive assembly, and drive member controlling method

Номер патента: US20150117987A1. Автор: Jin Ho Choi,Ju Mi YOO. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2015-04-30.

Substrate treating method and substrate treating apparatus

Номер патента: US20190295865A1. Автор: Yuta Sasaki,Yosuke Hanawa. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2019-09-26.

Substrate treating apparatus

Номер патента: US20220068698A1. Автор: Ji Hoon Jeong,Jee Young Lee,Young Dae Chung,Won-Geun Kim,Tae Shin Kim. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2022-03-03.

Discharging device and substrate treating apparatus including the same

Номер патента: US20240131532A1. Автор: Jong Han Kim,Ji Ho Kim,Ho Kyung KANG,Jin Uk SONG,Rae Taek OH,Kwang Sung SON. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-25.

Substrate treating apparatus and cleaning nozzle used therein

Номер патента: US20230271228A1. Автор: Geun Sik Yoon. Владелец: KCTech Co Ltd. Дата публикации: 2023-08-31.

Substrate treating device and substrate treating method

Номер патента: US20180090346A1. Автор: Shinji Sugioka. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2018-03-29.

Substrate treating apparatus

Номер патента: US11521881B2. Автор: Takuya Sato,Yuichi Takayama,Hiromichi KABA,Kazuhiko Nakazawa,Toshihito MORIOKA. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2022-12-06.

Substrate treating apparatus

Номер патента: US20230089805A1. Автор: Takuya Sato,Yuichi Takayama,Hiromichi KABA,Kazuhiko Nakazawa,Toshihito MORIOKA. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2023-03-23.

Substrate treating apparatus

Номер патента: US20240105482A1. Автор: Ichiro Mitsuyoshi. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-28.

Substrate treating apparatus

Номер патента: US20240066715A1. Автор: Tadashi Maegawa. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-29.

Substrate treating apparatus

Номер патента: US20210090927A1. Автор: Takuya Sato,Yuichi Takayama,Hiromichi KABA,Kazuhiko Nakazawa,Toshihito MORIOKA. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2021-03-25.

Substrate treating apparatus

Номер патента: US20240222155A1. Автор: Nam Kyu Kim,Jae Hyun Lim,Jae Hoon Park,Kyung Jin Seo,Young Ju Jo,Young Seo AN,Seo Jung PARK,Dae Myeong LEE. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-04.

Substrate treating apparatus and substrate treating method

Номер патента: US20230207349A1. Автор: Young Ho Park,Kwang Sup Kim,Sang Hyeon RYU,Seung Un OH,Shin Hwa KANG. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2023-06-29.

Substrate treating apparatus and substrate treating method

Номер патента: US20240279792A1. Автор: Hirofumi Tonai. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-22.

Cleaning jig, substrate treating apparatus including the same, cleaning method of substrate treating apparatus

Номер патента: US12055866B2. Автор: Chang Suk Oh,Sang Eun Noh,Kisang Eum. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-06.

Substrate treating apparatus

Номер патента: US12083563B2. Автор: Takuya Sato,Yuichi Takayama,Hiromichi KABA,Kazuhiko Nakazawa,Toshihito MORIOKA. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-10.

Buffer chamber, substrate treating apparatus and substrate treating method

Номер патента: US20230415191A1. Автор: Young Jin Jang,Jun Young Choi,Young Hun Lee,Gui Su PARK,Jun Hyun LIM. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-28.

Substrate treating apparatus and substrate treating method

Номер патента: US20230166285A1. Автор: Yoon Seok Choi,Young Dae Chung,Se Hoon Oh,Soon-Cheon Cho,Yun Sang Kim. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2023-06-01.

Substrate treating apparatus and substrate treating method

Номер патента: US12000036B2. Автор: Hirofumi Tonai. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-04.

Substrate treating apparatus

Номер патента: US20240216965A1. Автор: Nam Kyu Kim,Jae Hyun Lim,Jae Hoon Park,Kyung Jin Seo,Young Ju Jo,Young Seo AN,Seo Jung PARK,Dae Myeong LEE. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-04.

Liquid supply unit and substrate treating apparatus and method

Номер патента: US11794219B2. Автор: Seung Hwan Cho,Buyoung JUNG,Seungtae YANG. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-24.

