METAL ASSISTED CHEMICAL ETCHING FOR FABRICATING HIGH ASPECT RATIO AND STRAIGHT SILICON NANOPILLAR ARRAYS FOR SORTING APPLICATIONS
Номер патента: US20200016596A1
Опубликовано: 16-01-2020
Автор(ы): HU HUAN, Smith Joshua T., Stolovitzky Gustavo A., Wunsch Benjamin H.
Принадлежит:
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 16-01-2020
Автор(ы): HU HUAN, Smith Joshua T., Stolovitzky Gustavo A., Wunsch Benjamin H.
Принадлежит:
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Metal assisted chemical etching for fabricating high aspect ratio and straight silicon nanopillar arrays for sorting applications
Номер патента: US20200016595A1. Автор: Huan Hu,Joshua T. Smith,Benjamin H. Wunsch,Gustavo A. Stolovitzky. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2020-01-16.