氮化镓材料层表面粗化的方法
Номер патента: CN104425666B
Опубликовано: 15-02-2019
Автор(ы): 刘哲, 夏晓翔, 李俊杰, 杨海方, 顾长志
Принадлежит: Institute of Physics of CAS
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 15-02-2019
Автор(ы): 刘哲, 夏晓翔, 李俊杰, 杨海方, 顾长志
Принадлежит: Institute of Physics of CAS
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Method of manufacturing a gallium nitride substrate
Номер патента: US20180112330A1. Автор: Young-soo Park,Jun-Youn Kim,Young-jo Tak,Mi-Hyun Kim,Sam-Mook KANG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2018-04-26.