Substrate treating apparatus and substrate transporting method

Номер патента: US11850623B2. Автор: Takuya Sato,Yuichi Takayama,Noriyuki Kikumoto,Hiromichi KABA,Kazuhiko Nakazawa,Toshihito MORIOKA. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-26.

Substrate treating apparatus

Номер патента: US20240030047A1. Автор: Tadashi Maegawa. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-25.

Plasma treating apparatus, plasma treating method and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US7074720B2. Автор: Hiroshi Haji,Kiyoshi Arita,Shoji Sakemi,Tetsuhiro Iwai. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 2006-07-11.

Unit for supplying substrate treating liquid and apparatus for treating substrate including the same

Номер патента: US12119241B2. Автор: Dae Sung Kim,Ji Hyeon KIM,Soo Hong Lee,Dong Hwa Lee,Dai Geon Yoon. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-15.

Substrate treating system

Номер патента: US20130079914A1. Автор: Hideki Shibata. Владелец: Individual. Дата публикации: 2013-03-28.

Flow resistance generating unit and substrate treating apparatus including the same

Номер патента: US20230113184A1. Автор: KORIAKIN ANTON,Jae Seong Lee,Min Woo Kim,Joon Ho WON,Eung Su Kim,Jae Won Shin,Hae Won Choi,Pil Kyun HEO,Hyung Seok Kang,Jin Yeong SUNG. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2023-04-13.

Substrate treating apparatus and substrate treating method

Номер патента: US12083551B2. Автор: Sang Min Lee,Ki Bong Kim,Woo Jin Chung. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-10.

SUBSTRATE SUPPORT APPARATUS, SUBSTRATE TREATING SYSTEM INCLUDING THE SAME, AND SUBSTRATE TREATING METHOD

Номер патента: US20180122660A1. Автор: KIM Jae-Youl,Kim Seongsu,SEO Jong Seok. Владелец: . Дата публикации: 2018-05-03.

Substrate treating apparatus and method of treating substrate

Номер патента: US09852921B2. Автор: Hyosan Lee,Kuntack Lee,Mihyun PARK,Young-Hoo Kim,Kyoung Hwan Kim,Jung-min Oh,Ingi KIM,Ui-soon PARK. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2017-12-26.

Plasma treating apparatus, substrate treating method, and method of manufacturing a semiconductor device

Номер патента: US20160049312A1. Автор: Sunyoung Lee,Han Ki LEE,Sungho Kang,Jaehee Lee,Geunkyu CHOI. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2016-02-18.

Substrate processing method and substrate processing device

Номер патента: EP4421850A1. Автор: Takayoshi Tanaka,Tomoya Tanaka,Masayuki Otsuji,Akihisa Iwasaki,Ryuta Tsukahara. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-28.

Substrate treating method and apparatus

Номер патента: US20030017665A1. Автор: Satoshi Yamamoto,Kenji Sugimoto,Takashi Nagao,Kaoru Aoki,Masakazu Sanada,Osamu Tamada,Mitsumasa Kodama,Tsuyoshi Mitsuhashi,Minobu Matsunaga,Katsushi Yoshioka,Moritaka Yano. Владелец: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd. Дата публикации: 2003-01-23.

Antenna units, substrate treating apparatuses including the same, and substrate treating methods using the apparatuses

Номер патента: US09496121B2. Автор: Hyung Joon Kim,Hyung Je Woo. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2016-11-15.

Substrate treating method and substrate treating apparatus

Номер патента: US20240258098A1. Автор: Wataru Yano,Takayuki Nishida. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-01.

Substrate treating method and substrate treating apparatus

Номер патента: EP4407663A1. Автор: Wataru Yano,Takayuki Nishida. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-31.

Substrate treating method and treatment liquid

Номер патента: US20240339317A1. Автор: Yuta Sasaki,Shogo Kunieda. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-10.

Baffle and substrate treating apparatuses including the same

Номер патента: US09514919B2. Автор: Seung-Kook Yang,Jung-Hyun Kang. Владелец: PSK Inc. Дата публикации: 2016-12-06.

Substrate treating apparatus and substrate treating method using the same

Номер патента: US20240087856A1. Автор: Youngsun Kim,Sunggil Kang,Jiwon SON,Kangmin Do,Younghoo KIM,Sangjin AN. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-03-14.

Substrate treating method and substrate treating apparatus

Номер патента: US20240170297A1. Автор: Yosuke Hanawa,Dai Ueda,Akiko Harumoto. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-23.

Substrate treating apparatus and substrate treating method

Номер патента: US20230207248A1. Автор: Yoon Jong JU,Min Sung HAN,Seong Gil Lee,Dong Sub Oh,Wan Jae Park,Young Je UM,Myoung Sub Noh. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2023-06-29.

Apparatus and method for treating substrate

Номер патента: US20200075355A1. Автор: Oh Jin Kwon,Chong-Min Ryu,Young Ho Choo. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2020-03-05.

Substrate treating method, temporary fixing composition and semiconductor device

Номер патента: US20130285217A1. Автор: Hiroyuki Ishii,Katsumi Inomata,Seiichirou Takahashi,Torahiko YAMAGUCHI. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2013-10-31.

Circuit pattern of resistance heating elements and substrate-treating apparatus incorporating the pattern

Номер патента: CA2381597C. Автор: Masuhiro Natsuhara,Masashi Narita,Hirohiko Nakata,Akira Kuibira. Владелец: Sumitomo Electric Industries Ltd. Дата публикации: 2004-08-17.

Plasma treating apparatus and plasma treating method

Номер патента: US5690050A. Автор: Hiroshi Doi. Владелец: Anelva Corp. Дата публикации: 1997-11-25.

Substrate treating apparatus and substrate treating method

Номер патента: US12138670B2. Автор: Junyoung Choi,Jong Doo Lee. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-11-12.

Apparatus and method for treating substrate

Номер патента: US20240216940A1. Автор: Eun Jung Lee,Young Jin Jang,Jun Young Choi,Gui Su PARK,Jun Hyun LIM. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-04.

Substrate treating apparatus and substrate treating method

Номер патента: US10153181B2. Автор: Katsuya Okumura,Soichi Nadahara,Hiroaki Kitagawa,Yuta Sasaki,Yosuke Hanawa,Dai Ueda. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2018-12-11.

Multi-story substrate treating apparatus with flexible transport mechanisms and vertically divided treating units

Номер патента: US09687874B2. Автор: Hiroyuki Ogura,Kenya Morinishi,Tsuyoshi Mitsuhashi,Yoshiteru Fukutomi,Yasuo Kawamatsu,Hiromichi Nagashima. Владелец: Screen Semiconductor Solutions Co Ltd. Дата публикации: 2017-06-27.

Substrate treating apparatus, method for measuring discharge amount by using the same, and substrate treating method

Номер патента: US20180185886A1. Автор: Raetaek Oh,Jaeyong Kim,TaekYoub LEE. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2018-07-05.

Discharging device and substrate treating apparatus including the same

Номер патента: US20240226920A9. Автор: Jong Han Kim,Ji Ho Kim,Ho Kyung KANG,Jin Uk SONG,Rae Taek OH,Kwang Sung SON. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-11.

Substrate treating method

Номер патента: US11927886B2. Автор: Joon Jae LEE,Doo Young Oh. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-12.

Substrate treating apparatus and substrate treating method

Номер патента: US20220067905A1. Автор: Jihyun Lee,Soo Yeon Shin,Chang Yul Cho,Ohyeol Kwon. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2022-03-03.

Substrate treating apparatus and substrate treating method

Номер патента: US20230005784A1. Автор: Gwang Min BU,Sun June KIM. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2023-01-05.

Substrate treating apparatus and substrate treating method

Номер патента: US20190025700A1. Автор: Joon Jae LEE,Doo Young Oh. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2019-01-24.

Substrate treating apparatus and substrate transfer robot

Номер патента: US20220367221A1. Автор: Jin Woo JUNG,Yong Hee Lee,Mi So PARK,Do Hyeon YOON. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2022-11-17.

Substrate treating apparatus, substrate treating system, and substrate treating method

Номер патента: EP4231337A1. Автор: Shinji Shimizu. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2023-08-23.

Substrate treating apparatus, substrate treating system, and substrate treating method

Номер патента: US20230267603A1. Автор: Shinji Shimizu. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2023-08-24.

Liquid supply unit, substrate treating apparatus, and method for removing bubbles

Номер патента: US20180185795A1. Автор: Young Jin Jang,Youngjun Choi,Jin Tack YU,Byungsun BANG,Jonghan Kim. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2018-07-05.

Substrate treating apparatus, substrate treating system, and substrate treating method

Номер патента: US20230256463A1. Автор: Shinji Shimizu,Akihiro MINOGUCHI. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2023-08-17.

Substrate treating apparatus, substrate treating system, and substrate treating method

Номер патента: EP4227983A1. Автор: Shinji Shimizu,Akihiro MINOGUCHI. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2023-08-16.

Liquid supply unit and substrate treating apparatus including same

Номер патента: US20240157391A1. Автор: Chang Suk Oh,Sung Jin BANG. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-16.

Substrate treating apparatus

Номер патента: US10651062B2. Автор: Yuji Tanaka,Yasuhiro Fukumoto,Tomohiro Matsuo,Takeharu Ishii. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2020-05-12.

Substrate treating method

Номер патента: US20220307130A1. Автор: Yuta Sasaki,Shogo Kunieda. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2022-09-29.

Substrate treating method

Номер патента: US20180052394A1. Автор: Chikara Sagae,Masanori IMAMURA. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2018-02-22.

Waste liquid treating apparatus

Номер патента: US20210024373A1. Автор: Masaru Saito,Tadaomi Matsumoto. Владелец: Disco Corp. Дата публикации: 2021-01-28.

Chemical treating apparatus

Номер патента: US20030141314A1. Автор: Shigehiro Goto,Minobu Matsunaga,Katsushi Yoshioka. Владелец: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd. Дата публикации: 2003-07-31.

Substrate heat-treating apparatus using laser light-emitting device

Номер патента: US20240100629A1. Автор: Tae Hyeong Kim,Hyoung June Kim,Wang Jun Park,Ju Mi LEE,Byung Kuk KIM,Byeong Gyu Jeong. Владелец: Viatron Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-28.

Substrate treating apparatus and substrate treating method

Номер патента: US12125682B2. Автор: Ja Myung GU,Shant ARAKELYAN. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-22.

Wireless power apparatus for substrates treating apparatus and manufacturing method of wireless power apparatus for substrate treating apparatus

Номер патента: US20240146103A1. Автор: Ki Won Han,Hee Chan Kim,Sang-Oh Kim,Wan Hee JEONG,Chan Young Choi,Hee Jae Byun,Kyo Bong KIM,Doo Hyun Baek. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-02.

Substrate treating apparatus and substrate treating method

Номер патента: US12094706B2. Автор: Myung Chan CHO. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-17.

Substrate treating apparatus and substrate treating method

Номер патента: US09748117B2. Автор: Sungun Kim,UnKyu KANG. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2017-08-29.

Substrate treating apparatus and substrate treating method

Номер патента: US20220390848A1. Автор: Tae Hee Kim,Ki Hoon Choi,Young Dae Chung,Se Hoon Oh,Young Eun JEON. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2022-12-08.

Substrate treating apparatus, and a substrate transporting method therefor

Номер патента: US20090162172A1. Автор: Yukiteru MIYAMOTO. Владелец: Individual. Дата публикации: 2009-06-25.

Unit and method for cooling, and apparatus and method for treating substrate

Номер патента: US09945570B2. Автор: Seong-Wook Lee,Seung-Kook Yang,Dae-hee SON. Владелец: PSK Inc. Дата публикации: 2018-04-17.

Substrate treating apparatus and chemical recycling method

Номер патента: US09892939B2. Автор: Byung Chul Kang,Jaeryung RYU,Dong Soon HWANG. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2018-02-13.

Filter unit, substrate treating apparatus including the same, and substrate treating method

Номер патента: US12125678B2. Автор: Hyo Seong SEONG,Jong Hwan AN,Byeung Geon JEON,Ogsen Galstyan. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-22.

Substrate treating apparatus and substrate transporting method

Номер патента: US20240334759A1. Автор: Koji Kaneyama,Joji KUWAHARA. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-03.

Substrate treating apparatus and substrate transporting method

Номер патента: US20240373683A1. Автор: Koji Kaneyama,Joji KUWAHARA. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-11-07.

Substrate treating apparatus and substrate transporting method

Номер патента: US20240334758A1. Автор: Koji Kaneyama,Joji KUWAHARA. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-03.

Apparatus and method for treating substrate

Номер патента: US20200211874A1. Автор: Sung Yong Lee,Tae Sub Lee,Sangbok HAN,Donghyuk SEO. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2020-07-02.

Substrate treating method and substrate treating apparatus

Номер патента: US12094705B2. Автор: Jin Woo JUNG,Myung Seok Cha. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-17.

Substrate treating apparatus

Номер патента: US09748118B2. Автор: Jung-Bong Choi,Yu-Hwan KIM,Ho-Jong HWANG. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2017-08-29.

Substrate treating apparatus

Номер патента: US20240145263A1. Автор: Seung Hoon Oh,Ki Bong Kim,Jin Se PARK,Mi So PARK,Young Hun Lee,Yong Sun Ko,Jong Doo Lee. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-02.

Substrate treating apparatus

Номер патента: US09570333B2. Автор: Hideki Shibata,Ichiro Mitsuyoshi,Tomoyasu FURUTA. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-02-14.

Substrate treating apparatus

Номер патента: US11756813B2. Автор: In Kyu Park,Yong Seok JANG. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-12.

Substrate treating method and apparatus used therefor

Номер патента: US20200272055A1. Автор: Yuji Tanaka,Yasuhiro Fukumoto,Tomohiro Matsuo,Takeharu Ishii. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2020-08-27.

Substrate treating apparatus, drive assembly, and drive member controlling method

Номер патента: US09915261B2. Автор: Jin Ho Choi,Ju Mi YOO. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2018-03-13.

Substrate treating apparatus and substrate treating method using the same

Номер патента: US20230072728A1. Автор: Jae Seong Lee,Hae Won Choi,Jung Suk GOH. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2023-03-09.

Substrate treating apparatus and substrate treating method

Номер патента: US11791179B2. Автор: Bu Yong Chang. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-17.

Heating unit and substrate treating apparatus including the same

Номер патента: US20230197474A1. Автор: Hye Ji KIM,Dong Min CHOI. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2023-06-22.

Substrate treating apparatus

Номер патента: EP4350749A1. Автор: Ichiro Mitsuyoshi. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-10.

Substrate treating apparatus

Номер патента: US09627236B2. Автор: Sang Jin Lee,Ji Hoon Choi,Doo Jin Kim. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2017-04-18.

Substrate treating apparatus and semiconductor manufacturing equipment including the same

Номер патента: US20240203773A1. Автор: Jong Seok SEO. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-20.

Substrate treating apparatus and substrate treating system including the same

Номер патента: US20240203761A1. Автор: Eun Jung Lee,Young Jin Jang,Jun Young Choi,Gui Su PARK,Hee Jun YOUN. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-20.

Substrate treating apparatus and substrate treating method

Номер патента: US20220406571A1. Автор: Yoon Seok Choi,Soon-Cheon Cho,Yun Sang Kim. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2022-12-22.

Apparatus and method for treating substrate

Номер патента: US20240170304A1. Автор: Sang Min Lee,Ki-Moon Kang,Hyo Won Yang,Ho Jong Hwang,Won Sik SON,Se Hoon Oh,Hyun Goo PARK. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-23.

Substrate treating apparatus and substrate treating method

Номер патента: US20200098602A1. Автор: Yukihiko Inagaki,Seiji Murai,Joji KUWAHARA. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2020-03-26.

Substrate treating apparatus

Номер патента: US20240142171A1. Автор: Seung Hoon Oh,Jin Se PARK,Young Hun Lee,Yong Joon Im,Yong Sun Ko,Ji Hyeong Lee. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-02.

Substrate treating apparatus

Номер патента: EP4343824A1. Автор: Ichiro Mitsuyoshi. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-27.

Gate valve and substrate-treating apparatus including the same

Номер патента: US20070044720A1. Автор: Klaus Hügler. Владелец: ASYS Automatic Systems GmbH and Co KG. Дата публикации: 2007-03-01.

Substrate treating apparatus and substrate treating method

Номер патента: US20240030057A1. Автор: Youngjun SON. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-25.

Apparatus and method for diagnosing semiconductor equipment

Номер патента: US20230196078A1. Автор: DONG Hyun Jun. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2023-06-22.

Filter unit, substrate treating apparatus including the same, and substrate treating method

Номер патента: US20200373125A1. Автор: Hyo Seong SEONG,Jong Hwan AN,Byeung Geon JEON,Ogsen Galstyan. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2020-11-26.

Apparatus and method for treating substrate based on defect values of transfer paths

Номер патента: US11809158B2. Автор: Youngje Um,Tae Woong SEO,Taerim LEE. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-07.

Substrate treating apparatus and semiconductor manufacturing equipment including the same

Номер патента: US20240222156A1. Автор: Jong Seok SEO,Sun Sup LIM. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-04.

Substrate treating apparatus and chemical recycling method

Номер патента: US20130104943A1. Автор: Byung Chul Kang,Jaeryung RYU,Dong Soon HWANG. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2013-05-02.

Substrate treating apparatus

Номер патента: US20240222165A1. Автор: Min Hee Cho,Ju Mi LEE,Chun Woo Park,Gyeong Won SONG,Byung Hwi KIM,Hee Man AHN. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-04.

Heat-treating method, heat-treating apparatus, and storage medium

Номер патента: US20240347354A1. Автор: Soichiro Okada,Shinichiro KAWAKAMI,Satoru Shimura,Ryouichirou Naitou,Tomoya ONITSUKA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-17.

Substrate treating apparatus and method for controlling temperature of ferrite core

Номер патента: US11823874B2. Автор: Hyun-Jin Kim,Jong-Hwan An,Young-Bin Kim,Junpyo LEE,Ogsen Galstyan,Goon Ho PARK. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-21.

Substrate treating apparatus

Номер патента: US11810795B2. Автор: Kenji Kobayashi,Takahiro Yamaguchi,Jun SAWASHIMA. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-07.

Substrate treating apparatus

Номер патента: US20230343563A1. Автор: Jung Hoon Park,Sung Min Choi,Min Sung Jeon,Soon-Cheon Cho,Yun Sang Kim,Jin Hee Hong. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-26.

Substrate treating apparatus and substrate transfer apparatus

Номер патента: US20210020485A1. Автор: Soo Young Park,Jung Hwan Lee,Ohyeol Kwon. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2021-01-21.

Substrate treating apparatus and substrate transporting method

Номер патента: US12035576B2. Автор: Koji Kaneyama,Joji KUWAHARA. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-09.

Substrate treating apparatus

Номер патента: US20240096673A1. Автор: Takashi Izuta. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-21.

Substrate treating apparatus

Номер патента: EP4343822A1. Автор: Takashi Izuta. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-27.

Substrate treating apparatus

Номер патента: EP4345867A1. Автор: Shinichi Taniguchi,Akihiro Iwasaki,Kenji Amahisa. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-03.

Substrate treating apparatus

Номер патента: US20240105486A1. Автор: Shinichi Taniguchi,Akihiro Iwasaki,Kenji Amahisa. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-28.

Substrate Treating Apparatus

Номер патента: US20100157261A1. Автор: Jin Sung Kim,Jin Suk Kim,Min Ho Choi,Sang-Geun Lee,Hweon Jin,Se-Hwi CHO. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2010-06-24.

Substrate treating apparatus

Номер патента: US20240105483A1. Автор: Ichiro Mitsuyoshi. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-28.

Substrate treating apparatus

Номер патента: EP4297073A1. Автор: Tadashi Maegawa. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-27.

Substrate treating apparatus

Номер патента: US20230420280A1. Автор: Tadashi Maegawa. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-28.

Magnetic memory device, method for manufacturing the same, and substrate treating apparatus

Номер патента: US20200091412A1. Автор: Jeong-Heon Park,Hyun Cho,Ung Hwan Pi,Yong Sung Park,JoonMyoung LEE. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2020-03-19.

Substrate treating apparatus

Номер патента: US11837438B2. Автор: Jung Hwan Lee,Seung Pyo LEE. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-05.

Substrate treating apparatus

Номер патента: US11049749B2. Автор: Masafumi Maeda,Masaki Nishida. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2021-06-29.

Substrate treating apparatus

Номер патента: US20240105484A1. Автор: Ichiro Mitsuyoshi. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-28.

Substrate treating apparatus

Номер патента: US20190295863A1. Автор: Yukihiko Inagaki. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2019-09-26.

Substrate treating device and substrate treating method

Номер патента: US20170256423A1. Автор: Yuji Nagashima,Yuki Saito,Takashi Ootagaki,Konosuke Hayashi. Владелец: Shibaura Mechatronics Corp. Дата публикации: 2017-09-07.

Substrate treating apparatus

Номер патента: US20200098610A1. Автор: Masafumi Maeda,Masaki Nishida. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2020-03-26.

Substrate treating apparatus

Номер патента: US20240203783A1. Автор: Jong Seok SEO,Sun Sup LIM. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-20.

Substrate treatment apparatus and substrate treatment method

Номер патента: US09934958B2. Автор: Katsuhiro Sato,Junichi Igarashi. Владелец: Toshiba Memory Corp. Дата публикации: 2018-04-03.

Substrate treating system and substrate transporting method

Номер патента: US12014940B2. Автор: Joji KUWAHARA. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-18.

Apparatus and method for treating substrate

Номер патента: US20110226626A1. Автор: Jeong-Woo Park,Ju-Il Choi,Uihyoung LEE,Jae-hyun PHEE. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2011-09-22.

Sensor station, data acquisition method and substrate treating system

Номер патента: US20230100373A1. Автор: Jae Hong Kim,Su Jin Chae,Sang Hyun Son,Yong-jun Seo,Dong Ok AHN. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2023-03-30.

Substrate treating apparatus and substrate treating method

Номер патента: US20240212999A1. Автор: Yong Seok JANG,Sung Hyuk Jung. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-27.

Substrate treating apparatus and substrate treating method

Номер патента: US20240153135A1. Автор: Yong Seok JANG,Ho Hun LEE. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-09.

Apparatus and method for treating substrate

Номер патента: US20210013008A1. Автор: Seungbae Lee,Jun Pyo Hong,Ki Yung Lee. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2021-01-14.

Substrate treating apparatus and treatment gas supplying nozzle

Номер патента: US10214814B2. Автор: Atsushi Tanaka,Yasuhiro Fukumoto,Koji Nishi,Shigehiro Goto,Toru MOMMA,Kenichiro JO. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2019-02-26.

Esc temperature control unit and substrate treating apparatus including the same

Номер патента: US20240055241A1. Автор: Byeong Hyeon Kong. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-15.

Substrate treating apparatus and substrate treating method

Номер патента: US11977332B2. Автор: Anton Koriakin,Hae-Won Choi,Kihoon Choi,Jeong Ho Cho,Hong Gi MIN,Youngran KO,Yerim Yeon,Hyungseok Kang. Владелец: Sungkyunkwan University Research and Business Foundation. Дата публикации: 2024-05-07.

Substrate treating apparatus and method

Номер патента: EP4394079A1. Автор: Xiang Li,WEIMING Li,Peng Zhang,Xinyuan Wu,Yunsong WANG,Baochen LIAO. Владелец: Jiangsu Leadmicro Nano Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-03.

Mask treating apparatus and mask treating method

Номер патента: US20180173091A1. Автор: Yunsong Jeong,Hyunseok UHM,SunPyo LEE. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2018-06-21.

Substrate treating method, temporary fixing composition and semiconductor device

Номер патента: US8889557B2. Автор: Hiroyuki Ishii,Katsumi Inomata,Seiichirou Takahashi,Torahiko YAMAGUCHI. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2014-11-18.

Semiconductor substrate treatment agent and substrate-treating method

Номер патента: US20190264035A1. Автор: Yoshio Takimoto,Shun Aoki,Yuushi Matsumura,Tomohiro Matsuki,Kang-go Chung. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2019-08-29.

Substrate treating method and treatment liquid

Номер патента: US20240218302A1. Автор: Yuta Sasaki,Yosuke Hanawa,Shogo Kunieda. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-04.

Substrate treating solution, and using the same, method for manufacturing substrate and method for manufacturing device

Номер патента: EP4308673A1. Автор: Takashi Sekito,Tatsuro Nagahara. Владелец: Merck Patent GmBH. Дата публикации: 2024-01-24.

Mask treating apparatus and mask treating method

Номер патента: US20200192214A1. Автор: Yunsong Jeong,Hyunseok UHM,SunPyo LEE. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2020-06-18.

Substrate treating solution, and using the same, method for manufacturing substrate and method for manufacturing device

Номер патента: US20240166947A1. Автор: Takashi Sekito,Tatsuro Nagahara. Владелец: Merck Electronics Ltd. Дата публикации: 2024-05-23.

Mask treating apparatus

Номер патента: US10613432B2. Автор: Yunsong Jeong,Hyunseok UHM,SunPyo LEE. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2020-04-07.

Mask treating method

Номер патента: US11454879B2. Автор: Yunsong Jeong,Hyunseok UHM,SunPyo LEE. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2022-09-27.

Substrate treating apparatus and exhaust method thereof

Номер патента: US20190293353A1. Автор: Yasuhiro Shiba,Bingxi Liu. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2019-09-26.

Substrate treating apparatus and method of treating substrate

Номер патента: US20120309179A1. Автор: Hidenori Miyamoto,Tsutomu Sahoda. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2012-12-06.

Heating unit and substrate treating apparatus including the same

Номер патента: US20230268203A1. Автор: Seung Han Lee,Dongwoon PARK,Jong Seok SEO,Jin Taek Oh. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2023-08-24.

Apparatus and method for treating a substrate

Номер патента: US9793476B2. Автор: Ju Hwan Park,Dong Ho Ryu,Byung Chul Cho. Владелец: Wonik Ips Co Ltd. Дата публикации: 2017-10-17.

Transferring unit, substrate treating apparatus including the same, and substrate treating method

Номер патента: US12004268B2. Автор: Ji-hwan Lee. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-04.

Method of treating substrates and substrate treated using said method

Номер патента: RU2459312C2. Автор: Казуя САЙТО,Сусуму САКИО,Хидео ТАКЕИ,Казухиро ВАТАНАБЕ,Синсуке ИГУТИ,Хироюки ЯМАКАВА,Кюзоу НАКАМУРА,Юй-хсынь ЛИНЬ,Хуан-чун ЧАН,Тун-Цзюн У. Владелец: Улвак, Инк.. Дата публикации: 2012-08-20.

Substrate treating method

Номер патента: US20240162033A1. Автор: Yuta Sasaki. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-16.

Substrate treating liquid

Номер патента: US20200411307A1. Автор: Yuta Sasaki. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2020-12-31.

Substrate heat-treating apparatus using laser light-emitting device

Номер патента: US20240071787A1. Автор: OH Sung Kwon,Tae Hyeong Kim,Hyoung June Kim,Wang Jun Park,Byung Kuk KIM,Byeong Gyu Jeong. Владелец: Viatron Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-29.

Processing waste liquid treating apparatus

Номер патента: SG155129A1. Автор: Miki Yoshida,Takeshi Furonaka. Владелец: Disco Corp. Дата публикации: 2009-09-30.

Apparatus and method of converting ultraviolet radiation into electrical energy

Номер патента: RU2714838C1. Автор: Дмитрий Семенович Стребков,Николай Юрьевич Бобовников. Владелец: Федеральное государственное бюджетное научное учреждение "Федеральный научный агроинженерный центр ВИМ" (ФГБНУ ФНАЦ ВИМ). Дата публикации: 2020-02-19.

Power phase module of alternate current conversion apparatus, alternate current conversion apparatus and vehicle

Номер патента: RU2749392C1. Автор: Адриан ЛАУДАН,Штефан ЛАГГЕР,Роланд ШМИД,Райнхард РАЙХЕЛЬТ,Клаус ШВИХТЕНБЕРГ. Владелец: БОМБАРДИР ТРАНСПОРТАЦИОН ГМБХ. Дата публикации: 2021-06-09.

Substrate treating apparatus, substrate treating method, and method for manufacturing high-voltage device

Номер патента: US8012772B2. Автор: Akira Ishii,Satoshi Koide,Yasushi Iseki. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2011-09-06.

Substrate treating apparatus, substrate treating method, and method for manufacturing high-voltage device

Номер патента: US20090163107A1. Автор: Akira Ishii,Satoshi Koide,Yasushi Iseki. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2009-06-25.

Substrate treating apparatus and substrate treating method

Номер патента: US20180202045A1. Автор: Sung Gu JI. Владелец: PSK Inc. Дата публикации: 2018-07-19.

Adjustable capacitor, plasma impedance matching device, plasma impedance matching method, and substrate treating apparatus

Номер патента: US09715996B2. Автор: Dukhyun Son. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2017-07-25.

Control panel and clothes treating apparatus having the same

Номер патента: US09777421B2. Автор: Youngbae Park,Jihun Kim,Jonghwa Kim,Daekwon LEE,Suyoung YOON. Владелец: LG ELECTRONICS INC. Дата публикации: 2017-10-03.

Support unit, substrate treating apparatus including the same, and method for treating a substrate

Номер патента: US10153137B2. Автор: Sun Wook Jung,Seok Won HWANG,Kisang Eum. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2018-12-11.

枚葉式基板処理装置及び方法

Вам могут быть интересны следующие патенты